• 研究課題をさがす
  • 研究者をさがす
  • KAKENの使い方
  1. 前のページに戻る

Naフラックス法によるデバイス用低歪み・自立窒化ガリウム基板作製技術の研究開発

研究課題

研究課題/領域番号 17J00465
研究種目

特別研究員奨励費

配分区分補助金
応募区分国内
研究分野 電子・電気材料工学
研究機関大阪大学

研究代表者

山田 拓海  大阪大学, 工学系研究科, 特別研究員(DC1)

研究期間 (年度) 2017-04-26 – 2020-03-31
研究課題ステータス 完了 (2019年度)
配分額 *注記
2,800千円 (直接経費: 2,800千円)
2019年度: 900千円 (直接経費: 900千円)
2018年度: 900千円 (直接経費: 900千円)
2017年度: 1,000千円 (直接経費: 1,000千円)
キーワード窒化ガリウム / Naフラックス / 液相成長 / サファイア溶解 / ナトリウムフラックス法 / 低反り / 大口径
研究実績の概要

当初予定していたキラー欠陥の抑制に関しては、近年開発されたFFC法を用いることによって抑制可能であることが明らかになりつつあるため、本年度では計画を変更しマルチポイントシード(MPS)法における低反り化のメカニズムの解明及びサファイア溶解法におけるLi不純物に関して調査を行った。本研究では、MPS法のみではサファイアを自然剥離できないパターンのMPS基板を用いてサファイア溶解法を行うと、比較的歪みを有している種結晶でも成長後の反りが小さくなっていることが明らかになった。当該知見より、MPS基板を用いることで、低反り化しているのは、種結晶の歪みが低減しているからだけではなく、MPSの成長の様式が効いていると考えられる。以上のように、これまで明らかになっていなかったMPSの低反りメカニズムを明らかにするとともに、口径2インチ、曲率半径40m以上の結晶の作製に成功した。また、昨年度に引き続き、サファイア溶解中に結晶内に取り込まれるLi不純物の挙動に関して調査を行った。本年度ではHVPE法を用いて再成長を行うことで、再成長層へLiが拡散するかどうか調査を行った。結果としてHVPE法を用いても再成長層へのLi拡散は観察されず、Li含有基板を種結晶としたGaN結晶成長では、Liが存在しないGaN結晶の成長が可能であることが明らかになった。この知見は種結晶として用いるGaN基板のスペックとして、Li不純物は問題ないということを示している。
以上のように、本年度は研究課題である大口径窒化ガリウム結晶の低歪化(低反り化)に成功するとともに、サファイア溶解法で発生したLiが結晶内に取り込まれてしまうという問題も種結晶として使用する際は問題にならないということを明らかにした。本年度ではこれらの成果を国際会議で発表し、当該内容をまとめることで計2報の学術論文を出版した。

現在までの達成度 (段落)

令和元年度が最終年度であるため、記入しない。

今後の研究の推進方策

令和元年度が最終年度であるため、記入しない。

報告書

(3件)
  • 2019 実績報告書
  • 2018 実績報告書
  • 2017 実績報告書
  • 研究成果

    (15件)

すべて 2020 2019 2018 2017 その他

すべて 雑誌論文 (2件) (うち査読あり 2件) 学会発表 (11件) (うち国際学会 3件) 備考 (2件)

  • [雑誌論文] Influence of GaN/sapphire contact area on bowing of GaN wafer grown by the Na-flux method with a sapphire dissolution process2020

    • 著者名/発表者名
      Yamada Takumi、Imanishi Masayuki、Murakami Kosuke、Nakamura Kosuke、Yoshimura Masashi、Mori Yusuke
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 59 号: 2 ページ: 025505-025505

    • DOI

      10.35848/1347-4065/ab699b

    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Fabrication of a 1.5-inch freestanding GaN substrate by selective dissolution of sapphire using Li after the Na-flux growth2020

    • 著者名/発表者名
      Yamada Takumi、Imanishi Masayuki、Murakami Kosuke、Nakamura Kosuke、Yoshimura Masashi、Mori Yusuke
    • 雑誌名

      Journal of Crystal Growth

      巻: 533 ページ: 125462-125462

    • DOI

      10.1016/j.jcrysgro.2019.125462

    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 査読あり
  • [学会発表] Regrowth of Li-free layer on GaN substrate produced by the Na-flux-sapphire-dissolution technique2020

    • 著者名/発表者名
      T. Yamada, M. Imanishi, K. Murakami, K. Nakamura, M. Yoshimura, and Y. Mori
    • 学会等名
      Conference on LED and its industrial application'20
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
  • [学会発表] Selective sapphire dissolution technique without dissolving GaN in a Na flux added Li2019

    • 著者名/発表者名
      Takumi Yamada, Masayuki Imanishi, Kosuke Murakami, Kosuke Nakamura, Masashi Yoshimura, and Yusuke Mori
    • 学会等名
      19th International Conference on Crystal Growth and Epitaxy
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
  • [学会発表] Naフラックスサファイア溶解法における 溶液Li濃度とGaN結晶中Li濃度の関係2019

    • 著者名/発表者名
      山田 拓海, 今西 正幸, 村上 航介, 中村 幸介, 吉村 政志, 森 勇介
    • 学会等名
      第66回応用物理学会春季学術講演会
    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
  • [学会発表] Reduction of Li impurity in the freestanding GaN substrate fabricated using the sapphire dissolution technique in the Na-flux growth2018

    • 著者名/発表者名
      Takumi Yamada, Masayuki Imanishi, Kosuke Murakami, Kosuke Nakamura, Mamoru Imade, Masashi Yoshimura, and Yusuke Mori
    • 学会等名
      Conference on LED and its industrial application '18
    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Reduction of Li impurity in the Freestanding GaN Substrate Fabricated by the Na-Flux Sapphire Dissolution Technique2018

    • 著者名/発表者名
      T. Yamada, M. Imanishi, K. Murakami, K. Nakamura, M. Yoshimura, and Y. Mori
    • 学会等名
      International Symposium on Growth of Ⅲ-Nitrides
    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Naフラックスサファイア溶解法における 大口径・低反りGaN結晶の作製2018

    • 著者名/発表者名
      山田 拓海, 今西 正幸, 村上 航介, 中村 幸介, 吉村 政志, 森 勇介
    • 学会等名
      第79回応用物理学会秋季学術講演会
    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
  • [学会発表] Fabrication of large-diameter GaN substrate with low curvature using the sapphire dissolution technique in the Na-flux growth2018

    • 著者名/発表者名
      T. Yamada*, M. Imanishi, K. Murakami, K. Nakamura, M. Yoshimura, and Y. Mori
    • 学会等名
      International Workshop on Nitride semiconductors
    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Naフラックスサファイア溶解法における再成長を用いたGaN結晶中Li不純物の低減2018

    • 著者名/発表者名
      山田 拓海, 今西 正幸, 村上 航介, 中村 幸介,今出 完, 吉村 政志, 森 勇介
    • 学会等名
      第65回応用物理学会秋季学術講演会
    • 関連する報告書
      2017 実績報告書
  • [学会発表] Naフラックスサファイア溶解法においてポイントシード面積がGaN結晶反りに与える影響2017

    • 著者名/発表者名
      山田 拓海, 村上 航介, 中村 幸介, 北村 智子, 垣之内 啓介, 奥村 加奈子, 今西 正幸, 今出 完, 吉村 政志, 森 勇介
    • 学会等名
      第78回応用物理学会秋季学術講演会
    • 関連する報告書
      2017 実績報告書
  • [学会発表] Influence of Sapphire thickness on GaN wafer bowing grown by the Na-flux method with sapphire dissolution process2017

    • 著者名/発表者名
      Takumi Yamada, Kosuke Murakami, Kosuke Nakamura, Tomoko Kitamura, Keisuke Kakinouchi, Kanako Okumura, Masayuki Imanishi, Mamoru Imade, Masashi Yoshimura, and Yusuke Mori
    • 学会等名
      The 36th Electronic Materials Symposium
    • 関連する報告書
      2017 実績報告書
  • [学会発表] Influence of GaN template thickness on GaN wafer bowing grown by the Na-flux method with sapphire dissolution process2017

    • 著者名/発表者名
      T. Yamada, K. Murakami, K. Nakamura, H. Imabayashi, M. Honjo, K. Kakinouchi, T. Kitamura, K. Harimiya, M. Imanishi, M. Imade, M. Yoshimura, and Y. Mori
    • 学会等名
      The 12th International Conference on Nitride Semiconductors
    • 関連する報告書
      2017 実績報告書
  • [備考] 大阪大学 森勇介研究室 HP

    • URL

      http://crystal.pwr.eng.osaka-u.ac.jp/

    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
  • [備考] 阪大 森研究室 ホームページ

    • URL

      http://crystal.pwr.eng.osaka-u.ac.jp/news/index.html#02

    • 関連する報告書
      2018 実績報告書

URL: 

公開日: 2017-05-25   更新日: 2024-03-26  

サービス概要 検索マニュアル よくある質問 お知らせ 利用規程 科研費による研究の帰属

Powered by NII kakenhi