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マイクロ波熱処理を利用してバンドギャップを持つリップル・グラフェンの形成技術開発

研究課題

研究課題/領域番号 17J04947
研究種目

特別研究員奨励費

配分区分補助金
応募区分国内
研究分野 電子・電気材料工学
研究機関東北大学

研究代表者

金 觀洙  東北大学, 電気通信研究所, 特別研究員(PD)

研究期間 (年度) 2017-04-26 – 2019-03-31
研究課題ステータス 完了 (2018年度)
配分額 *注記
1,700千円 (直接経費: 1,700千円)
2018年度: 1,040千円 (直接経費: 800千円、間接経費: 240千円)
2017年度: 900千円 (直接経費: 900千円)
キーワードグラフェン / マイクロ波 / FET / マイクロ波熱処理 / リップル・グラフェン / バンドギャップ
研究実績の概要

本研究の目標はマイクロ波熱処理を利用してバンドギャップを持つリップル・グラフェンの形成技術を開発することにある。本年度はマイクロ波熱処理を利用した高性能のエピタキシャルグラフェントランジスタ(EG-FET)を製作するプロセスを開発して、マイクロ波熱処理を施したゲート絶縁膜の物理的、化学的特性と、EG-FETの電気的特性を評価した。その結果、ラマン分光と原子間力顕微鏡(AFM)では、マイクロ波熱処理によりグラフェンに欠陥及びドーピングが発生せずに均一にゲート絶縁膜形成が可能であることを見出した。X線光電子分光(X-ray Photoelectron Spectroscopy:XPS)分析では、マイクロ波熱処理によって溶液技法Al2O3の中に存在する溶媒が効果的に除去され、その結果、Al-O結合が改善されることを確認した。また、マイクロ波熱処理を施した溶液法Al2O3幕の電気的特性を確認したところ、高出力、長時間の熱処理によってリーク電流が低減し誘電特性が改善されることを確認した。最終的にEG-FETを製作し、電気的特性を評価した。自然酸化されたAl膜を持っているFETの電気伝導度は0.4 μS/mmであるのに対し、マイクロ波熱処理をした溶液処理Al2O3膜を持っているFETでは電気伝導度が約10倍改善された。この電気伝導度の上昇はマイクロ波熱処理をした溶液処理薄膜形成技術の導入によるグラフェンと絶縁膜の間の界面特性改善によるものと理解される。
以上、本研究ではマイクロ波熱処理を利用して簡単に高品質の絶縁膜形成とFETの製作が可能であることを物理的、化学的に証明することに成功した。しかし、従来のグラフェンFETより小さい移動度特性を示す問題点を確認した。これは最適化されていないゲート電極を形成するプロセスによるものと考えられる。

現在までの達成度 (段落)

平成30年度が最終年度であるため、記入しない。

今後の研究の推進方策

平成30年度が最終年度であるため、記入しない。

報告書

(2件)
  • 2018 実績報告書
  • 2017 実績報告書
  • 研究成果

    (6件)

すべて 2019 2018 2017

すべて 雑誌論文 (2件) (うち国際共著 1件、 査読あり 1件、 オープンアクセス 1件) 学会発表 (4件) (うち国際学会 3件)

  • [雑誌論文] Direct Formation of Solution-based Al2O3 on Epitaxial Graphene Surface for Sensor Applications2019

    • 著者名/発表者名
      Kwan-Soo Kim, Hirokazu Fukidome, Maki Suemitsu
    • 雑誌名

      Sensor and materials

      巻: 31

    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
  • [雑誌論文] A table-top formation of bilayer quasi-free-standing epitaxialgraphene on SiC(0001) by microwave annealing in air2018

    • 著者名/発表者名
      Kwan-Soo Kim, Goon-Ho Park, Hirokazu Fukidome, Someya Takashi, Iimori Takushi, Komori Fumio, Matsuda Iwao, Maki Suemitsu
    • 雑誌名

      Carbon

      巻: 130 ページ: 792-798

    • DOI

      10.1016/j.carbon.2018.01.074

    • 関連する報告書
      2017 実績報告書
    • 査読あり / オープンアクセス / 国際共著
  • [学会発表] Epitaxial graphene growth in Ar/H2 ambient2019

    • 著者名/発表者名
      Kwan-Soo Kim, Hirokazu Fukidome, Maki Suemitsu
    • 学会等名
      Graphene 2018
    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Growth of high quality epitaxial graphene by modified hydrogen annealing2018

    • 著者名/発表者名
      Kwan-Soo Kim, Hirokazu Fukidome, Maki Suemitsu
    • 学会等名
      第65回応用物理学会春季講演会
    • 関連する報告書
      2017 実績報告書
  • [学会発表] Formation of Quasi-Free-standing Epitaxial Graphene on SiC(0001) by Microwave Annealing2017

    • 著者名/発表者名
      Kwan-Soo Kim, Goon-Ho Park, Hirokazu Fukidome, Maki Suemitsu
    • 学会等名
      Carbon2017
    • 関連する報告書
      2017 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Simple formation of quasi-free-standing epitaxial graphene (QFSEG) using microwave annealing2017

    • 著者名/発表者名
      Kwan-Soo Kim, Goon-Ho Park, Hirokazu Fukidome, Someya Takashi, Iimori Takushi, Komori Fumio, Matsuda Iwao, Maki Suemitsu
    • 学会等名
      ISEG-2017
    • 関連する報告書
      2017 実績報告書
    • 国際学会

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公開日: 2017-05-25   更新日: 2024-03-26  

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