| 研究課題/領域番号 |
17K05011
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
ナノ材料工学
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| 研究機関 | 国立研究開発法人情報通信研究機構 |
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研究代表者 |
田中 秀吉 国立研究開発法人情報通信研究機構, 未来ICT研究所企画室, 室長 (40284608)
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| 研究分担者 |
鈴木 仁 広島大学, 先端物質科学研究科, 准教授 (60359099)
富成 征弘 国立研究開発法人情報通信研究機構, 未来ICT研究所フロンティア創造総合研究室, 研究員 (90560003)
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| 研究期間 (年度) |
2017-04-01 – 2020-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2019年度)
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| 配分額 *注記 |
4,810千円 (直接経費: 3,700千円、間接経費: 1,110千円)
2019年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円)
2018年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円)
2017年度: 1,950千円 (直接経費: 1,500千円、間接経費: 450千円)
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| キーワード | ナノカーボン / CVD / SPM / 基板上反応 / ファインプロセス / ナノ材料 / 走査プローブ顕微鏡 / グラフェンナノ構造 |
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| 研究成果の概要 |
コンフォメーション制御されたグラフェンデバイス構造を基板上の特定位置に精密に作り込む手法を開拓するために、微細加工された触媒金属薄膜構造がCVDプロセスのテンプレートとして機能することを実験的に検証した。デバイス基本構造を模した触媒機能を有する銅薄膜からなるテンプレートを絶縁性基板上に作成し、CVDプロセスによってテンプレート上に選択的にグラフェンシートを形成させることに成功した。さらに、有機分子の自己組織化構造を前駆体として基板上重合反応を制御することによって、テンプレート上に形成されるグラフェンシートのコンフォメーションが制御可能であることを示唆する結果を得た。
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| 研究成果の学術的意義や社会的意義 |
グラフェンは極めて豊かな物理現象を示す魅力的な物質系であるとともに、ポストシリコン材料の有力候補としても期待されており、基礎、応用の両面において大きな可能性と新規性を有する。機械・化学的にも極めて安定であり、デバイス作成に必要となる一連の微細加工技術の確立により産業界に大きなブレークスルーがもたらされることは間違いない。本研究により開発されたテンプレーティングCVD法によればコンフォメーション制御されたグラフェンデバイス構造を基板上の特定位置に精密に作り込むことが可能となることから、産業界におけるグラフェンの活用が大きく前進すると期待される。
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