| 研究課題/領域番号 |
17K05021
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
ナノマイクロシステム
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| 研究機関 | 東京電機大学 |
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研究代表者 |
堀内 敏行 東京電機大学, 工学部, 研究員 (00297582)
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| 研究期間 (年度) |
2017-04-01 – 2020-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2019年度)
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| 配分額 *注記 |
4,810千円 (直接経費: 3,700千円、間接経費: 1,110千円)
2019年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
2018年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円)
2017年度: 2,080千円 (直接経費: 1,600千円、間接経費: 480千円)
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| キーワード | 光リソグラフィ / マイクロレンズアレイ / レンチキュラーレンズ / 投影露光 / デフォーカス / 厚膜レジスト / 側壁制御 / 大パターン / マイクロレンズ / レンズアレイ / デフォーカス制御 / リソグラフィ / 2画面切り替え / レジスト / 断面形状制御 / デフォーカス投影露光 |
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| 研究成果の概要 |
石英基板上の厚膜レジストに対し、50μmラインアンドスペース(L&S)パターンをぼかし露光し、蒲鉾型に密接したパターンを形成してレンチキュラーレンズアレイに応用する研究を行った。りんごの絵の上に50μmL&Sレチクルを重ね、その上に前記レンチキュラーレンズアレイを置いた結果、視点により、りんごの絵と黒一色画面が切り替わった。次に、ドットパターンをぼかし露光して凹面レジストパターンを形成し、エポキシ樹脂を流し込んでマイクロ凸レンズアレイを作る研究を行った。ピッチ 47.4μmで約2mm角の範囲に密接して製作でき、平行光束を入れると、レンズ形状から推測した位置付近に光スポットアレイを形成できた。
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| 研究成果の学術的意義や社会的意義 |
学術的には、従来半導体集積回路やマイクロ電気機械システム(MEMS)等のnm～μm寸法の超微細パターンを超平坦なウエハ上に塗布したnm～subμm厚さの薄膜レジストを用いて形成する技術として使われていた光リソグラフィを、デフォーカス投影露光という特徴的な方策を中心とする大パターン用厚膜レジストリソグラフィに転用し、10～100μm寸法のレンズアレイ形成に適用できることを示したことに大きな意義がある。社会的には、実証した短ピッチレンチキュラーレンズは2画像切り替えや立体写真の高精細化に利用てき、凸レンズアレイは計測用や樹脂硬化用に光スポットを多点同時形成に応用できる点で有意義である。
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