| 研究課題/領域番号 |
17K05060
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
薄膜・表面界面物性
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| 研究機関 | 横浜市立大学 |
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研究代表者 |
横山 崇 横浜市立大学, 理学部, 教授 (80343862)
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| 研究分担者 |
田中 彰治 分子科学研究所, 安全衛生管理室, 特任研究員 (20192635)
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| 研究期間 (年度) |
2017-04-01 – 2020-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2019年度)
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| 配分額 *注記 |
4,810千円 (直接経費: 3,700千円、間接経費: 1,110千円)
2019年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
2018年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円)
2017年度: 2,080千円 (直接経費: 1,600千円、間接経費: 480千円)
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| キーワード | 分子ダイオード / 走査型トンネル顕微鏡 / ドナーアクセプター接合 / トンネル分光 / 分子ワイヤ / ドナー・アクセプター / ナノコンタクト / 表面・界面物性 / 単一分子計測 |
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| 研究成果の概要 |
本研究では、(1)分子ワイヤを基板表面へ蒸着するエレクトロスプレー蒸着法の確立、(2)表面吸着した分子ダイオードの構造・電子状態計測(STM/STS)、(3)分子内に量子構造が組み込まれた分子ワイヤの精密合成に分類して進めた。特に、(2)に関してはドナー性分子とアクセプター性分子を基板上で積層させ、分子ダイオードを実現することができた。
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| 研究成果の学術的意義や社会的意義 |
シリコン半導体に基づくエレクトロニクスの高速化・高集積化の進歩は、現在飽和にさしかかり始めており、機能性分子を利用した素子の開発が今後必要となる。分子ダイオードはその必須要素となる。本研究はその基礎研究であり、ドナー性分子とアクセプター性分子を単一分子レベルで積層させることでダイオード特性を示すことを明らかにした。この研究をさらに深め、このメカニズムをさらに深く明らかにすることで、分子ダイオードの本格的な実現が期待できる。
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