| 研究課題/領域番号 |
17K05102
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
プラズマエレクトロニクス
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| 研究機関 | 佐世保工業高等専門学校 |
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研究代表者 |
大島 多美子 佐世保工業高等専門学校, 電気電子工学科, 准教授 (00370049)
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| 研究期間 (年度) |
2017-04-01 – 2020-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2019年度)
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| 配分額 *注記 |
4,810千円 (直接経費: 3,700千円、間接経費: 1,110千円)
2019年度: 650千円 (直接経費: 500千円、間接経費: 150千円)
2018年度: 780千円 (直接経費: 600千円、間接経費: 180千円)
2017年度: 3,380千円 (直接経費: 2,600千円、間接経費: 780千円)
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| キーワード | 粉体ターゲット / スパッタリング / 混合粉体 / 透明導電膜 / 透明導電薄膜 / 粒子径 / 混合量 / 粉体 / 薄膜 |
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| 研究成果の概要 |
ターゲットに粉体を用いた粉体スパッタリング成膜を提案し、ZnOにAl2O3またはGa2O3を混合した混合粉体による透明導電薄膜の作製に関する研究を行った。その結果、(1)安定して薄膜の作製が可能なスパッタリング条件の最適化を行った。(2)様々な混合比の混合粉体による薄膜作製とその評価を行うことにより透明導電薄膜の作製に適した混合粉体と成膜条件の検証を行った。(3)同一条件で連続成膜した薄膜の再現性について粉体スパッタリング成膜の課題を見出した。
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| 研究成果の学術的意義や社会的意義 |
粉体ターゲットのスパッタリング成膜を行い、スパッタリング条件の最適化、混合粉体ターゲットの作製方法、混合粉体ターゲットの混合比と堆積膜との関係、再現性の課題などに関して知見を得ることができた。これによって、粉体スパッタリング成膜は、従来の固体ターゲットでは作製が困難な低融点材料や高コストな多元素複合材料を安価で容易且つスピーディに薄膜化する手法として、新材料の開発に貢献できることが期待される。
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