| 研究課題/領域番号 |
17K05851
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
機能物性化学
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| 研究機関 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
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研究代表者 |
吉川 佳広 国立研究開発法人産業技術総合研究所, エレクトロニクス・製造領域, 主任研究員 (30373294)
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| 研究分担者 |
則包 恭央 国立研究開発法人産業技術総合研究所, エレクトロニクス・製造領域, 研究グループ長 (50425740)
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| 研究期間 (年度) |
2017-04-01 – 2020-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2019年度)
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| 配分額 *注記 |
4,810千円 (直接経費: 3,700千円、間接経費: 1,110千円)
2019年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
2018年度: 1,820千円 (直接経費: 1,400千円、間接経費: 420千円)
2017年度: 1,820千円 (直接経費: 1,400千円、間接経費: 420千円)
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| キーワード | 分子リソグラフィー / 二次元構造 / 分子間相互作用 / 自己組織化 / 走査型プローブ顕微鏡 / 走査型トンネル顕微鏡 / リソグラフィー / 刺激応答性分子 |
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| 研究成果の概要 |
様々な分子間相互作用を利用して、機能性有機分子を規則的に基板上に配置し、その二次元構造を走査型プローブ顕微鏡によって分子レベルで明らかにした。また、外部刺激（光、錯体形成）によって、形成された二次元構造を変化させることが可能であることを実証した。特に、光解離性官能基を有する新規化合物を合成し、光照射によって分子内の特定部位の脱離およびそれに伴う形態的変化を誘起することが可能となった。
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| 研究成果の学術的意義や社会的意義 |
フォトリソグラフィーに代表されるトップダウン手法は、微細加工サイズの縮小化が限界に到達しつつある。そのために、加工サイズの限界を突破できる新しい技術の開発が期待されている。本研究では、ボトムアップ手法の自己組織化によって有機分子を規則的に基板上に配列させ、マスクとなり得る金属錯体分子の配置、および光刺激による表面形態の制御を行った。本手法は、シングルナノスケールのリソグラフィー技術への応用が期待される。
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