| 研究課題/領域番号 |
17K18769
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| 研究種目 |
挑戦的研究(萌芽)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 研究分野 |
プラズマ学およびその関連分野
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| 研究機関 | 京都工芸繊維大学 |
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研究代表者 |
比村 治彦 京都工芸繊維大学, 電気電子工学系, 教授 (30311632)
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| 研究分担者 |
蓮池 紀幸 京都工芸繊維大学, 電気電子工学系, 助教 (40452370)
三瓶 明希夫 京都工芸繊維大学, 電気電子工学系, 准教授 (90379066)
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| 研究期間 (年度) |
2017-06-30 – 2020-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2019年度)
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| 配分額 *注記 |
6,240千円 (直接経費: 4,800千円、間接経費: 1,440千円)
2019年度: 650千円 (直接経費: 500千円、間接経費: 150千円)
2018年度: 1,820千円 (直接経費: 1,400千円、間接経費: 420千円)
2017年度: 3,770千円 (直接経費: 2,900千円、間接経費: 870千円)
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| キーワード | 負イオンナノドライプロセス / 負イオンドライプロセス / 酸素アニオンラジカル / 酸化力 / 酸化物プロセス / 酸素負イオンプラズマ / 特定粒子種別プロセス / プラズマ科学 / プラズマエレクトロニクス / 酸素負イオン / 原子層 |
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| 研究成果の概要 |
本研究は制御性の悪いダイレクトプラズマを用いるナノプロセス方式から、制御性がよくエネルギーが揃えられた反応性負イオン方式への転換を目的として行われたものである。この新しい方式の原理を実験的に検証するための装置が独自のシミュレーションに基づいて設計・製作された。その装置の平面型プラズマ生成室において、酸素負イオン生成するための電磁場配位と電子温度の空間分布が実現された。エネルギーを揃えるためのビーム引き出しパラメーター値がシミュレーションで確立された。また、原子層堆積（ALD）膜を生成する実験に必要な装置運転モードが実験的に確立された。これらにより、原子層堆積膜生成の検証実験準備が完了した。
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| 研究成果の学術的意義や社会的意義 |
IoTデバイス等に用いられる最先端半導体デバイスの製造過程において、微細化と複雑化が進んできている。加工寸法の微細化により得られる恩恵は、1チップ当たりのトランジスタの高集積化・高性能化、チップの低消費電力化・低コスト化などが挙げられる。この微細化による半導体デバイス高性能化により、例えばスマートフォンやPCの高性能化、データサーバーの小型化や大容量化、ビッグデータ解析を背景とした人工知能の普及など、日常生活における利便性の更なる向上が期待できる。微細加工を可能にするため、原子層プロセスが用いられている。本研究により、このための新方式の開発をスタートできたことが最大の学術的・社会的意義である。
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