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高移動度を有するナノポーラス半導体単結晶膜の作製技術の開発

研究課題

研究課題/領域番号 17K18988
研究種目

挑戦的研究(萌芽)

配分区分基金
研究分野 材料工学およびその関連分野
研究機関京都大学

研究代表者

三宅 正男  京都大学, エネルギー科学研究科, 准教授 (60361648)

研究分担者 平藤 哲司  京都大学, エネルギー科学研究科, 教授 (70208833)
池之上 卓己  京都大学, エネルギー科学研究科, 助教 (00633538)
研究期間 (年度) 2017-06-30 – 2019-03-31
研究課題ステータス 完了 (2018年度)
配分額 *注記
6,500千円 (直接経費: 5,000千円、間接経費: 1,500千円)
2018年度: 2,990千円 (直接経費: 2,300千円、間接経費: 690千円)
2017年度: 3,510千円 (直接経費: 2,700千円、間接経費: 810千円)
キーワードポーラス材料 / エピタキシャル成長 / エピタキシー
研究成果の概要

ナノポーラス半導体の新しい形成法として、ポーラス構造のテンプレート内に、半導体をエピタキシャル成長させるプロセスを確立した。単結晶基板上に形成した三次元ナノポーラス構造をもつポリマー層を通して、水溶液から酸化物半導体 (ZnO) をエピタキシャル成長させることに成功した。エピタキシャル成長後、ポリマー層を除去することで、ナノポーラス構造をもつ単結晶 ZnO を得ることができた。このナノポーラス単結晶 ZnO は、従来の多結晶からなるポーラス ZnO よりも欠陥密度が低いため、優れた電気的特性を示す可能性がある。

研究成果の学術的意義や社会的意義

ナノポーラス材料は、様々な機能を発揮するポテンシャルを秘めた新素材として注目され、活発に研究開発が行われている。太陽電池や熱電素子などの電気エネルギーを利用する用途にポーラス材料を応用するためには、多孔質化した半導体が、優れた電気特性を有することが必要である。しかし、従来のポーラス材料の形成法では、ポーラス体を構成する物質が、多結晶体またはアモルファスのものしか得られず、欠陥を多く含むため、電気的特性が良いものは得られない。これに対し、本研究では、エピタキシャル成長を利用することで、欠陥の少ないナノポーラス半導体を得るプロセスを確立した。

報告書

(3件)
  • 2018 実績報告書   研究成果報告書 ( PDF )
  • 2017 実施状況報告書
  • 研究成果

    (5件)

すべて 2019 2018

すべて 雑誌論文 (1件) (うち査読あり 1件) 学会発表 (4件)

  • [雑誌論文] Growth and Electrical Properties of Epitaxial ZnO Films Prepared by Chemical Bath Deposition Using a Flow Reactor2018

    • 著者名/発表者名
      Miyake Masao, Yamamoto Ken, Ikenoue Takumi, Hirato Tetsuji
    • 雑誌名

      MATERIALS TRANSACTIONS

      巻: 59 号: 11 ページ: 1761-1766

    • DOI

      10.2320/matertrans.M2018173

    • NAID

      120006596523

    • ISSN
      1345-9678, 1347-5320
    • 年月日
      2018-11-01
    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 査読あり
  • [学会発表] ミスト CVD 法による二酸化モリブデンのエピタキシャル成長2019

    • 著者名/発表者名
      股村雄也,池之上卓己,三宅正男,平藤哲司
    • 学会等名
      表面技術協会 第 139 回講演大会
    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
  • [学会発表] ミスト CVD 法による c面 Al2O3 基板への Ni1-XMgXO 薄膜のエピタキシャル成長とバンドギャップ制御2019

    • 著者名/発表者名
      米谷怜, 池之上卓己, 三宅正男, 平藤哲司
    • 学会等名
      第 66 回 応用物理学会 春季学術講演会
    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
  • [学会発表] ミスト CVD 法を用いた VO2 薄膜のエピタキシャル成長2019

    • 著者名/発表者名
      木村信, 池之上卓己, 三宅正男, 平藤哲司
    • 学会等名
      第 66 回 応用物理学会 春季学術講演会
    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
  • [学会発表] ミスト CVD 法による MoO2 薄膜成長2018

    • 著者名/発表者名
      股村雄也, 三宅正男, 池之上卓己, 平藤哲司
    • 学会等名
      第 20 回関西表面技術フォーラム
    • 関連する報告書
      2018 実績報告書

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公開日: 2017-07-21   更新日: 2020-03-30  

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