酸化膜で囲まれたシリセン －電気特性評価による高品質化とトランジスタへの応用

• 研究課題/領域番号: 17KK0125
• 研究種目: 国際共同研究加速基金(国際共同研究強化)
• 配分区分: 基金
• 研究分野: ナノ材料工学
• 研究機関: 日本大学 (2023); 東北大学 (2017-2022)
• 研究代表者: 小川 修一 日本大学, 生産工学部, 准教授 (00579203)
• 研究期間 (年度): 2018 – 2023
• 研究課題ステータス: 完了 (2023年度)
• 配分額: 13,910千円 (直接経費: 10,700千円、間接経費: 3,210千円)
• キーワード: Si熱酸化 / 二次元層状物質 / グラフェン / リアルタイム光電子分光 / 界面酸化 / 点欠陥 / 酸化自己停止 / 熱酸化プロセス / シリセン / 光電子顕微鏡 / 酸化反応自己停止 / 電気・電子材料 / 電子・電気材料

研究実績の概要

ケイ素（Si）原子1層の層状物質であるシリセンはトポロジカル絶縁体であることが予想されており、次世代の高速・省エネデバイスへの活用が期待される。基課題では、熱酸化プロセスにおける酸化反応自己停止を用いることで、酸化膜で囲まれたシリセン（シリセンインオキサイド：SIO）を作製することを目指している。本研究ではSIO構造の高品質化を目的として、Siウェハ酸化メカニズムの解明と電気特性測定結果をもとにした界面欠陥評価方法の開発を行う。開発した評価方法を用いて得た欠陥の情報をSIO構造作製プロセスにフィードバックし、界面欠陥の少ないSIO作製プロセスの開発を目指すことを目的とする。新型コロナウイルス感染拡大に伴う研究期間の延長を含め、6年間の研究期間において以下の成果を得た。
1)SOI基板を加熱しながら光電子分光測定を行えるようにするために必要な加熱システムを開発し、SPring-8のBL23SUに設置された表面化学反応分析装置に取り付けを行った。本システムによりSiウェハ酸化過程の研究が進展した。
2)試作したGr/hBN積層構造のバンドオフセットを測定し、グラフェン積層によりh-BNのフェルミ準位がバンドギャップ中央に移動することを明らかにした。
3)Siウェハの熱酸化時に生成される点欠陥にSiウェハのキャリアがトラップされることによって点欠陥が化学的に活性となり、SiO2/Si界面での反応が促進されることを明らかにした。本研究によれば、高品質SOI構造作製のためにはキャリア密度の少ないSIO基板の利用が有用であると予測される。

研究成果

• [国際共同研究] National University of Singapore(シンガポール) (2019)
  • 年月日: 2019-07-29
• [国際共同研究] National University of Singapore(シンガポール) (2018)
  • 年月日: 2018-11-28
• [雑誌論文] Work function lowering of LaB6 by monolayer hexagonal boron nitride coating for improved photo- and thermionic-cathodes (2023)
  • 著者名/発表者名: Hisato Yamaguchi , Ryunosuke Yusa , Gaoxue Wang , Michael T. Pettes , Fangze Liu , Yasutaka Tsuda , Akitaka Yoshigoe , Tadashi Abukawa , Nathan A. Moody , Shuichi Ogawa
  • 雑誌名: Applied Physics Letters 巻: 122 号: 14 ページ: 141901-141901
  • DOI: 10.1063/5.0142591
  • 査読あり / 国際共著
• [雑誌論文] Observation of Chemisorbed O₂ Molecule at SiO₂/Si(001) Interface During Si Dry Oxidation (2022)
  • 著者名/発表者名: Yasutaka Tsuda, Akitaka Yoshigoe, Shuichi Ogawa, Tetsuya Sakamoto and Yuji Takakuwa
  • 雑誌名: e-Journal of Surface Science and Nanotechnology 巻: 21 号: 1 ページ: 30-39
  • DOI: 10.1380/ejssnt.2023-005
  • ISSN: 1348-0391
  • 年月日: 2022-11-05
  • 査読あり / オープンアクセス
• [雑誌論文] 光電子分光法によるナノ炭素材料の電子状態／ 化学状態評価 (2022)
  • 著者名/発表者名: Ogawa Shuichi
  • 雑誌名: Journal of Surface Analysis 巻: 29 号: 2 ページ: 82-89
  • DOI: 10.1384/jsa.29.82
  • ISSN: 1341-1756, 1347-8400
  • 査読あり / オープンアクセス
• [雑誌論文] 単層CVDグラフェンの酸素ガスバリア特性 (2022)
  • 著者名/発表者名: Yamada Takatoshi、Ogawa Shuichi
  • 雑誌名: 膜 巻: 47 号: 2 ページ: 92-97
  • DOI: 10.5360/membrane.47.92
  • ISSN: 0385-1036, 1884-6440
  • 査読あり
• [雑誌論文] Quantitative Evaluation of Doped Potassium Concentrations in Stacked Tow-Layer Graphene using X-Ray Photoelectron Spectroscopy (2022)
  • 著者名/発表者名: Shuichi Ogawa, Yasutaka Tsuda, Tetsuya Sakamoto, Yuki Okigawa, Tomoaki Masuzawa, Akitaka Yoshigoe, Tadashi Abukawa, Takatoshi Yamada
  • 雑誌名: Applied Surface Science 巻: 605 ページ: 154748-154748
  • DOI: 10.1016/j.apsusc.2022.154748
  • 査読あり
• [雑誌論文] Roles of excess minority carrier recombination and chemisorbed O2 species at SiO2/Si interfaces in Si dry oxidation: Comparison between p-Si(001) and n-Si(001) surfaces (2022)
  • 著者名/発表者名: Yasutaka Tsuda, Akitaka Yoshigoe, Shuichi Ogawa, Tetsuya Sakamoto, Yoshiki Yamamoto, Yukio Yamamoto, Yuji Takakuwa
  • 雑誌名: Journal of Chemical Physics. 巻: 1257 号: 23 ページ: 234705-234705
  • DOI: 10.1063/5.0109558
  • 査読あり
• [雑誌論文] 遷移金属表面の酸化過程のリアルタイム光電子分光観察 (2021)
  • 著者名/発表者名: OGAWA Shuichi、ZHANG Bingruo、YOSHIGOE Akitaka、TAKAKUWA Yuji
  • 雑誌名: 表面と真空 巻: 64 号: 5 ページ: 218-223
  • DOI: 10.1380/vss.64.218
  • NAID: 130008036890
  • ISSN: 2433-5835, 2433-5843
  • 年月日: 2021-05-10
  • 査読あり / オープンアクセス
• [雑誌論文] Synthesis of Chloroauric Acid from Gold Electrodes in Alkali Halide Salt Solution by AC Electrolysis and the Sequential Formation of Gold Nanoparticles by Turkevich Method (2021)
  • 著者名/発表者名: Kei Oya, Kei Aoshika, Masaki Ageishi, Hideyuki Magara, Shuichi Ogawa, Yuji Takakuwa, and Tomohide Takami
  • 雑誌名: Chemistry Letters 巻: 50 号: 1 ページ: 191-194
  • DOI: 10.1246/cl.200554
  • NAID: 130007966026
  • 査読あり / オープンアクセス
• [雑誌論文] Two-step model for reduction reaction of ultrathin nickel oxide by hydrogen (2021)
  • 著者名/発表者名: Ogawa Shuichi、Taga Ryo、Yoshigoe Akitaka、Takakuwa Yuji
  • 雑誌名: Journal of Vacuum Science & Technology A 巻: 39 号: 4 ページ: 043207-043207
  • DOI: 10.1116/6.0001056
  • 査読あり
• [雑誌論文] Synthesis and characterization of potassium-doped multilayer graphene prepared by wet process using potassium hydroxide (2021)
  • 著者名/発表者名: Masuzawa Tomoaki、Okigawa Yuki、Ogawa Shuichi、Takakuwa Yuji、Hatakeyama Kazuto、Yamada Takatoshi
  • 雑誌名: Nano Express 巻: 2 号: 3 ページ: 030004-030004
  • DOI: 10.1088/2632-959x/ac1454
  • 査読あり / オープンアクセス
• [雑誌論文] 高運動エネルギーO2分子に対するグラフェンのガスバリア性 (2021)
  • 著者名/発表者名: 小川修一, Hisato Yamaguchi , Edward F. Holby , 山田貴壽 , 吉越章隆 , 高桑雄二
  • 雑誌名: SPring-8/SACLA利用者情報 巻: 26 ページ: 251-255
  • 査読あり / オープンアクセス / 国際共著
• [雑誌論文] Gas barrier properties of chemical vapor-deposited graphene to oxygen imparted with sub-electronvolt kinetic energy (2020)
  • 著者名/発表者名: S. Ogawa, H. Yamaguchi, E. F. Holby, T. Yamada, A. Yoshigoe, Y. Takakuwa
  • 雑誌名: The Journal of Physical Chemistry Letters 巻: 11 号: 21 ページ: 9159-9164
  • DOI: 10.1021/acs.jpclett.0c02112
  • 査読あり / 国際共著
• [雑誌論文] Roles of strain and carrier in silicon oxidation (2020)
  • 著者名/発表者名: Ogawa Shuichi、YOSHIGOE Akitaka、Tang Jiayi、Sekihata Yuki、Takakuwa Yuji
  • 雑誌名: Japanese Journal of Applied Physics 巻: 59 号: SM ページ: SM0801-SM0801
  • DOI: 10.35848/1347-4065/ab82a9
  • 査読あり / オープンアクセス
• [雑誌論文] 光電子分光法によるSi表面酸化プロセス反応速度と酸化誘起歪みの同時観察 (2019)
  • 著者名/発表者名: OGAWA Shuichi、YOSHIGOE Akitaka、TAKAKUWA Yuji
  • 雑誌名: 表面と真空 巻: 62 号: 6 ページ: 350-355
  • DOI: 10.1380/vss.62.350
  • NAID: 130007662229
  • ISSN: 2433-5835, 2433-5843
  • 年月日: 2019-06-10
  • 査読あり / オープンアクセス
• [雑誌論文] Flattening of copper surfaces with a low energy xenon-ion source generated by photoemission-assisted plasma (2019)
  • 著者名/発表者名: Ajia Saijian、Ogawa Shuichi、Kamata Nobuhisa、Takakuwa Yuji
  • 雑誌名: Japanese Journal of Applied Physics 巻: 58 号: 9 ページ: 090911-090911
  • DOI: 10.7567/1347-4065/ab3878
  • NAID: 210000156888
  • 査読あり
• [雑誌論文] Band alignment determination of bulk h-BN and graphene/h-BN laminates using photoelectron emission microscopy (2019)
  • 著者名/発表者名: Ogawa Shuichi、Yamada Takatoshi、Kadowaki Ryo、Taniguchi Takashi、Abukawa Tadashi、Takakuwa Yuji
  • 雑誌名: Journal of Applied Physics 巻: 125 号: 14 ページ: 144303-144303
  • DOI: 10.1063/1.5093430
  • 査読あり / オープンアクセス
• [雑誌論文] Interfacial oxidation kinetics at SiO2/Si(001) mediated by the generation of point defects: Effect of raising O2 pressure (2018)
  • 著者名/発表者名: Ogawa Shuichi、Takakuwa Yuji
  • 雑誌名: AIP Advances 巻: 8 号: 7 ページ: 075119-075119
  • DOI: 10.1063/1.5034395
  • 査読あり / オープンアクセス
• [学会発表] 原子層物質コーティングによるカソード表面の長寿命化と電子放出量増加の両立 (2024)
  • 著者名/発表者名: 小川修一
  • 学会等名: 文部科学省マテリアル先端リサーチインフラ 第2回 革新的なエネルギー変換を可能とするマテリアル領域シンポジウム
  • 招待講演
• [学会発表] DOSモデルに代わる新たなSi(001)表面酸化モデルの提案 (2024)
  • 著者名/発表者名: 古西浩志, 津田泰孝, 吉越章隆, 高桑雄二, 小川修一
  • 学会等名: 令和5年度表面真空学会東北・北海道支部学術講演会
• [学会発表] 機能性材料の保護と高度化を両立させる二次元物質コーティング (2024)
  • 著者名/発表者名: 小川修一
  • 学会等名: Controlled growth and characterization研究会
  • 招待講演
• [学会発表] 2次元材料被覆によるLaB6仕事関数変化のPEEM観察 (2023)
  • 著者名/発表者名: 小川 修一, 遊佐 龍之介, G. Wang, M. T. Pettes, F. Liu, 津田 泰孝, 吉越 章隆, 虻川 匡司, N. A. Moody, H. Yamaguchi
  • 学会等名: 第84回応用物理学会秋季学術講演会
• [学会発表] Work Function Changes by 2D Material coatings on LaB6 (2023)
  • 著者名/発表者名: S. Ogawa, R. Yusa, G. Wang, M. Pettes, F. Liu, Y. Tsuda, A. Yoshigoe, T. Abukawa, N. Moody, H. Yamaguchi
  • 学会等名: 2023 International Thin Film Conference
  • 国際学会
• [学会発表] Si表面酸化における酸化誘起点欠陥発生の役割の研究 (2023)
  • 著者名/発表者名: 古西浩志, 津田泰孝, 吉越章隆, 高桑雄二, 小川修一
  • 学会等名: 第56回（令和5年度）日本大学生産工学部学術講演会
• [学会発表] 分子状吸着O2によるSiO2/Si(001)界面酸化反応過程の分岐 (2022)
  • 著者名/発表者名: 津田 泰孝, 吉越 章隆, 小川 修一, 坂本 徹哉, 髙桑 雄二
  • 学会等名: 第83回応用物理学会秋季学術講演会
• [学会発表] Potassium desorption from K-doped stacked graphene (2022)
  • 著者名/発表者名: Shuichi Ogawa, Yasutaka Tsuda, Yuki Okigawa, Tomoaki Masuzawa, Akitaka Yoshigoe, Tadashi Abukawa, Takatoshi Yamada
  • 学会等名: The 22nd International Vacuum Congress
  • 国際学会
• [学会発表] Role of molecularly-adsorbed O2 on oxidation at SiO2/Si(001) interface (2022)
  • 著者名/発表者名: Yasutaka Tsuda, Akitaka Yoshigoe, Shuichi Ogawa, Tetsuya Sakamoto, Yuji Takakuwa
  • 学会等名: The 22nd International Vacuum Congress
  • 国際学会
• [学会発表] 光電子分光法によるナノ炭素材料の電子状態／化学状態評価 (2022)
  • 著者名/発表者名: 小川修一
  • 学会等名: 表面分析研究会第58回研究会
  • 招待講演
• [学会発表] Quantitative Evaluation of Dopant Concentration in n-type Potassium-doped graphene using SR-XPS (2022)
  • 著者名/発表者名: Shuichi Ogawa, Takatoshi Yamada, Yuki Okigawa, Tomoaki Masuzawa, Yasutaka Tsuda, Tetsuya Sakamoto, Akitaka Yoshigoe, Tadashi Abukawa
  • 学会等名: 15th International Conference on New Diamond and Nano Carbons
  • 国際学会
• [学会発表] Gas Barrier Properties of Chemical Vapor-Deposited Graphene to Oxygen Imparted with Sub-eV Kinetic Energy (2022)
  • 著者名/発表者名: Shuichi Ogawa, Hisato Yamaguchi, Edward Holby, Takatoshi Yamada, Akitaka Yoshigoe, Yuji Takakuwa
  • 学会等名: 2022 MRS Spring Meeting & Exhibi
  • 国際学会
• [学会発表] リアルタイム光電子分光法による表面反応キネティクスの複合解析 (2022)
  • 著者名/発表者名: 小川修一
  • 学会等名: 令和 3 年度日本表面真空学会東北・北海道支部学術講演会
  • 招待講演
• [学会発表] SiO2/Si(001)界面酸化反応におけるn型とp型の比較 (2022)
  • 著者名/発表者名: 津田 泰孝, 小川 修一, 吉越 章隆, 坂本 徹哉, 冨永 亜希, 山本 善貴, 山本 幸男, 高桑 雄二
  • 学会等名: 第69回応用物理学会春季学術講演会
• [学会発表] Characterization of K-doped multilayer graphene by wet process (2021)
  • 著者名/発表者名: T. Yamada, Y. Okigawa, K. Hatakeyama, S. Ogawa, Y. Takakuwa, T. Masuzawa
  • 学会等名: International Conference on New Diamond and Nano Carbons 2020/2021
  • 国際学会
• [学会発表] Introduction of real-time XPS for material processing (2021)
  • 著者名/発表者名: S. Ogawa
  • 学会等名: MIRAI 2.0 R&I Week 2021
  • 国際学会 / 招待講演
• [学会発表] Si(001)2×1表面室温酸化に観られるO1s光電子スペクトルのサテライトピークと酸素分子の並進運動エネルギーの関係 (2021)
  • 著者名/発表者名: 吉越 章隆 , 津田 泰孝 , 冨永 亜希 , 坂本 哲哉 , 小川 修一 , 髙桑 雄二
  • 学会等名: 第82回応用物理学会秋季学術講演会
• [学会発表] SiO2/Si(001)界面のバンドベンディングへの酸素と放射光のON-OFF効果 (2021)
  • 著者名/発表者名: 津田 泰孝 , 小川 修一 , 吉越 章隆 , 坂本 徹哉 , 高桑 雄二
  • 学会等名: 第82回応用物理学会秋季学術講演会
• [学会発表] 動的 Shirley 法を用いた二層グラフェン中微量ドーパントのXPS測定 (2021)
  • 著者名/発表者名: 小川 修一 , 山田 貴壽 , 沖川 侑揮 , 増澤 智昭 , 津田 泰孝 , 吉越 章隆 , 虻川 匡司
  • 学会等名: 第82回応用物理学会秋季学術講演会
• [学会発表] カリウム添加多層グラフェンの電気特性評価 (2021)
  • 著者名/発表者名: 山田 貴壽 , 増澤 智昭 , 小川 修一 , 高桑 雄二 , 沖川 侑揮
  • 学会等名: 第82回応用物理学会秋季学術講演会
• [学会発表] 光電子ホログラフィーを用いたSi(111)-7×7表面の初期酸化構造解析 (2021)
  • 著者名/発表者名: 竹内走一郎 , 古賀峻丞 , 田中晶貴 , 孫澤旭 , 津田泰孝 , 小川修一 , 髙桑雄二 , 橋本由介 , 室隆桂之 , 吉越章隆 , 松下智裕
  • 学会等名: 日本物理学会2021年秋季大会
• [学会発表] Initial oxidation structure analysis of Si(111)-7×7 surface (2021)
  • 著者名/発表者名: Takeuchi Soichiro , Akitaka Yoshigoe , Yasutaka Tsuda , Yusuke Hashimoto , Shuichi Ogawa , Yuji Takakuwa , Syunjo Koga , Masaki Tanaka , Sun Zexu , Tomohiro Matsushita
  • 学会等名: 13th International Symposium on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices '21
  • 国際学会
• [学会発表] Comparison of the oxidation reaction kinetics between SiO2/n- and p-Si(001) interfaces (2021)
  • 著者名/発表者名: Yasutaka Tsuda , Shuichi Ogawa , Akitaka Yoshigoe , Tetsuya Sakamoto , Yuji Takakuwa
  • 学会等名: The 9th International Symposium on Surface Science
  • 国際学会
• [学会発表] Molecular beams study on satellite peak observed in O1s photoelectron spectra for Si(001)2×1 surface oxidation at room temperature (2021)
  • 著者名/発表者名: Akitaka Yoshigoe , Yas utaka Tsuda , Aki Tominaga , Tetsuya Sakamoto , Shuichi Ogawa , Yuji Takakuwa
  • 学会等名: The 9th International Symposium on Surface Science
  • 国際学会
• [学会発表] Changes of rate-limiting reactions with progress of the reduction process on oxidized Ni(111) (2021)
  • 著者名/発表者名: Shuichi Ogawa , Ryo Taga , Ryunosuke Yusa , Yasutaka Tsuda , Tetsuya Sakamoto , Akitaka Yoshigoe , Yuji Takakuwa , Tadashi Abukawa
  • 学会等名: The 9th International Symposium on Surface Science
  • 国際学会
• [学会発表] 高エネルギーO2分子ビームに対するCu上グラフェンのバリア性能評価 (2020)
  • 著者名/発表者名: 小川 修一, H. Yamaguchi, E. F. Holby, 山田 貴壽, 吉越 章隆, 高桑 雄二
  • 学会等名: 第81回 応用物理学会 秋季学術講演会
• [学会発表] Si(551)表面の表面構造解析I (2020)
  • 著者名/発表者名: 内藤 完, 中塚 聡平, 小川 修一, 虻川 匡司, 江口 豊明, 服部 賢, 服部 梓, 黒田 理人
  • 学会等名: 日本物理学会 2020年秋季大会
• [学会発表] Si(551)表面のW-RHEEDとSTMによる構造解析 (2020)
  • 著者名/発表者名: 内藤 完, 中塚 聡平, 小川 修一, 虻川 匡司, 江口 豊明, 服部 賢, 服部 梓, 黒田 理人
  • 学会等名: 2020年日本表面真空学会学術講演会
• [学会発表] ガスバリア特性評価のためのグラフェン用触媒金属膜の検討 (2020)
  • 著者名/発表者名: 小川修一, 山田貴壽, 津田泰孝, 吉越章隆, 虻川匡司
  • 学会等名: 令和２年度日本表面真空学会東北・北海道支部学術講演会
• [学会発表] Ni箔上におけるグラフェンおよびh-BNの光電子顕微鏡による成長観察 (2020)
  • 著者名/発表者名: 遊佐龍之介, 志水哲也, 小川修一, 虻川匡司
  • 学会等名: 令和２年度日本表面真空学会東北・北海道支部学術講演会
• [学会発表] Si(551)および(15 17 3)表面の構造解析 (2020)
  • 著者名/発表者名: 青山大晃, 内藤完, 中塚聡平, 小川修一, 虻川匡司, 江口豊明, 服部賢, 服部梓, 黒田理人
  • 学会等名: 令和２年度日本表面真空学会東北・北海道支部学術講演会
• [学会発表] Ni(111)表面に形成したNiO膜の還元過程のリアルタイム光電子分光観察 (2020)
  • 著者名/発表者名: 張氷若, 小川修一, 吉越章隆, 高桑雄二
  • 学会等名: 令和２年度日本表面真空学会東北・北海道支部学術講演会
• [学会発表] 欠陥酸化を介した高エネルギーO2分子のグラフェン膜透過 (2020)
  • 著者名/発表者名: 小川修一、山田貴壽、H. Yamaguchi、E. F. Holby、吉越章隆、高桑雄二
  • 学会等名: 令和元年度日本表面真空学会東北・北海道支部学術講演会
• [学会発表] O2 pressure dependence of changes of band bending of p-NiO layer grown on Ni (111) surface studied by photoelectron spectroscopy (2019)
  • 著者名/発表者名: Bingruo Zhang, Shuichi Ogawa, Akitaka Yoshigoe, Yuji Takakuwa
  • 学会等名: 8th International Symposium on Control of Semiconductor Interfaces
  • 国際学会
• [学会発表] Role of stress and carrier in oxidation on Si surfaces (2019)
  • 著者名/発表者名: Jaiyi Tang, Yuki Sekihata, Shuichi Ogawa, Akitaka Yoshigoe, Yuji Takakuwa
  • 学会等名: 2019 International Workshop on DIELECTRIC THIN FILMS FOR FUTURE ELECTRON DEVICES - SCIENCE AND TECHNOLOGY-
  • 国際学会 / 招待講演
• [学会発表] Oxidation-induced Generation Kinetics of Point Defect on Si(001) Surfaces Observed in situ by UPS, XPS, and RHEED Combined with AES (2019)
  • 著者名/発表者名: Shuichi Ogawa, Akitaka Yoshigoe, Yuji Takakuwa
  • 学会等名: 12th International Symposium on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices '19
  • 国際学会 / 招待講演
• [学会発表] 東北次世代放射光施設の紹介 (2019)
  • 著者名/発表者名: 小川修一
  • 学会等名: 第2回日本表面真空学会若手部会研究会
  • 招待講演
• [学会発表] リアルタイムXPSによるSi表面酸化プロセスの反応速度・酸化誘起歪みの同時観察 (2018)
  • 著者名/発表者名: 小川修一
  • 学会等名: 2018年日本表面真空学会学術講演会
  • 招待講演
• [学会発表] Band Alignment of Bulk h-BN/Graphene Measured by PEEM (2018)
  • 著者名/発表者名: Shuichi Ogawa, Takatoshi Yamada, Ryo Kadowaki, Takashi Taniguchi,Tadashi Abukawa,Yuji Takakuwa
  • 学会等名: 14th International Conference on Atomically Controlled Surfaces, Interfaces and Nanostructures
  • 国際学会
• [備考] 速い分子だと炭素の網を通り抜ける！？酸素がグラフェンをすり抜ける現象を発見
  • URL: https://www.tohoku.ac.jp/japanese/2020/10/press20201026-01-graphene.html