研究課題/領域番号 |
18201019
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研究種目 |
基盤研究(A)
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配分区分 | 補助金 |
応募区分 | 一般 |
研究分野 |
ナノ材料・ナノバイオサイエンス
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研究機関 | 東北大学 (2007-2008) 北海道大学 (2006) |
研究代表者 |
下村 政嗣 東北大学, 原子分子材料科学高等研究機構, 教授 (10136525)
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研究分担者 |
居城 邦治 北海道大学, 電子科学研究所, 教授 (90221762)
松尾 保考 (松尾 保孝) 北海道大学, 電子科学研究所, 助教 (90374652)
藪 浩 東北大学, 多元物質科学研究所, 助教 (40396255)
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研究期間 (年度) |
2006 – 2008
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研究課題ステータス |
完了 (2008年度)
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配分額 *注記 |
53,040千円 (直接経費: 40,800千円、間接経費: 12,240千円)
2008年度: 7,540千円 (直接経費: 5,800千円、間接経費: 1,740千円)
2007年度: 7,540千円 (直接経費: 5,800千円、間接経費: 1,740千円)
2006年度: 37,960千円 (直接経費: 29,200千円、間接経費: 8,760千円)
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キーワード | 自己組織化 / ハニカム構造 / フォトニック結晶 / 導波路 / プロトタイピング / ハニカム浩 / ラビッドプロトタイピング / 光架橋製樹脂 / 金属化 / 多孔質膜 |
研究概要 |
本研究では、ボトムアップナノテクノロジ-のキ-技術である自己組織化によるナノ・ミクロ構造形成と、成熟した技術である無電解メッキを組み合わせることで、全湿式プロセスによるラピッドプロトタイピングが可能であることを示すことができた。また、マイクロメ-タ-スケ-ルの細孔を有するハニカム様多孔質フィルムが赤外領域でフォトニック結晶になりうることを確認しており、細孔径のサブミクロン化によって可視光領域でのフォトニック結晶が可能となる。金属化により、高屈折率化と力学強度にすぐれた材料が期待される。
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