配分額 *注記 |
12,690千円 (直接経費: 11,700千円、間接経費: 990千円)
2008年度: 2,080千円 (直接経費: 1,600千円、間接経費: 480千円)
2007年度: 2,210千円 (直接経費: 1,700千円、間接経費: 510千円)
2006年度: 8,400千円 (直接経費: 8,400千円)
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研究概要 |
アルゴン酸素プラズマ反応性スパッタリングによって, MgOの球状で単結晶, 中空ナノ微粒子の生成に初めて成功した. 粒子の直径は100nm程度である. また, Mg有機化合物を用いたプラズマCVD 法によって, 内面壁に規則的に垂直突起状のナノロッドを生成できることが明らかになった. ナノロッドの間隔が狭くなると, 次第に表面が滑らかな一様な薄膜になることが明らかになった. さらに, ZnOナノワイヤの形成も観測された. 以上のように, 金属酸化物薄膜の表面構造をナノスケールで制御堆積する方法が実証された.
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