| 研究課題/領域番号 |
18560025
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
薄膜・表面界面物性
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| 研究機関 | 東洋大学 |
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研究代表者 |
柏木 邦宏 東洋大学, 工学部, 教授 (30058094)
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| 研究分担者 |
吉田 泰彦 東洋大学, 工学部, 教授 (80134500)
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| 研究期間 (年度) |
2006 – 2008
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| 研究課題ステータス |
完了 (2008年度)
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| 配分額 *注記 |
3,790千円 (直接経費: 3,400千円、間接経費: 390千円)
2008年度: 780千円 (直接経費: 600千円、間接経費: 180千円)
2007年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円)
2006年度: 2,100千円 (直接経費: 2,100千円)
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| キーワード | 低抵抗ZnO薄膜 / 透明導電膜 / マイクロ波表面波 / H_2 プラズマ / P型ZnO / ZnO膜 / N_2プラズマ / Zn0透明導電膜 / H_2プラズマ / ZnO透明導電膜 |
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| 研究概要 |
通常ZnOは化学量論比上の結合では、透明で高い電気的絶縁性を持っている。イオンプレーティング法で形成されたZnO膜にマイクロ波表面波(1000W)で励起したH_2 プラズマを30(sec)程度照射する事で、膜の可視領域における光学的透過率を下げることなく、また他の種々な金属元素をドープすることなく電気的な抵抗率を~10^<-3>(Ωcm)まで下げる事ができた。よってZnOの透明導電膜としての新しい応用が可能である。
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