| 研究課題/領域番号 |
18560140
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
設計工学・機械機能要素・トライボロジー
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| 研究機関 | 日本工業大学 |
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研究代表者 |
三宅 正二郎 日本工業大学, 工学部, 教授 (70229813)
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| 研究期間 (年度) |
2006 – 2008
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| 研究課題ステータス |
完了 (2008年度)
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| 配分額 *注記 |
4,190千円 (直接経費: 3,500千円、間接経費: 690千円)
2008年度: 1,690千円 (直接経費: 1,300千円、間接経費: 390千円)
2007年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
2006年度: 1,200千円 (直接経費: 1,200千円)
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| キーワード | トライボロジー / データストレージ / ナノ材料 / 原子間力顕微鏡 / データストーレージ |
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| 研究概要 |
超高密度記録媒体として物性の異なった層を積層した(Si/C),(C/BN)等のナノ周期積層膜を形成した。ここで(Si/C),(C/BN)膜については1nm 膜厚のナノ周期積層膜を実現した。超高密度記録のためのナノ加工特性の検討として、導電性加工工具(チップ)を用い放電と機械作用を併用した新しい加工を実現した。さらに原子間力顕微鏡(AFM)でダイヤモンドチップを用いて、1 層(1nm)以下の機械加工を実現した。ナノ周期積層膜に加工された情報を再生する方法として、(1)形状差、(2)摩擦力の差、(3)電流分布の差を取り上げ、加工深さに対応する物性の差を評価した。
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