3次元フォトリソグラフィによる高機能MEMSデバイス

• 研究課題/領域番号: 18681023
• 研究種目: 若手研究(A)
• 配分区分: 補助金
• 研究分野: マイクロ・ナノデバイス
• 研究機関: 豊田工業大学 (2007-2008); 東北大学 (2006)
• 研究代表者: 佐々木 実 豊田工業大学, 工学部, 教授 (70282100)
• 研究期間 (年度): 2006 – 2008
• 研究課題ステータス: 完了 (2008年度)
• 配分額: 25,610千円 (直接経費: 19,700千円、間接経費: 5,910千円); 2008年度: 8,320千円 (直接経費: 6,400千円、間接経費: 1,920千円); 2007年度: 8,320千円 (直接経費: 6,400千円、間接経費: 1,920千円); 2006年度: 8,970千円 (直接経費: 6,900千円、間接経費: 2,070千円)
• キーワード: マイクロファブリケーション / マイクロマシン / デバイス設計・製造プロセス / 3次元フォトリソグラフィ / 3次元デバイス / 垂直壁 / 3次元実装 / 流体解析 / 先端機能デバイス

研究概要

3次元フォトリソグラフィの応用可能性をニーズのあるデバイスの形で示す試みは、ニーズを持つ外部研究グループと一緒に行った。関西大学の青柳教授らとの、自立カンチレバーと組み合わされたMOSFET容量センサ、香川大学の大平教授らとの、ICパッケージ側壁への配線パターン形成である。露光技術などの推敲と、成膜の基礎研究(評価法、気流解析)も平行して進めた。応用展開と、プロセス技術全般の推敲、学術的基礎の蓄積が進展した。

研究成果

• [雑誌論文] Development of MEMS Capacitive Sensor Using a MOSFET Structure (2008)
  • 著者名/発表者名: Hayato Izumi, Yohei Matsumoto, Seiji Aoyagi, Yusaku Harada, Shoso Shingubara, Minoru Sasaki, Kazuhiro Hane, Hiroshi Tokunaga
  • 雑誌名: 電気学会論文誌E Vol.128-E, No.3 ページ: 102-107
  • NAID: 10021135078
  • 査読あり
• [雑誌論文] Development of MEMS Capacitive Sensor Using a MOSFET Structure (2008)
  • 著者名/発表者名: H. Izumi, Y. Matsumoto, S. Aoyagi, Y. Harada, S. Shingubara, M. Sasaki, K. Hane, H. Tokunaga
  • 雑誌名: 電気学会論文誌E 128-E, No.3 ページ: 102-107
  • NAID: 10021135078
  • 査読あり
• [雑誌論文] Angled Exposure Method for Pattering on Three-Dimensional Structures (2007)
  • 著者名/発表者名: Vijay Kumar SINGH, Minoru SASAKI, and Kazuhiro HANE
  • 雑誌名: Japanese Journal of Applied Physics Vol.46, No.9B ページ: 6449-6453
  • 査読あり
• [雑誌論文] Fabrication of MOSFET Capacitive Sensor using Spray Coating Method (2007)
  • 著者名/発表者名: Seiji Aoyagi, Yuichi Matsui, Kenji Makihira, Hiroshi Tokunaga, Minoru Sasaki, Kazuhiro Hane
  • 雑誌名: 電気学会論文誌E Vol.127-E, No.3 ページ: 153-159
  • NAID: 10018737787
  • 査読あり
• [雑誌論文] Fabrication of MOSFET Capacitive Sensor using Spray Coating Method (2007)
  • 著者名/発表者名: S. Aoyagi, Y. Matsui, K. Makihira, H. Tokunaga, M. Sasaki, K. Hane
  • 雑誌名: 電気学会論文誌E 127-E, No.3 ページ: 153-159
  • NAID: 10018737787
  • 査読あり
• [雑誌論文] Angled Exposure Method for Pattering on Three-Dimensional Structures (2007)
  • 著者名/発表者名: V.K. Singh, M. Sasaki, K. Hane
  • 雑誌名: Japanese Journal of Applied Physics 46, No.9B ページ: 6449-6453
  • 査読あり
• [雑誌論文] Fabrication of MOSFET Capacitive Sensor using Spray Coating Method (2007)
  • 著者名/発表者名: Seiji Aoyagi
  • 雑誌名: 電気学会論文誌E 127-E・3 ページ: 153-159
• [雑誌論文] 位相シフトマスクを利用した立体サンプルの露光法 (2006)
  • 著者名/発表者名: 佐々木実,陳俊中エドウィン,羽根一博
  • 雑誌名: 電気学会論文誌E Vol.126-E, No.6 ページ: 241-242
  • NAID: 10017582294
  • 査読あり
• [雑誌論文] 位相シフトマスクを利用した立体サンプルの露光法 (2006)
  • 著者名/発表者名: 佐々木実
  • 雑誌名: 電気学会論文誌E 126-E・6 ページ: 241-242
  • NAID: 10017582294
• [雑誌論文] Angled exposure method for patterning 3D samples with slant side surfaces (2006)
  • 著者名/発表者名: Vijay Kumar Singh
  • 雑誌名: Proc. of International Microprocesses and Nanotechnology Conference, (2006.10.27 Kamakura) 27A-11-2 ページ: 386-387
• [雑誌論文] 位相シフトマスクを利用した立体サンプルへの微細パターン露光法 (2006)
  • 著者名/発表者名: 佐々木実
  • 雑誌名: 電気学会研究会資料センサ・マイクロマシン準部門総合研究会,2006.5.15-16 MSS-06-19 ページ: 89-92
  • NAID: 10017586211
• [雑誌論文] Effect of Angled Exposure Light for Three-Dimensional Lithography (2006)
  • 著者名/発表者名: Vijay Kumar Singh
  • 雑誌名: Proceedings of the 23rd Sensor Symposium ページ: 181-184
• [学会発表] MEMS用アッシング装置の開発 (2009)
  • 著者名/発表者名: 岩本拓也,佐々木実,熊谷慎也
  • 学会等名: 日本機械学会東海学生会、第40回学生員卒業研究発表講演会講演前刷集
  • 発表場所: 岐阜大学
  • 年月日: 2009-03-16
• [学会発表] MEMS用アッシング装置の開発 (2009)
  • 著者名/発表者名: 岩本拓也
  • 学会等名: 日本機械学会東海学生会、第40回学生員卒業研究発表講演会講演前刷集, 116, pp.29-30
  • 発表場所: 岐阜
  • 年月日: 2009-03-16
• [学会発表] Liquid immersion angled exposure technique for 3D photolithography (2009)
  • 著者名/発表者名: TAKAFUMI HOSONO, SHINYA KUMAGAI, MINORU SASAKI
  • 学会等名: First International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications
  • 発表場所: Nagoya
  • 年月日: 2009-03-09
• [学会発表] Liquid immersion angled exposure technique for 3D photolithography (2009)
  • 著者名/発表者名: Takafumi Hosono
  • 学会等名: First International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications (ISPlasma2009) Poster, Mo-20, p.142
  • 発表場所: 名古屋
  • 年月日: 2009-03-09
• [学会発表] スプレーコート技術と斜め露光技術による垂直側面への配線形成技術 (2009)
  • 著者名/発表者名: 佐々木実
  • 学会等名: 中部地区ナノテク総合支援 : ナノ材料創製加工と先端機器分析、平成20年度成果報告会, T20, pp.37-38
  • 発表場所: 名古屋
  • 年月日: 2009-03-05
• [学会発表] 「スプレーコート技術と斜め露光技術による垂直側面への配線形成技術」中部地区ナノテク総合支援 : ナノ材料創製加工と先端機器分析 (2009)
  • 著者名/発表者名: 森井裕貴,大平文和,佐々木実
  • 学会等名: 平成20年度成果報告会T20
  • 発表場所: 名古屋
• [学会発表] Conductive pattern forming method on vertical wall using spray coating and angled exposure technologies (2008)
  • 著者名/発表者名: Hiroki Morii, Fumikazu Oohira, Minoru Sasaki, Toshihiko Ochi, Asumi Yuzuriha, Katsuhito Wani
  • 学会等名: Proceedings of The 25th Sensor Symposium on Sensors, Micromachines, and Applied Systems
  • 発表場所: Okinawa
  • 年月日: 2008-10-23
• [学会発表] A Monitoring Method for Spray Coated Resist Film (2008)
  • 著者名/発表者名: Hisayoshi Tajima, Minoru Sasaki
  • 学会等名: Proceedings of The 25th Sensor Symposium on Sensors, Micromachines, and Applied Systems
  • 発表場所: Okinawa
  • 年月日: 2008-10-23
• [学会発表] スプレーコート技術と斜め露光技術による垂直側壁への配線形成技術 (2008)
  • 著者名/発表者名: 森井裕貴
  • 学会等名: 第25回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム, A1-6, pp.29-32
  • 発表場所: 沖縄
  • 年月日: 2008-10-23
• [学会発表] スプレーコーティングしたレジスト膜の評価方法の検証 (2008)
  • 著者名/発表者名: 佐々木実
  • 学会等名: 第25回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム, P-1-10, pp.250-253
  • 発表場所: 沖縄
  • 年月日: 2008-10-23
• [学会発表] Conductive Pattern Forming Method on Vertical Wall using Spray Coating and Angled Exposure Technologies (2008)
  • 著者名/発表者名: H. Morii, F. Oohira, M. Sasaki, T. Ochi, A. Yuzuriha
  • 学会等名: Final Program of 2008 IEEE/LEOS Int. Conf. Optical MEMS and Nanophotonics
  • 発表場所: Freiburg, Germany
  • 年月日: 2008-08-13
• [学会発表] Conductive Pattern Forming Method on Vertical Wall using Spray Coating and Angled Exposure Technologies (2008)
  • 著者名/発表者名: H. Morii
  • 学会等名: Final Program of 2008 IEEE/LEOS Int. Conf. Opt ical MEMS and Nanophotonics, P30, pp.156-157
  • 発表場所: Freiburg, Germany
  • 年月日: 2008-08-13
• [学会発表] 3次元フォトリソグラフィと側面へのパターニング技術 (2008)
  • 著者名/発表者名: 佐々木実, 大平文和
  • 学会等名: 平成19年度中部地区ナノテクノロジー・ネットワーク総合支援成果報告会
  • 発表場所: 岡崎
  • 年月日: 2008-03-19
• [学会発表] レジストの Spray Coating とMEMS応用 (2008)
  • 著者名/発表者名: 佐々木実
  • 学会等名: Convertech JAPAN/新機能性材料展テクニカルフォーラム,ナノコーティングセッション予稿集
  • 発表場所: 東京国際展示場
  • 年月日: 2008-02-13
• [学会発表] レジストのSpray CoatingとMEMS応用 (2008)
  • 著者名/発表者名: 佐々木実
  • 学会等名: コンバーティングテクノロジー総合展 テクニカルフォーラム
  • 発表場所: 東京国際展示場
  • 年月日: 2008-02-13
• [学会発表] Development of MEMS Capacitive Sensor Using a MOSFET Structure (2007)
  • 著者名/発表者名: Hayato Izumi, Yohei Matsumoto, Seiji Aoyagi, Yusaku Harada, Shoso Shingubara, Minoru Sasaki, Kazuhiro Hane, Hiroshi Tokunaga
  • 学会等名: Proceedings of the 24th Sensor Symposium
  • 発表場所: Funabori
  • 年月日: 2007-10-16
• [学会発表] Development of MEMS Capacitive Sensor Using a MOSFET Structure (2007)
  • 著者名/発表者名: H. Izumi, Y. Matsumoto, S. Aoyagi, Y. Harada, S. Shingubara, M. Sasaki, K. Hane, H. Tokunaga
  • 学会等名: Proceedings of the 24th Sensor Symposium, pp.254-258
  • 発表場所: 船堀
  • 年月日: 2007-10-16
• [学会発表] Angled exposure method for patterning 3D samples with slant side surfaces (2006)
  • 著者名/発表者名: Vijay Kumar Singh, Minoru Sasaki, Kazuhiro Hane
  • 学会等名: Proceedins of 2006 International Microprocesses and Nanotechnology Conference
  • 発表場所: Kamakura
  • 年月日: 2006-10-27
• [学会発表] 基調講演「ナノ・マイクロ形状と加工技術の現状と動向」Electronic Journal (2006)
  • 著者名/発表者名: 佐々木実
  • 学会等名: 第137回Technical Symposium,新・微細加工技術徹底検証
  • 発表場所: 品川,コクヨホール
  • 年月日: 2006-08-30
• [学会発表] Effect of Angled Exposure Light for Three-Dimensional Lithography (2006)
  • 著者名/発表者名: Vijay Kumar Singh, Minoru Sasaki and Kazuhiro Hane
  • 学会等名: Proceedings of the 23rd Sensor Symposium
  • 発表場所: Takamatsu
• [学会発表] Fabrication of MOSFET Capacitive Sensor Using Spray Coating Method (2006)
  • 著者名/発表者名: Yuichi Matsui, Seiji Aoyagi, Kenji Makihira, Hiroshi Tokunaga, Minoru Sasaki, Kazuhiro Hane
  • 学会等名: Proceedings of the 23rd Sensor Symposium
  • 発表場所: Takamatsu
• [学会発表] 位相シフトマスクを利用した立体サンプルへの微細パターン露光法 (2006)
  • 著者名/発表者名: 佐々木実,陳俊中エドウィン,羽根一博
  • 学会等名: MSS-06-19,電気学会研究会資料センサ・マイクロマシン準部門総合研究会
  • 発表場所: 東京大学
• [図書] レジスト膜を利用した立体加工 (2009)
  • 著者名/発表者名: 佐々木実
  • 出版者: テクノシステム
• [図書] 「MEMS/NEMS工学全集」3. 11. 2レジスト膜を利用した立体加工 (2009)
  • 著者名/発表者名: 監修桑野博喜、分担佐々木実
  • 出版者: (株)テクノシステム(2009. 4.22発刊)
• [図書] MEMS用途フォトリソグラフィプロセス (2008)
  • 著者名/発表者名: 佐々木実
  • 出版者: 技術情報協会
• [図書] 配線やデバイスの立体化に可能性を開く3次元フォトリソグラフィ(2)露光 (2008)
  • 著者名/発表者名: 佐々木実,羽根一博
  • 出版者: エレクトロニクス実装学会誌
• [図書] 配線やデバイスの立体化に可能性を開く3次元フォトリソグラフィ(1)成膜 (2008)
  • 著者名/発表者名: 佐々木実,羽根一博,青柳誠司
  • 出版者: エレクトロニクス実装学会誌
• [図書] MEMSデバイス製作とアセンブリをマッチングする試み (2008)
  • 著者名/発表者名: 佐々木実,羽根一博
  • 出版者: エレクトロニクス実装学会誌
• [図書] 「微細転写・加工技術全集」第4章第3[3]節「MEMS用途フォトリソグラフィプロセス」 (2008)
  • 著者名/発表者名: 分担佐々木実
  • 出版者: (株)技術情報協会(第1版第1刷2008年8月29日)ISBN978-4-86104-248-5C3053
• [図書] エレクトロニクス実装学会誌(講座ちょっとMEMS第9回), Vol.11, No.4 (2008)
  • 著者名/発表者名: 佐々木実
  • 出版者: 配線やデバイスの立体化に可能性を開く3次元フォトリソグラフィ(2)露光
• [図書] エレクトロニクス実装学会誌(講座ちょっとMEMS第8回),Vol.11, No.3 (2008)
  • 著者名/発表者名: 佐々木実
  • 出版者: 配線やデバイスの立体化に可能性を開く3次元フォトリソグラフィ(1)成膜
• [図書] 講座ちょっとMEMS 第6回 MEMSデバイス製作とアセンブリをマッチングする試み (2008)
  • 著者名/発表者名: 佐々木実, 羽根一博
  • 総ページ数: 4
  • 出版者: エレクトロニクス実装学会誌(Vol.11, No.1, Jan.2008)
• [図書] レジスト塗布・露光技術 (2007)
  • 著者名/発表者名: 佐々木実
  • 出版者: シーエムシー出版
• [図書] MEMSマテリアルの最新技術、第2章 第1節 レジスト塗布・露光技術 (2007)
  • 著者名/発表者名: 監修:江刺正喜, 分担:佐々木実
  • 総ページ数: 10
  • 出版者: シーエムシー出版
• [備考]
  • URL: http://ttiweb.toyota-ti.ac.jp/1432/pub_teacher_show.php?t=166
• [備考] 分析・評価装置→スプレーコーター
  • URL: http://www.vic-int.co.jp/
• [備考] 平成20年度(財)中部科学技術センタープヒジェクト形成研究会F「3次元フォトリソグラフィ加工の高度化技術」オーガナイザーとして活動
  • URL: http://ttiweb.toyota-ti.ac.Jp/1432/pub-teacher-show.php?t=166
• [備考] 分析・評価装置→スプレーコーター
  • URL: http://www.vic-int.co.jp/
• [備考]
  • URL: http://ttiweb.toyota-ti.ac.jp/1432/pub_teacher_show.php
• [産業財産権] 露光方法及び露光装置 (2006)
  • 発明者名: 佐々木実, 羽根一博
  • 権利者名: 国立大学法人東北大学, ウシオ電機株式会社
  • 出願年月日: 2006-10-04
• [産業財産権] 露光方法及び露光装置 (2006)
  • 発明者名: 佐々木実他2名
  • 権利者名: 東北大学
  • 産業財産権番号: 2006-273326
  • 出願年月日: 2006-10-04