遷移金属クラスターによる原子移動型ラジカル反応制御法の開発

研究課題

研究課題/領域番号	18750080
研究種目	若手研究(B)
配分区分	補助金
研究分野	合成化学
研究機関	東京工業大学
研究代表者	大石理貴東京工業大学, 大学院・理工学研究科, 助教 (20376940)
研究期間 (年度)	2006 – 2008
研究課題ステータス	完了 (2008年度)
配分額 *注記	4,020千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 420千円) 2008年度: 1,820千円 (直接経費: 1,400千円、間接経費: 420千円) 2007年度: 1,100千円 (直接経費: 1,100千円) 2006年度: 1,100千円 (直接経費: 1,100千円)
キーワード	ラジカル反応 / 遷移金属 / クラスター / 常磁性錯体 / 触媒 / 環化反応 / シクロペンタジエニル / ヒドリド
研究概要	ペンタメチルシクロペンタジエニル基を支持配位子とする遷移金属ポリヒドリドクラスターを触媒量用いる原子移動型ラジカル環化反応の開発を行った。ルテニウムとタングステンからなる三核錯体で高い活性が得られた。これに関連し、ヒドリド配位子をハロゲン原子で部分置換した三核錯体あるいはヒドリド配位子の少ない常磁性錯体を新規に合成し、これらを触媒に用いたところ高活性を保持しつつ反応選択性の向上も達成することに成功した。

報告書

(4件)