• 研究課題をさがす
  • 研究者をさがす
  • KAKENの使い方
  1. 前のページに戻る

高精度X線ミラー作製のためのナノ精度表面形状転写法の開発

研究課題

研究課題/領域番号 18760100
研究種目

若手研究(B)

配分区分補助金
研究分野 生産工学・加工学
研究機関大阪大学

研究代表者

三村 秀和  大阪大学, 大学院・工学研究科, 助教 (30362651)

研究期間 (年度) 2006 – 2007
研究課題ステータス 完了 (2007年度)
配分額 *注記
3,200千円 (直接経費: 3,200千円)
2007年度: 1,300千円 (直接経費: 1,300千円)
2006年度: 1,900千円 (直接経費: 1,900千円)
キーワード電鋳 / X線ミラー / ナノ精度 / 転写 / 表面
研究概要

本研究では、高精度に平滑化された表面を転写により実現することを目的とし、具体的には、ナノメートルの表面粗さが要求されるX線ミラーの転写による作製を目指した。本プロセスは電鋳法をベースとしており、昨年度準備した電析実験装置を用いた基礎的検討を実施した。
・ 電極層形成条件の検討
電極層形成におけるバインダー層のCrの量を全反射蛍光X線分析により定量的に調査を実施し、Cr量を精密に調整することで、良好な剥離条件を見出した。
・ 金属析出条件の検討
良好な平滑転写表面の実現を目的に、Ni金属析出条件と電極層形成条件の精密な探索を実施した。金属析出条件の詳細な調査をするためにピコアンメーターとエレクトロメーターによる精密電流、電圧、測定を実施した。その結果、標準電極基準による電圧を決定することが可能となった。その結果、マスター表面と同等の転写表面を得る事に成功し、さらにEEMにより平滑化された表面の転写を実施し、1μmx1μm四方において、RMS0.1nmレベルの平滑表面を得ることを確認した。
・ 各種マスター表面を用いた転写表面の粗さ評価
マスター基板として、Siウエハーと石英ガラスを用いた。Siの場合は、Niシリサイド層が形成されており、時間経過とともに剥離することが困難であることがわかった。その結果、マスターとしては、石英ガラス表面を洗濯した。マスターを2回使用しても、マスター表面の粗さは変わらず、2回目の転写表面に関しても、良好な表面粗さを確認した。

報告書

(2件)
  • 2007 実績報告書
  • 2006 実績報告書
  • 研究成果

    (4件)

すべて 2007 2006 その他

すべて 学会発表 (1件) 備考 (1件) 産業財産権 (2件)

  • [学会発表] 反射型光学素子作製のためのナノ精度表面転写法の開発2007

    • 著者名/発表者名
      芝谷昭彦, 他
    • 学会等名
      第68回応用物理学会学術講演回
    • 発表場所
      北海道工業大学
    • 年月日
      2007-09-05
    • 関連する報告書
      2007 実績報告書
  • [備考]

    • URL

      http://www-up.prec.eng.osaka-u.ac.jp/index.htm

    • 関連する報告書
      2007 実績報告書
  • [産業財産権] 電鋳法における形状転写導電層の形成方法2007

    • 発明者名
      三村秀和
    • 権利者名
      大阪大学・大阪TLO共願
    • 産業財産権番号
      2007-260639
    • 出願年月日
      2007-10-04
    • 関連する報告書
      2007 実績報告書
  • [産業財産権] 精密形状転写法2006

    • 発明者名
      三村秀和, 山内和人, 岡田浩巳
    • 権利者名
      大阪大学, (株)ジェイテツク
    • 出願年月日
      2006-09-12
    • 関連する報告書
      2006 実績報告書

URL: 

公開日: 2006-04-01   更新日: 2016-04-21  

サービス概要 検索マニュアル よくある質問 お知らせ 利用規程 科研費による研究の帰属

Powered by NII kakenhi