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中性子による核変換を利用した半導体中の不純物の微視的性質の理解と制御に関する研究

研究課題

研究課題/領域番号 18810041
研究種目

若手研究(スタートアップ)

配分区分補助金
研究分野 ナノ材料・ナノバイオサイエンス
研究機関独立行政法人日本原子力研究開発機構

研究代表者

山田 洋一  独立行政法人日本原子力研究開発機構, 博士研究員 (20435598)

研究期間 (年度) 2006 – 2007
研究課題ステータス 完了 (2007年度)
配分額 *注記
2,780千円 (直接経費: 2,780千円)
2007年度: 1,390千円 (直接経費: 1,390千円)
2006年度: 1,390千円 (直接経費: 1,390千円)
キーワードSi(110) / 量子細線 / 表面カイラリティ / 中性子ドーピング / 同位体濃縮薄膜 / バリアハイト計測 / STM
研究概要

今年度は本研究の対象として、次世代デバイスでの利用が確実視されるSi(110)表面に着目した。
研究の第一段階として本表面の清浄化手法の確立を行った。この過程で、外部直流電場を印加することで清浄表面構造の制御が可能であることを発見した。この現象を利用すると、従来複雑であったSi(110)清浄表面の構造を非常によく定義された構造に変換することが可能であることを示した。これは今後のSi(110)研究の基盤技術となるものである。
さらに、今回新たに作成されたSi(110)清浄表面には、二つの有用な新規物性、
(1)広大な一次元構造(2)表面カイラリティ、が発現することがわかった。
(1):得られた清浄表面(16x2構造単一ドメイン)は、mmオーダーで均一な一次元構造を示すことがわかった。これほど広範囲で均一な一次元構造は極めて稀である。本構造は、上下を繰り返す一次元単原子ステップの集合体であり、量子細線等の一次元ナノ構造のテンプレートとして有用である。
(2):16x2単一ドメイン構造は、表面カイラリティを有し、カイラリティ(右系、左系)の制御も可能になることがわかった。固体表面上へのカイラリティの導入は、不斉分子の不斉合成反応の不均一触媒設計において重要となる。今回作成された構造は従来報告されているものよりも広範囲でよく定義されたカイラリティを示すため、有効な実用触媒として機能する可能性がある。
本発見は、今後Si(110)表面での不純物の微視的研究を含めた多岐の研究展開を可能とする。

報告書

(2件)
  • 2007 実績報告書
  • 2006 実績報告書
  • 研究成果

    (6件)

すべて 2008 2007 その他

すべて 雑誌論文 (4件) (うち査読あり 3件) 学会発表 (1件) 産業財産権 (1件)

  • [雑誌論文] Controlling the surface chirality of Si(110)2008

    • 著者名/発表者名
      Y. Yamada, A. Girard, H. Asaoka, H. Yamamoto, S. Shamoto
    • 雑誌名

      Phys. Rev. B 77

      ページ: 153305-153305

    • 関連する報告書
      2007 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Si(110)-16x2単一ドメイン表面の作製2008

    • 著者名/発表者名
      山田 洋一、Antine Girard、朝岡 秀人、山本 博之、社本 真一
    • 雑誌名

      表面科学 29

    • NAID

      130004673852

    • 関連する報告書
      2007 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Single-Domain Si(110)-16x2 surface fabricatedby Electromigration2007

    • 著者名/発表者名
      Y. Yamada, A. Girard, H. Asaoka, H. Yamamoto, S. Shamoto
    • 雑誌名

      Phys. Rev. B 76

      ページ: 153309-153309

    • 関連する報告書
      2007 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Local Neutron Transmutation Doping using isotopically Enriched Silicon Film

    • 著者名/発表者名
      Yoichi Yamada, Hiroyuki Yamamoto, Hironori Ohba, Masato Sasase, Fumitaka Esaka, Kenji Shamoto, Atsushi Yokoyama, Kiichi Hojou
    • 雑誌名

      Journal of Physics and Chemistry of Solids

    • 関連する報告書
      2006 実績報告書
  • [学会発表] Single-Domained Si(110)-"16×2" Surface2007

    • 著者名/発表者名
      Y. Yamada, A. Girard, H. Asaoka, H. Yamamoto, S. Shamoto
    • 学会等名
      ICSS-13
    • 発表場所
      Stockholm, Sweden
    • 年月日
      2007-07-26
    • 関連する報告書
      2007 実績報告書
  • [産業財産権] シリコン薄膜または同位体濃縮シリコン薄膜の製造方法2007

    • 発明者名
      山田 洋一、山本 博之、大場 弘則、江坂 文孝、山口 憲司、社本 真一、横山 淳、北條 喜一、笹瀬 雅人、鵜殿 治彦.
    • 権利者名
      山田 洋一
    • 産業財産権番号
      2007-149102
    • 出願年月日
      2007-06-05
    • 関連する報告書
      2007 実績報告書

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公開日: 2006-04-01   更新日: 2016-04-21  

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