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原子状水素処理による有機薄膜トランジスタの特牲向上

研究課題

研究課題/領域番号 18850020
研究種目

若手研究(スタートアップ)

配分区分補助金
研究分野 機能材料・デバイス
研究機関兵庫県立大学

研究代表者

部家 彰  兵庫県立大学, 大学院・工学研究科, 助教 (80418871)

研究期間 (年度) 2006 – 2007
研究課題ステータス 完了 (2007年度)
配分額 *注記
2,780千円 (直接経費: 2,780千円)
2007年度: 1,390千円 (直接経費: 1,390千円)
2006年度: 1,390千円 (直接経費: 1,390千円)
キーワード原子状水素 / 表面改質 / 表面自由エネルギー / 有機薄膜トランジスタ / 表面自由エネルギ
研究概要

加熱触媒体線で分解・生成した原子状水素をゲート絶縁膜に吹き付ける「原子状水素アニール(AHA)処理」を行うことで、絶縁膜の表面改質を行い、その上に形成されるペンタセン膜の膜質を変化させるとともに、有機薄膜トランジスタの特性を向上させることを試みた。AHA処理(触媒体温度1500℃)によりゲート絶縁膜(siO_2)表面の還元反応が起こり、SiO_2の表面エネルギーが42dyne/cmから39dyne/cmに変化した。また、AHA処理によりペンタセン膜の結晶粒径は増加しなかったが、I_<on/_off>が1桁向上し、閾値電圧も65Vから16Vに減少した。これは原子状水素によりSiO_2膜/Si基板界面付近の負電荷が除去されたためであると考えられる。また、触媒体温度1800℃でAHA処理した場合、触媒体材料のWがSiO_2表面に付着し、SiO_2の表面エネルギーは45dyne/cmであった。このようなSiO_2上に形成したペンタセン膜の結晶粒径は未処理に比べ、50%に減少した。また、TFTのキャリア移動度も50%に減少した。以上のことからWが混入しない条件でAHA処理を行うことで、有機TFTの特性を向上させることができ、有機半導体/絶縁体界面の特性改善法として有効であることが明らかとなった。

報告書

(2件)
  • 2007 実績報告書
  • 2006 実績報告書
  • 研究成果

    (11件)

すべて 2008 2007

すべて 雑誌論文 (5件) (うち査読あり 5件) 学会発表 (6件)

  • [雑誌論文] 原子状水素を利用したプラスチック基板の表面改質2008

    • 著者名/発表者名
      部家 彰
    • 雑誌名

      真空 51

      ページ: 26-29

    • NAID

      10021156595

    • 関連する報告書
      2007 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Properties of Surface-Modification Layer Generated by Atomic Hydrogen Annealing on Poly(ethylene naphthalate)Substrate2008

    • 著者名/発表者名
      A.Heya
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys. 47

      ページ: 266-268

    • NAID

      40015871603

    • 関連する報告書
      2007 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Surface Treatment of Plastic Substrates using Atomic Hydrogen Generated on Heated Tungsten Wire at Low Temperatures2007

    • 著者名/発表者名
      A.Heya
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys. 46

      ページ: 3545-3548

    • NAID

      40015421747

    • 関連する報告書
      2007 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Surface Modification of Poly(ethylene naphthalate) Substrate and Effect on SiN_x Film Deposition by Atomic Hydrogen Annealing2007

    • 著者名/発表者名
      A.Heya
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys. 46

    • 関連する報告書
      2007 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] 加熱触媒体線上で生成した原子状水素を用いたプラスチック基板の表面処理2007

    • 著者名/発表者名
      部家 彰
    • 雑誌名

      表面技術 58

      ページ: 138-141

    • 関連する報告書
      2007 実績報告書
    • 査読あり
  • [学会発表] 原子状水素アニール処理により改質したPEN基板の分光エリプソメトリによる評価2008

    • 著者名/発表者名
      部家 彰
    • 学会等名
      第55回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      日本大学
    • 年月日
      2008-03-28
    • 関連する報告書
      2007 実績報告書
  • [学会発表] 原子状水素アニール処理によるペンタセン/ゲート絶縁膜界面特性の向上2008

    • 著者名/発表者名
      佐藤 真彦
    • 学会等名
      第55回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      日本大学
    • 年月日
      2008-03-27
    • 関連する報告書
      2007 実績報告書
  • [学会発表] 原子状水素アニールによる無機膜とプラスチック基板との密着性の改善2007

    • 著者名/発表者名
      佐藤 真彦
    • 学会等名
      薄膜材料デバイス研究会第4回研究集会
    • 発表場所
      龍谷大学
    • 年月日
      2007-11-02
    • 関連する報告書
      2007 実績報告書
  • [学会発表] 原子状水素アニールしたプラスチック基板へのSiN_x膜の形成2007

    • 著者名/発表者名
      佐藤 真彦
    • 学会等名
      第141回日本金属学会
    • 発表場所
      岐阜大学
    • 年月日
      2007-09-20
    • 関連する報告書
      2007 実績報告書
  • [学会発表] 原子状水素を用いたプラスチック基板の表面処理2007

    • 著者名/発表者名
      部家 彰
    • 学会等名
      第4回Cat-CVD研究会
    • 発表場所
      北九州市立男女参画センター
    • 年月日
      2007-06-30
    • 関連する報告書
      2007 実績報告書
  • [学会発表] Applying Atomic Hydrogen Anneal to Plastic Substrate in FIexible Displays2007

    • 著者名/発表者名
      M. Sato
    • 学会等名
      IMFEDK
    • 発表場所
      大阪大学
    • 年月日
      2007-04-24
    • 関連する報告書
      2007 実績報告書

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公開日: 2006-04-01   更新日: 2016-04-21  

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