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モノカルコゲナイド物質における極薄膜物性探索

研究課題

研究課題/領域番号 18H01865
研究種目

基盤研究(B)

配分区分補助金
応募区分一般
審査区分 小区分29020:薄膜および表面界面物性関連
研究機関東北大学

研究代表者

塩貝 純一  東北大学, 金属材料研究所, 助教 (30734066)

研究期間 (年度) 2018-04-01 – 2021-03-31
研究課題ステータス 完了 (2020年度)
配分額 *注記
18,070千円 (直接経費: 13,900千円、間接経費: 4,170千円)
2020年度: 1,690千円 (直接経費: 1,300千円、間接経費: 390千円)
2019年度: 1,690千円 (直接経費: 1,300千円、間接経費: 390千円)
2018年度: 14,690千円 (直接経費: 11,300千円、間接経費: 3,390千円)
キーワードモノカルコゲナイド / 超伝導 / 半導体 / 薄膜 / 2次元物質 / 薄膜成長 / ヘテロ構造 / エッチング
研究成果の概要

層状の結晶構造を持つモノカルコゲナイド物質では、単層化によってバルクとは全く異なる物性が発現すると期待される。その実証のため、鉄系超伝導体FeSeと半導体InSeを例に、バルクから単層までの膜厚依存した物性に着目した。FeSeはバルク体で8Kの超伝導転移温度を示すが、単層状態で転移温度が40Kまで向上する。この高温超伝導の機構解明のため、トンネル素子を作製し、FeSe単層における超伝導ギャップ測定の手法を確立した。その結果、超伝導転移温度と超伝導ギャップの比較が可能となった。InSe薄膜研究では、光学バンドギャップがバルク値1.2eVから単層状態で3.2eVまで増大することを明らかにした。

研究成果の学術的意義や社会的意義

本研究のFeSe薄膜のトンネル分光測定技術により、抵抗測定による超伝導転移温度と超伝導ギャップを直接比較することが可能となった。これまで報告されている単層FeSeの超伝導転移温度は40Kである。一方、分光学的手法によるギャップ測定では65Kの転移温度に相当する超伝導ギャップが測定されている。しかし、これらは同一試料・条件で行われていないため、超伝導発現機構が未解明である。本手法を用いることで、単層高温超伝導相の物理的描像の理解が進むと期待される。また、InSeにおいては、1.2eVから3.2eVまで広い範囲でバンドギャップを制御することができるため、広帯域の光電子素子としての利用が期待される。

報告書

(4件)
  • 2020 実績報告書   研究成果報告書 ( PDF )
  • 2019 実績報告書
  • 2018 実績報告書
  • 研究成果

    (10件)

すべて 2020 2019 2018 その他

すべて 雑誌論文 (2件) (うち国際共著 2件、 査読あり 2件、 オープンアクセス 2件) 学会発表 (3件) (うち国際学会 3件) 図書 (1件) 備考 (4件)

  • [雑誌論文] Two-dimensional growth of conductive ultra-thin Sn films on insulating substrate with an Fe buffer layer2020

    • 著者名/発表者名
      Zheng Dingheng、Shiogai Junichi、Inoue Hisashi、Souma Seigo、Sato Takafumi、Tsukazaki Atsushi
    • 雑誌名

      APL Materials

      巻: 8 号: 6 ページ: 061103-061103

    • DOI

      10.1063/5.0009012

    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 査読あり / オープンアクセス / 国際共著
  • [雑誌論文] Pulsed-laser deposition of InSe thin films for the detection of thickness-dependent bandgap modification2018

    • 著者名/発表者名
      Zheng Dingheng、Shiogai Junichi、Fujiwara Kohei、Tsukazaki Atsushi
    • 雑誌名

      Applied Physics Letters

      巻: 113 号: 25 ページ: 253501-253501

    • DOI

      10.1063/1.5064736

    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 査読あり / オープンアクセス / 国際共著
  • [学会発表] Thickness-Dependent Optical Bandgap and Electrical Transport Properties in InSe Thin Films Grown by Pulsed-Laser Deposition2019

    • 著者名/発表者名
      D. Zheng, J. Shiogai, K. Fujiwara, A. Tsukazaki
    • 学会等名
      2019 MRS Fall Meeting
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Thickness-dependent Optical Bandgap and Electrical Transport Properties in Layered InSe Thin Films Grown by Pulsed-laser Deposition2019

    • 著者名/発表者名
      D. Zheng, J. Shiogai, K. Fujiwara, and A. Tsukazaki
    • 学会等名
      MRM 2019
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Pulsed-laser deposition of layered InSe thin films for investigation of thickness-dependent bandgap modification2018

    • 著者名/発表者名
      D. Zheng, J. Shiogai, K. Fujiwara, and A. Tsukazaki
    • 学会等名
      Summit of Materials Science 2018 in Sendai, Japan
    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 国際学会
  • [図書] ポストグラフェン材料の創製と用途開発最前線、「FeSe電気二重層トランジスタの開発」2020

    • 著者名/発表者名
      塩貝 純一, 野島 勉, 塚﨑 敦
    • 総ページ数
      11
    • 出版者
      株式会社エヌ・ティー・エス
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
  • [備考]

    • URL

      https://researchmap.jp/junichi.shiogai

    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
  • [備考]

    • URL

      http://mu.imr.tohoku.ac.jp/memberlist_shiogai.html

    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
  • [備考]

    • URL

      http://mu.imr.tohoku.ac.jp/memberlist_shiogai.html

    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
  • [備考]

    • URL

      http://mu.imr.tohoku.ac.jp/memberlist_shiogai.html

    • 関連する報告書
      2018 実績報告書

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公開日: 2018-04-23   更新日: 2022-01-27  

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