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半絶縁性SiCの物性・欠陥解明とイオン注入による相補型ロバストJFETの作製

研究課題

研究課題/領域番号 18H03779
研究種目

基盤研究(A)

配分区分補助金
応募区分一般
審査区分 中区分21:電気電子工学およびその関連分野
研究機関京都大学

研究代表者

木本 恒暢  京都大学, 工学研究科, 教授 (80225078)

研究分担者 西 佑介  京都大学, 工学研究科, 助教 (10512759)
研究期間 (年度) 2018-04-01 – 2021-03-31
研究課題ステータス 完了 (2020年度)
配分額 *注記
44,460千円 (直接経費: 34,200千円、間接経費: 10,260千円)
2020年度: 11,830千円 (直接経費: 9,100千円、間接経費: 2,730千円)
2019年度: 14,560千円 (直接経費: 11,200千円、間接経費: 3,360千円)
2018年度: 18,070千円 (直接経費: 13,900千円、間接経費: 4,170千円)
キーワード炭化珪素 / 半絶縁性基板 / イオン注入 / 電界効果トランジスタ / 耐環境素子 / 深い準位 / 相補型素子 / 結晶欠陥
研究成果の概要

高温動作可能な集積回路を目指して、SiC半導体を用いた相補型素子に関する基礎研究を実施した。まず、半絶縁性SiCの高温における電子物性とフェルミ準位を決定した。次に、SiC結晶に存在する貫通転位は、室温~500℃の範囲でpn接合の特性に影響を与えないことを明らかにした。半絶縁性SiC基板へのイオン注入によって横型サイドゲート接合型電界効果トランジスタ(JFET)を作製し、n、pチャネルJFETともに良好なノーマリオフ特性を達成した。このn-、p-JFETを組み合わせることで、相補型SiC JFET (CJFET)インバータを世界で初めて作製し、室温~300℃において良好な動作を実証した。

研究成果の学術的意義や社会的意義

Si集積回路の進展は著しく、エレクトロニクス社会の根幹を支えるハードウェアとなっているが、Siの物性限界により、250℃以上の高温や放射線下で安定に動作する集積回路を作製することは困難である。高温動作に関しては、エンジン、ボイラー等の燃焼炉制御、資源(石油など)採掘など、放射線環境動作に関しては、原子炉モニター、宇宙探査などの応用があり、根強いニーズがある。本研究を通じて、SiC半導体の高温電子物性を明らかにでき、さらに低消費電力の相補型トランジスタ(CJFET)の室温~300℃動作を実証した。本研究により、SiC CJFETを用いた耐環境動作集積回路の基盤を築くことができた。

報告書

(4件)
  • 2020 実績報告書   研究成果報告書 ( PDF )
  • 2019 実績報告書
  • 2018 実績報告書
  • 研究成果

    (40件)

すべて 2021 2020 2019 2018

すべて 雑誌論文 (14件) (うち国際共著 1件、 査読あり 14件、 オープンアクセス 2件) 学会発表 (25件) (うち国際学会 25件、 招待講演 12件) 産業財産権 (1件)

  • [雑誌論文] Nearly Fermi-level-pinning-free interface in metal/heavily-doped SiC Schottky structures2021

    • 著者名/発表者名
      M. Hara, M. Kaneko, and T. Kimoto
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 60 号: SB ページ: SBBD14-SBBD14

    • DOI

      10.35848/1347-4065/abe3d8

    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Tunneling Current in 4H-SiC p-n Junction Diodes2020

    • 著者名/発表者名
      M. Kaneko, X. Chi, and T. Kimoto
    • 雑誌名

      IEEE Transactions on Electron Devices

      巻: 67 号: 8 ページ: 3329-3334

    • DOI

      10.1109/ted.2020.3001909

    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Defect engineering in SiC technology for high-voltage power devices2020

    • 著者名/発表者名
      T. Kimoto and H. Watanabe
    • 雑誌名

      Applied Physics Express

      巻: 13 号: 12 ページ: 120101-120101

    • DOI

      10.35848/1882-0786/abc787

    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Experimental Study on Short-Channel Effects in Double-Gate Silicon Carbide JFETs2020

    • 著者名/発表者名
      M. Kaneko, M. Nakajima, Q. Jin, and T. Kimoto
    • 雑誌名

      IEEE Transactions on Electron Devices

      巻: 67 号: 10 ページ: 4538-4540

    • DOI

      10.1109/ted.2020.3017143

    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Forward thermionic field emission transport and significant image force lowering caused by high electric field at metal/heavily-doped SiC Schottky interfaces2020

    • 著者名/発表者名
      M. Hara, S. Asada, T. Maeda, and T. Kimoto
    • 雑誌名

      Applied Physics Express

      巻: 13 号: 4 ページ: 041001-041001

    • DOI

      10.35848/1882-0786/ab7bcd

    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Normally-off 400 °C Operation of n- and p-JFETs With a Side-Gate Structure Fabricated by Ion Implantation Into a High-Purity Semi-Insulating SiC Substrate2019

    • 著者名/発表者名
      Nakajima M.、Kaneko M.、Kimoto T.
    • 雑誌名

      IEEE Electron Device Letters

      巻: 40 号: 6 ページ: 866-869

    • DOI

      10.1109/led.2019.2910598

    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Influence of vacuum annealing on interface properties of SiC (0001) MOS structures2019

    • 著者名/発表者名
      K. Ito, T. Kobayashi, and T. Kimoto
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 58 号: 7 ページ: 078001-078001

    • DOI

      10.7567/1347-4065/ab2557

    • NAID

      210000156265

    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Demonstration of conductivity modulation in SiC bipolar junction transistors with reduced base spreading resistance2019

    • 著者名/発表者名
      S. Asada, J. Suda, and T. Kimoto
    • 雑誌名

      IEEE Transactions on Electron Devices

      巻: 66 号: 11 ページ: 4870-4874

    • DOI

      10.1109/ted.2019.2941884

    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] SiC Vertical-Channel n- and p-JFETs Fully Fabricated by Ion Implantation2019

    • 著者名/発表者名
      Kaneko Mitsuaki、Grossner Ulrike、Kimoto Tsunenobu
    • 雑誌名

      Materials Science Forum

      巻: 963 ページ: 841-844

    • DOI

      10.4028/www.scientific.net/msf.963.841

    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 査読あり / 国際共著
  • [雑誌論文] Reduction of interface state density in SiC (0001) MOS structures by low-oxygen-partial-pressure annealing2019

    • 著者名/発表者名
      T. Kobayashi, J. Suda, and T. Kimoto
    • 雑誌名

      Applied Physics Express

      巻: 12 号: 3 ページ: 031001-031001

    • DOI

      10.7567/1882-0786/ab032b

    • NAID

      210000135625

    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Updated trade-off relationship between specific on-resistance and breakdown voltage in 4H-SiC{0001} unipolar devices2019

    • 著者名/発表者名
      T. Kimoto
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 58 号: 1 ページ: 018002-018002

    • DOI

      10.7567/1347-4065/aae896

    • NAID

      120006550407

    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 査読あり / オープンアクセス
  • [雑誌論文] High-temperature operation of n- and p-channel JFETs fabricated by ion implantation into a high-purity semi-insulating SiC substrate2018

    • 著者名/発表者名
      M. Kaneko and T. Kimoto
    • 雑誌名

      IEEE Electron Device Letters

      巻: 39 号: 5 ページ: 723-726

    • DOI

      10.1109/led.2018.2822261

    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Analytical formula for temperature dependence of resistivity in p-type 4H-SiC with wide-range doping concentrations2018

    • 著者名/発表者名
      S. Asada, J. Suda and T. Kimoto
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 57 号: 8 ページ: 088002-088002

    • DOI

      10.7567/jjap.57.088002

    • NAID

      120006552908

    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 査読あり / オープンアクセス
  • [雑誌論文] Determination of surface recombination velocity from current-voltage characteristics in SiC p-n diodes2018

    • 著者名/発表者名
      S. Asada, J. Suda and T. Kimoto
    • 雑誌名

      IEEE Transactions on Electron Devices

      巻: 65 号: 11 ページ: 4786-4791

    • DOI

      10.1109/ted.2018.2867545

    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 査読あり
  • [学会発表] Progress and Future Challenges of SiC Power MOSFETs2021

    • 著者名/発表者名
      T. Kimoto, T. Kobayashi, K. Tachiki, K. Ito, and M. Kaneko
    • 学会等名
      5th IEEE Electron Devices Technology and Manufacturing Conference 2021
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] Progress and Future Prospects of High-Voltage SiC Power Devices2020

    • 著者名/発表者名
      T. Kimoto and M. Kaneko
    • 学会等名
      2020 Int. Symp. on VLSI Technology, Systems and Applications
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] Reverse Field Emission Current in Heavily-Doped SiC Schottky Barrier Diodes2020

    • 著者名/発表者名
      M. Hara, S. Asada, T. Maeda, and T. Kimoto
    • 学会等名
      International Symposium on Creation of Advanced Photonic and Electronic Devices 2020
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Accurate Determination of Barrier Heights in Heavily-Doped SiC Schottky Barrier Diodes Fabricated with Various Metals2020

    • 著者名/発表者名
      M. Hara, M. Kaneko, and T. Kimoto
    • 学会等名
      2020 Int. Conf. on Solid State Devices and Materials
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Lateral spreads of Al and P atoms implanted into a high-purity semi-insulating SiC substrate2020

    • 著者名/発表者名
      Q. Jin, M. Nakajima, M. Kaneko, and T. Kimoto
    • 学会等名
      2020 Int. Conf. on Solid State Devices and Materials
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Progress and future challenges of SiC power devices for energy efficiency2020

    • 著者名/発表者名
      T. Kimoto and M. Kaneko
    • 学会等名
      12th Int. Symp. on Advanced Plasma Sci. & Its Applications for Nitrides and Nanomaterials
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] SiC power devices: Overview, defect electronics, and reliability2019

    • 著者名/発表者名
      T. Kimoto
    • 学会等名
      2019 IEEE Int. Reliability Physics Symposium
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] Growth and defect reduction of SiC for low-loss power devices2019

    • 著者名/発表者名
      T. Kimoto
    • 学会等名
      2nd Nucreation and Growth Research Conference
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] Progress and future challenges of SiC power devices2019

    • 著者名/発表者名
      T. Kimoto
    • 学会等名
      Cambridge Power Electronics Colloquium 2019
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] Promise and future challenges of SiC power MOSFETs2019

    • 著者名/発表者名
      T. Kimoto, T. Kobayashi, K. Tachiki, and K. Ito
    • 学会等名
      International Conference on Insulating Films on Semiconductors 2019
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] Reduction of interface states in 4H-SiC/SiO2 near both conduction and valence band edges by high-temperature nitrogen annealing2019

    • 著者名/発表者名
      K. Tachiki and T. Kimoto
    • 学会等名
      International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2019
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Interface state density distributions near the conduction band edge originating from the conduction band fluctuation in SiO2/SiC systems2019

    • 著者名/発表者名
      K. Ito, T. Kobayashi, and T. Kimoto
    • 学会等名
      International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2019
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] Experimental study on short-channel effects in side-gate SiC JFETs2019

    • 著者名/発表者名
      M. Nakajima, Q. Jin, M. Kaneko, and T. Kimoto
    • 学会等名
      International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2019
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Forward thermionic field emission current and barrier height lowering in heavily-doped 4H-SiC Schottky barrier diodes2019

    • 著者名/発表者名
      M. Hara, S. Asada, T. Maeda, and T. Kimoto
    • 学会等名
      International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2019
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Impacts of high-temperature annealing and thermal oxidation on electrical properties of high-purity semi-insulating 4H-SiC substrates grown by HTCVD2019

    • 著者名/発表者名
      C. Koo, M. Kaneko, and T. Kimoto
    • 学会等名
      International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2019
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Depth profiles of deep levels generated by ICP-RIE in 4H-SiC2019

    • 著者名/発表者名
      K. Kanegae, T. Okuda, M. Horita, J. Suda, and T. Kimoto
    • 学会等名
      International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2019
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Breakdown characteristics of lateral PIN diodes fully fabricated by ion implantation into HTCVD-grown high-purity semi-insulating SiC substrate2019

    • 著者名/発表者名
      M. Kaneko, A. Tsibizov, T. Kimoto, and U. Grossner
    • 学会等名
      International Conference on Silicon Carbide and Related Materials 2019
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Resistivity of high-purity semi-insulating 4H-SiC substrates2019

    • 著者名/発表者名
      C. Koo, M. Kaneko, and T. Kimoto
    • 学会等名
      9th Asia-Pacific Workshop on Widegap Semiconductors
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Impacts of channel length on electrical characteristics in side-gate SiC JFETs2019

    • 著者名/発表者名
      M. Nakajima, Q. Jin, M. Kaneko, and T. Kimoto
    • 学会等名
      9th Asia-Pacific Workshop on Widegap Semiconductors
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Breakdown phenomena in high- and low-voltage SiC devices2019

    • 著者名/発表者名
      T. Kimoto, X. Chi, Y. Zhao, H. Niwa, and M. Kaneko
    • 学会等名
      Materials Research Meeting 2019
    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] Defect electronics in SiC for high-voltage power devices and future prospects2019

    • 著者名/発表者名
      T. Kimoto
    • 学会等名
      KIEEME-Silicon Carbide Conference
    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] 400℃ operation of normally-off n- and p-JFETs with a side-gate structure fabricated by ion implantation into a high-purity semi-insulating SiC substrate2018

    • 著者名/発表者名
      M. Nakajima, M. Kaneko, and T. Kimoto
    • 学会等名
      European Conf. on Silicon Carbide and Related Materials 2018
    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] Reduction of interface state density in SiC (0001) MOS structures by very-low-oxygen-partial-pressure annealing2018

    • 著者名/発表者名
      T. Kobayashi, K. Tachiki, K. Ito, Y. Matsushita, T. Kimoto
    • 学会等名
      European Conf. on Silicon Carbide and Related Materials 2018
    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] SiC vertical-channel n- and p-JFETs fully fabricated by ion implantation2018

    • 著者名/発表者名
      M. Kaneko, U. Grossner, and T. Kimoto
    • 学会等名
      European Conf. on Silicon Carbide and Related Materials 2018
    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Defect electronics in SiC for high-voltage power devices2018

    • 著者名/発表者名
      T. Kimoto, A. Iijima, S. Yamashita, and H. Niwa
    • 学会等名
      4th Intensive Discussion on Growth of Nitride Semiconductors
    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [産業財産権] SiC相補型電界効果トランジスタ2020

    • 発明者名
      金子光顕、木本恒暢
    • 権利者名
      京都大学
    • 産業財産権種類
      特許
    • 産業財産権番号
      2020-104834
    • 出願年月日
      2020
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書

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公開日: 2018-04-23   更新日: 2022-01-27  

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