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量子論コンピューティクスによるパワー半導体界面形成機構と電子物性の解明

研究課題

研究課題/領域番号 18H03873
研究種目

基盤研究(A)

配分区分補助金
応募区分一般
審査区分 中区分29:応用物理物性およびその関連分野
研究機関名古屋大学

研究代表者

押山 淳  名古屋大学, 未来材料・システム研究所, 特任教授 (80143361)

研究分担者 洗平 昌晃  名古屋大学, 未来材料・システム研究所, 助教 (20537427)
松下 雄一郎  東京工業大学, 物質・情報卓越教育院, 特任准教授 (90762336)
研究期間 (年度) 2018-04-01 – 2022-03-31
研究課題ステータス 完了 (2022年度)
配分額 *注記
42,120千円 (直接経費: 32,400千円、間接経費: 9,720千円)
2021年度: 11,050千円 (直接経費: 8,500千円、間接経費: 2,550千円)
2020年度: 11,050千円 (直接経費: 8,500千円、間接経費: 2,550千円)
2019年度: 11,050千円 (直接経費: 8,500千円、間接経費: 2,550千円)
2018年度: 8,970千円 (直接経費: 6,900千円、間接経費: 2,070千円)
キーワード量子論 / 密度汎関数理論 / コンピューティクス / HPC / パワーエレクトロニクス / エピタキシャル成長 / デバイス界面 / 原子反応 / 深層学習 / 機械学習
研究成果の概要

本課題の目的は、コンピューティクス・アプローチにより、パワー半導体科学の未解明の諸問題を量子論により解明することである。方法論としては、深層学習を用いた軌道不要のオーダーN計算スキーム(OFDFTスキーム)を新たに開発し、従来手法である我々のRSDFTスキーム(2011年ゴードンベル賞受賞)を凌駕する高速計算に成功した。パワー半導体科学としては、SiC、GaNにフォーカスし、RSDFT、OFDFTを用い、薄膜成長の機構解明、絶縁体とのデバイス界面でのキャリヤートラップのミクロな同定などに成功した。成果は、主要学術雑誌における29篇の原著論文、学会における11件の招待講演として公表された。

研究成果の学術的意義や社会的意義

半導体デバイス界面、薄膜成長表面での量子論に立脚した原子プロセス解明は、物理科学的には未踏の重要分野であり、またナノテクノロジーの局面に突入した工学および社会実装の観点からは、国の豊かさを支える技術的基盤である。本課題での量子論計算科学(コンピューティクス)アプローチによる計算手法の開発は、次世代スーパーコンピューター・アーキテクチャにおける計算科学の発展に寄与するものであり、またそれを応用した省エネルギー半導体デバイス構造での表面・界面原子反応の解明は我が国の半導体産業の復権に資するものである。

報告書

(5件)
  • 2022 研究成果報告書 ( PDF )
  • 2021 実績報告書
  • 2020 実績報告書
  • 2019 実績報告書
  • 2018 実績報告書
  • 研究成果

    (45件)

すべて 2023 2022 2021 2020 2019 2018 その他

すべて 国際共同研究 (2件) 雑誌論文 (28件) (うち国際共著 3件、 査読あり 28件、 オープンアクセス 1件) 学会発表 (12件) (うち国際学会 9件、 招待講演 11件) 備考 (3件)

  • [国際共同研究] University of Strasbourg(フランス)

    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
  • [国際共同研究] University of Strasbourg/Institut de Physique et Chimie(フランス)

    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
  • [雑誌論文] Microscopic physical origin of charge traps in 3D NAND flash memories2023

    • 著者名/発表者名
      Nanataki Fugo、Iwata Jun-Ichi、Chokawa Kenta、Araidai Masaaki、Oshiyama Atsushi、Shiraishi Kenji
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 62 号: SC ページ: SC1038-SC1038

    • DOI

      10.35848/1347-4065/acaeb3

    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Insight into the step flow growth of gallium nitride based on density functional theory2023

    • 著者名/発表者名
      My Bui Kieu、Shiraishi Kenji、Oshiyama Atsushi
    • 雑誌名

      Applied Surface Science

      巻: 613 ページ: 155840-155840

    • DOI

      10.1016/j.apsusc.2022.155840

    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Atomic and electronic structures of interfaces between amorphous (Al2O3)_(1-x)(SiO2)_x and GaN polar surfaces revealed by first-principles simulated annealing technique2023

    • 著者名/発表者名
      Chokawa Kenta、Shiraishi Kenji、Oshiyama Atsushi
    • 雑誌名

      Journal of Applied Physics

      巻: 133 号: 6 ページ: 065301-065301

    • DOI

      10.1063/5.0132033

    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Exploration of a large-scale reconstructed structure on GaN(0001) surface by Bayesian optimization2022

    • 著者名/発表者名
      Kusaba A.、Kangawa Y.、Kuboyama T.、Oshiyama A.
    • 雑誌名

      Applied Physics Letters

      巻: 120 号: 2 ページ: 021602-021602

    • DOI

      10.1063/5.0078660

    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] An atomistic insight into reactions and free-energy profiles of NH3 and Ga on GaN surfaces during the epitaxial growth2022

    • 著者名/発表者名
      Boero Mauro、My Bui Kieu、Shiraishi Kenji、Ishisone Kana、Kangawa Yoshihiro、Oshiyama Atsushi
    • 雑誌名

      Applied Surface Science

      巻: 599 ページ: 153935-153935

    • DOI

      10.1016/j.apsusc.2022.153935

    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 査読あり / 国際共著
  • [雑誌論文] Microscopic identification of stepped SiC(0001) and the reaction site of hydrogen-rich epitaxial growth2022

    • 著者名/発表者名
      Kimura Tomoya、Chokawa Kenta、Shiraishi Kenji、Oshiyama Atsushi
    • 雑誌名

      Physical Review B

      巻: 106 号: 3 ページ: 035309-035309

    • DOI

      10.1103/physrevb.106.035309

    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Chickens or Eggs in the Atomic World: Structures and Electronic Properties of Defects in Semiconductors2022

    • 著者名/発表者名
      Oshiyama Atsushi
    • 雑誌名

      JPSJ News and Comments

      巻: 19 ページ: 12-12

    • DOI

      10.7566/jpsjnc.19.12

    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Atomistic insight into the initial stage of graphene formation on SiC(0001) surfaces2022

    • 著者名/発表者名
      Boero Mauro、Imoto Fumihiro、Oshiyama Atsushi
    • 雑誌名

      Physical Review Materials

      巻: 6 号: 9 ページ: 093403-093403

    • DOI

      10.1103/physrevmaterials.6.093403

    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 査読あり / 国際共著
  • [雑誌論文] Atomic and electronic structures of nitrogen vacancies in silicon nitride: Emergence of floating gap states2022

    • 著者名/発表者名
      Nanataki Fugo、Shiraishi Kenji、Iwata Jun-ichi、Matsushita Yu-ichiro、Oshiyama Atsushi
    • 雑誌名

      Physical Review B

      巻: 106 号: 15 ページ: 155201-155201

    • DOI

      10.1103/physrevb.106.155201

    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Microscopic mechanism of adatom diffusion on stepped SiC surfaces revealed by first-principles calculations2021

    • 著者名/発表者名
      Seino Kaori、Oshiyama Atsushi
    • 雑誌名

      Applied Surface Science

      巻: 561 ページ: 149927-149927

    • DOI

      10.1016/j.apsusc.2021.149927

    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Defect-free interface between amorphous (Al2O3)_(1-x)(SiO2)_x and GaN(0001) revealed by first-principles simulated annealing technique2021

    • 著者名/発表者名
      Chokawa Kenta、Shiraishi Kenji、Oshiyama Atsushi
    • 雑誌名

      Applied Physics Letters

      巻: 119 号: 1 ページ: 011602-011602

    • DOI

      10.1063/5.0047088

    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Order-N orbital-free density-functional calculations with machine learning of functional derivatives for semiconductors and metals2021

    • 著者名/発表者名
      Fumihiro Imoto, Masatoshi Imada, and Atsushi Oshiyama
    • 雑誌名

      Phys. Rev. Res.

      巻: 3 号: 3 ページ: 033198-033198

    • DOI

      10.1103/physrevresearch.3.033198

    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 査読あり / オープンアクセス
  • [雑誌論文] Gallium-gallium weak bond that incorporates nitrogen at atomic steps during GaN epitaxial growth2021

    • 著者名/発表者名
      K. M. Bui, K. Shiraishi and A. Oshiyama
    • 雑誌名

      Applied Surface Science

      巻: 557

    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Oxygen Incorporation Kinetics in Vicinal m (10-10) Gallium Nitride Growth by Metal‐Organic Vapor Phase Epitaxy2020

    • 著者名/発表者名
      Yosho Daichi、Shintaku Fumiya、Inatomi Yuya、Kangawa Yoshihiro、Iwata Jun-Ichi、Oshiyama Atsushi、Shiraishi Kenji、Tanaka Atsushi、Amano Hiroshi
    • 雑誌名

      physica status solidi (RRL) Rapid Research Letters

      巻: 2020 号: 6 ページ: 2000142-2000142

    • DOI

      10.1002/pssr.202000142

    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Absence of oxygen-vacancy-related deep levels in amorphous (Al2O3)_{1-x}(SiO2)_x: First-principles exploration of gate oxides in GaN-based devices2020

    • 著者名/発表者名
      K. Chokawa, T. Narita, D. Kikuta, T. Kachi, K. Shiozaki, A. Oshiyama and K. Shiraishi
    • 雑誌名

      Physical Review Applied

      巻: 14 号: 1

    • DOI

      10.1103/physrevapplied.14.014034

    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Screw dislocation that converts p-type GaN to n-type: Microscopic study on Mg condensation and leakagae current in p-n diodes2020

    • 著者名/発表者名
      T. Nakano, Y. Harashima, K. Chokawa, K. Shiraishi, A. Oshiyama, Y. Kangawa, S. Usami, N. Mayama, K. Toda, A. Tanaka, Y. Honda, and H. Amano
    • 雑誌名

      Applied Physics Letters

      巻: 117 号: 1

    • DOI

      10.1063/5.0010664

    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Microscopic Identification of Surface Steps on SiC by Density-Functional Calculations2020

    • 著者名/発表者名
      K. Seino and A. Oshiyama
    • 雑誌名

      Material Science Forum (Trans Tech Publications)

      巻: 1004 ページ: 145-152

    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Computational study of oxygen stability in vicinal m(10-10)-GaN growth by MOVPE2020

    • 著者名/発表者名
      Shintaku Fumiya、Yosho Daichi、Kangawa Yoshihiro、Iwata Jun-Ichi、Oshiyama Atsushi、Shiraishi Kenji、Tanaka Atsushi、Amano Hiroshi
    • 雑誌名

      Applied Physics Express

      巻: 13 号: 5 ページ: 055507-055507

    • DOI

      10.35848/1882-0786/ab8723

    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Density-Functional Calculations for Structures and Energetics of Atomic Steps and their Implication for Surface Morphology on Si-face SiC Polar Surfaces2020

    • 著者名/発表者名
      K. Seino and A. Oshiyama
    • 雑誌名

      Physical Review B

      巻: 101 号: 19

    • DOI

      10.1103/physrevb.101.195307

    • NAID

      120006884973

    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Energetics of the surface step and its morphology on the 3C-SiC(111) surface clarified by the density-functional theory2019

    • 著者名/発表者名
      Seino Kaori、Oshiyama Atsushi
    • 雑誌名

      Applied Physics Express

      巻: 13 号: 1 ページ: 015506-015506

    • DOI

      10.7567/1882-0786/ab598a

    • NAID

      210000157618

    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] A two-dimensional liquid-like phase on Ga-rich GaN (0001) surfaces evidenced by first principles molecular dynamics2019

    • 著者名/発表者名
      Bui Kieu My、Boero Mauro、SHIRAISHI Kenji、Oshiyama Atsushi
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 59 号: SG ページ: 1-5

    • DOI

      10.7567/1347-4065/ab650b

    • NAID

      210000157879

    • 関連する報告書
      2019 実績報告書
    • 査読あり / 国際共著
  • [雑誌論文] First-principle study of ammonia decomposition and nitrogen incorporation on the GaN surface in metal organic vapor phase epitaxy2019

    • 著者名/発表者名
      Bui Kieu My、Iwata Jun-Ichi、Kangawa Yoshihiro、Shiraishi Kenji、Shigeta Yasuteru、Oshiyama Atsushi
    • 雑誌名

      Journal of Crystal Growth

      巻: 507 ページ: 421-424

    • DOI

      10.1016/j.jcrysgro.2018.11.031

    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] First-Principles Study of Oxygen-Related Defects on 4H-SiC Surface: The Effects of Surface Amorphous Structure2019

    • 著者名/発表者名
      Y. Matsushita, Y. Furukawa, Y. Hijikata, T. Ohshima
    • 雑誌名

      Applied Surface Science

      巻: 464 ページ: 451-454

    • DOI

      10.1016/j.apsusc.2018.09.072

    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Native point defects and carbon clusters in 4H-SiC: A hybrid functional study2019

    • 著者名/発表者名
      Kobayashi Takuma、Harada Kou、Kumagai Yu、Oba Fumiyasu、Matsushita Yu-ichiro
    • 雑誌名

      Journal of Applied Physics

      巻: 125 号: 12 ページ: 125701-125701

    • DOI

      10.1063/1.5089174

    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Microscopic mechanism of carbon annihilation upon SiC oxidation due to phosphorus treatment: Density functional calculations combined with ion mass spectrometry2018

    • 著者名/発表者名
      Kobayashi Takuma、Matsushita Yu-ichiro、Okuda Takafumi、Kimoto Tsunenobu、Oshiyama Atsushi
    • 雑誌名

      Applied Physics Express

      巻: 11 号: 12 ページ: 121301-121301

    • DOI

      10.7567/apex.11.121301

    • NAID

      210000136420

    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Reaction Pathway of Surface-Catalyzed Ammonia Decomposition and Nitrogen Incorporation in Epitaxial Growth of Gallium Nitride2018

    • 著者名/発表者名
      Bui Kieu My、Iwata Jun-Ichi、Kangawa Yoshihiro、Shiraishi Kenji、Shigeta Yasuteru、Oshiyama Atsushi
    • 雑誌名

      The Journal of Physical Chemistry C

      巻: 122 号: 43 ページ: 24665-24671

    • DOI

      10.1021/acs.jpcc.8b05682

    • NAID

      120006554478

    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Structural determination of phosphosilicate glass based on first-principles molecular dynamics calculation2018

    • 著者名/発表者名
      Kobayashi Takuma、Matsushita Yu-ichiro、Kimoto Tsunenobu、Oshiyama Atsushi
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 58 号: 1 ページ: 011001-011001

    • DOI

      10.7567/1347-4065/aae89b

    • NAID

      210000135187

    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Structural stability and energy levels of carbon-related defects in amorphous SiO2 and its interface with SiC2018

    • 著者名/発表者名
      Matsushita Yu-ichiro、Oshiyama Atsushi
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 57 号: 12 ページ: 125701-125701

    • DOI

      10.7567/jjap.57.125701

    • NAID

      210000149880

    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 査読あり
  • [学会発表] `Clarification of Microscopic Mechanisms of GaN Epitaxial Growth and Interface Formation by Density-Functional Calculations2022

    • 著者名/発表者名
      Atsushi Oshiyama
    • 学会等名
      The 20th International Conference on Metalorganic Vapor Phase Epitaxy
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] Computics approach to development of the next-generation semiconductor science2022

    • 著者名/発表者名
      Atsushi Oshiyama
    • 学会等名
      The 30th Anniversary Symposium of the Center for Computational Sciences at the University of Tsukuba
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] Computics Approach to Dislocation-Impurity Complexes and Interface Characteristics of GaN Devices2021

    • 著者名/発表者名
      Atsushi Oshiyama
    • 学会等名
      The 31st Int Conf Defects in Semiconducotors
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] Computics Approach in Science of Power Electronics2021

    • 著者名/発表者名
      Atsushi Oshiyama
    • 学会等名
      1st Int Conf on Computational Science and Data Analytics: COMDATA 2021
    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] Structures, electron states and reactions on growing surfaces and at device interfaces of SiC and GaN2021

    • 著者名/発表者名
      A. Oshiyama
    • 学会等名
      International Symposium on Wide Gap Semiconductor Growth, Process and Device Simulation 2021 (ISWGPDs2021)
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] パワー半導体エピタキシャル成長機構解明とデバイス界面制御に向けたコンピュ―ティクス・アプローチ2021

    • 著者名/発表者名
      押山淳
    • 学会等名
      計算物質科学人材育成コンソーシアム(PCoMS)シンポジウム
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] Computics Approach toward Clarification of Atomic Reactions during Epitaxial Growth of GaN2020

    • 著者名/発表者名
      A. Oshiyama
    • 学会等名
      Int. Conf. Simulation of Semiconductor Processes and Devices (SISPAD)
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] 大規模第一原理計算とデバイス・プロセスシミュレータ統合に向けて-パワー半導体を中心に-2020

    • 著者名/発表者名
      押山淳
    • 学会等名
      電子情報通信学会
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] Large-scale density-functional calculations in real space and its application to bilayer graphene and semiconductor epitaxial growth2019

    • 著者名/発表者名
      Atsushi Oshiyama
    • 学会等名
      American Physical Society March Meeting (Boston, USA)
    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] Reaction Pathway of Surface-Catalyzed Ammonia Decomposition and Nitrogen Incorporation in Epitaxial Growth of Gallium Nitride2019

    • 著者名/発表者名
      K.M. Bui, M. Boero, K. Shiraishi and A. Oshiyama
    • 学会等名
      American Physical Society March Meeting (Boston, USA)
    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Computics approach to power semiconductors: Reactions in GaN epitaxial growth and carrier traps near SiC/SiO2 Interfaces2018

    • 著者名/発表者名
      Atsushi Oshiyama
    • 学会等名
      37th Electronic Materials Symposium (Nagahama, Shiga Japan)
    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] Electronic Properties of Nanometer-Scale Surfaces and Interfaces through Computics Approach2018

    • 著者名/発表者名
      押山 淳
    • 学会等名
      日本真空表面学会学術講演会(神戸)
    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 招待講演
  • [備考] 押山研究室 名古屋大学未来材料・システム研究所

    • URL

      http://ccs.engg.nagoya-u.ac.jp/oshiyama/

    • 関連する報告書
      2021 実績報告書 2020 実績報告書 2018 実績報告書
  • [備考] 「富岳」成果創出加速プログラム 省エネルギー次世代半導体デバイス開発のための量子論

    • URL

      https://fugaku-semicon.jp/

    • 関連する報告書
      2021 実績報告書
  • [備考] 名古屋大学未来材料システム研究所 押山研究室

    • URL

      http://ccs.engg.nagoya-u.ac.jp/oshiyama/

    • 関連する報告書
      2019 実績報告書

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公開日: 2018-04-23   更新日: 2024-01-30  

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