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トップゲ ート型単一有機半導体CMOSに関する研究

研究課題

研究課題/領域番号 18J14821
研究種目

特別研究員奨励費

配分区分補助金
応募区分国内
研究分野 電子デバイス・電子機器
研究機関東京工業大学

研究代表者

前田 康貴  東京工業大学, 工学院, 特別研究員(DC2)

研究期間 (年度) 2018-04-25 – 2020-03-31
研究課題ステータス 完了 (2018年度)
配分額 *注記
1,900千円 (直接経費: 1,900千円)
2018年度: 1,000千円 (直接経費: 1,000千円)
キーワード有機半導体CMOS / ペンタセン / 窒素添加LaB6 / 界面制御層
研究実績の概要

Siでは実現が困難なフレキシブルデバイスなどの次世代デバイスへの応用が期待されている有機半導体を用いた集積回路の実現には、有機半導体トランジスタ(OFET)の高移動度化とともに、微細化・高集積化による高速化・低消費電力化が必要となる。本研究では、代表的なp型有機半導体であるペンタセンを用いて、大気中動作可能な単一有機半導体相補型トランジスタ(CMOS)の実現および特性向上を目的として、低仕事関数を有し、大気中で安定な窒素添加LaB6によるペンタセンデバイスの電気特性向上に関する検討を行った。
まず、窒素添加LaB6ボトムコンタクト電極を用いたバックゲート型のn型ペンタセンOFETについて検討した。改良した電極形成プロセスを用いてチャネル長6.4 μmを有するOFETを作製し、大気中においてペンタセン薄膜への電子注入の実現に初めて成功した。さらに、先行研究において絶縁膜としての特性が示されている非晶質ルブレン薄膜20 nmをペンタセン薄膜10 nm上に連続堆積して形成したOFETにおいても、ペンタセン薄膜へ電子を注入できることが分かった。今回の検討により、トップゲート型のOFETにも適用可能な成膜プロセスであることを明らかにした。
次に、窒素添加LaB6界面制御層によるp型ペンタセンOFETのしきい値電圧制御を用いた擬似CMOSに関する検討を行った。窒素添加LaB6界面制御層により、しきい値電圧を-2.6 Vにシフトさせた駆動OFETと、しきい値電圧2.1 Vの負荷OFETを組み合わせて、単一ゲート構造の擬似CMOSを作製した。新たに設計したステンシルマスクにより、デバイス面積を4.7 mm2まで縮小した擬似CMOSは、大気中において動作電圧-5 Vでロジックスイング4.3 Vを有するインバータ特性を示し、ペンタセンデバイスの微細化および低電圧動作化に向けた指針を示した。

現在までの達成度 (段落)

翌年度、交付申請を辞退するため、記入しない。

今後の研究の推進方策

翌年度、交付申請を辞退するため、記入しない。

報告書

(1件)
  • 2018 実績報告書
  • 研究成果

    (14件)

すべて 2019 2018 その他

すべて 雑誌論文 (5件) (うち査読あり 4件) 学会発表 (8件) (うち国際学会 4件) 備考 (1件)

  • [雑誌論文] AuGe-Alloy Source and Drain Formation by the Lift-Off Process for the Scaling of Bottom-Contact Type Pentacene-Based OFETs2019

    • 著者名/発表者名
      OHMI Shun-ichiro、HIROKI Mizuha、MAEDA Yasutaka
    • 雑誌名

      IEICE Transactions on Electronics

      巻: E102.C 号: 2 ページ: 138-142

    • DOI

      10.1587/transele.2018OMP0008

    • NAID

      130007600504

    • ISSN
      0916-8524, 1745-1353
    • 年月日
      2019-02-01
    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Scaling of top-gate/bottom-contact pentacene-based organic field-effect transistors with amorphous rubrene gate insulator2019

    • 著者名/発表者名
      Ohmi Shun-ichiro、Hiroki Mizuha、Park Kyung Eun、Maeda Yasutaka
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 58 号: SB ページ: SBBG01-SBBG01

    • DOI

      10.7567/1347-4065/aaf87a

    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Electron Injection of N-type Pentacene-Based OFET with Nitrogen-Doped LaB<sub>6</sub> Bottom-Contact Electrodes2018

    • 著者名/発表者名
      Yasutaka Maeda, Mizuha Hiroki, and Shun-ichiro Ohmi
    • 雑誌名

      IEICE Transactions on Electronics

      巻: E101.C 号: 5 ページ: 323-327

    • DOI

      10.1587/transele.E101.C.323

    • NAID

      130006729709

    • ISSN
      0916-8524, 1745-1353
    • 年月日
      2018-05-01
    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] 窒素添加LaB6界面制御層によるペンタセン/SiO2界面特性向上に関する検討2018

    • 著者名/発表者名
      前田 康貴、朴 鏡恩、小松 勇貴、大見 俊一郎
    • 雑誌名

      IEICE Technical Report

      巻: vol. 118, No. 241 ページ: 41-45

    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
  • [雑誌論文] Investigation of pentacene growth on SiO2 gate insulator after photolithography for nitrogen-doped LaB6 bottom-contact electrode formation2018

    • 著者名/発表者名
      Yasutaka Maeda, Mizuha Hiroki, and Shun-ichiro Ohmi
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys.

      巻: 57 号: 4S ページ: 04FL13-04FL13

    • DOI

      10.7567/jjap.57.04fl13

    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 査読あり
  • [学会発表] 窒素添加LaB6界面制御層によるしきい値電圧制御型ペンタセンPseudo-CMOSの低電圧動作2019

    • 著者名/発表者名
      前田 康貴、朴 鏡恩、小松 勇貴、大見 俊一郎
    • 学会等名
      第66回応用物理学会春季学術講演会
    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
  • [学会発表] Deposition temperature dependence on N-doped LaB6 thin film utilizing RF sputtering2019

    • 著者名/発表者名
      朴 鏡恩、小松 勇貴、前田 康貴、大見 俊一郎
    • 学会等名
      第66回応用物理学会春季学術講演会
    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
  • [学会発表] 窒素添加LaB6界面制御層によるペンタセン/SiO2界面特性向上に関する検討2018

    • 著者名/発表者名
      前田 康貴、朴 鏡恩、小松 勇貴、大見 俊一郎
    • 学会等名
      シリコン材料・デバイス研究会 (SDM 2018)
    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
  • [学会発表] 窒素添加LaB6界面制御層によるしきい値電圧制御を用いたペンタセンPseudo-CMOSの堆積温度依存性2018

    • 著者名/発表者名
      前田 康貴、朴 鏡恩、小松 勇貴、大見 俊一郎
    • 学会等名
      第79回応用物理学会秋季学術講演会
    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
  • [学会発表] Scalable Pentacene-based Pseudo-CMOS Inverter Realized by Threshold Voltage Control utilizing Nitrogen-doped LaB6 Interfacial Layer2018

    • 著者名/発表者名
      Yasutaka Maeda、Mizuha Hiroki、Yuki Komatsu、Shun-ichiro Ohmi
    • 学会等名
      2018 International Conference on Solid State Device and Materials (SSDM 2018)
    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] A study on the nitrogen-doped LaB6 thin film formation utilizing RF sputtering2018

    • 著者名/発表者名
      Kyung Eun Park、Yasutaka Maeda、Yuki Komatsu、Shun-Ichiro Ohmi
    • 学会等名
      The 3rd International Symposium on Biomedical Engineering (ISBE 2018)
    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Scaling of Top-Gate/Bottom-Contact Pentacene-Based OFET with Amorphous Rubrene Gate Insulator2018

    • 著者名/発表者名
      Shun-ichiro Ohmi、Mizuha Hiroki、Yasutaka Maeda
    • 学会等名
      2018 International Conference on Solid State Device and Materials (SSDM 2018)
    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] AuGe source and drain formation for the scaling of bottom-contact type pentacene-based OFETs2018

    • 著者名/発表者名
      Shun-ichiro Ohmi、Mizuha Hiroki、Yasutaka Maeda
    • 学会等名
      10th International Symposium on Organic Molecular Electronics (ISOME2018)
    • 関連する報告書
      2018 実績報告書
    • 国際学会
  • [備考] 大見研究室ホームページ

    • URL

      http://www.sdm.ee.e.titech.ac.jp/

    • 関連する報告書
      2018 実績報告書

URL: 

公開日: 2018-05-01   更新日: 2024-03-26  

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