| 研究課題/領域番号 |
18K04900
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 審査区分 |
小区分28030:ナノ材料科学関連
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| 研究機関 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
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研究代表者 |
武仲 能子 国立研究開発法人産業技術総合研究所, 材料・化学領域, 主任研究員 (60467454)
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| 研究期間 (年度) |
2018-04-01 – 2021-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2020年度)
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| 配分額 *注記 |
4,420千円 (直接経費: 3,400千円、間接経費: 1,020千円)
2020年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
2019年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
2018年度: 1,820千円 (直接経費: 1,400千円、間接経費: 420千円)
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| キーワード | 界面活性剤 / 金ナノロッド / 銀ナノロッド / ゲル / ミセル / ナノ粒子 / 常温プロセス / ナノロッド / 成長メカニズム / ゲル化 |
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| 研究成果の概要 |
本研究では、界面活性剤水溶液中で成長する金ナノロッドの成長メカニズムを調べ、準安定状態である界面活性剤のゲル相が長時間持続し、ミセル相と共存することが、ナノロッド伸長に重要であることを明らかにした。また、同合成法を銀に応用することで、これまで高温条件での合成が一般的であった、1マイクロメートルを超える銀ナノロッドの、常温・常圧合成に成功した。得られた銀ナノロッドは、大腸菌をもちいた抗菌試験の結果、抗菌能を持つことが示された。
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| 研究成果の学術的意義や社会的意義 |
1マイクロメートルを超える長い金ナノロッドは、光学素子や細胞プローブへの応用が期待されるナノ材料である。申請者らはこれまでに、界面活性剤のゲル中で金ナノロッドが長く成長することを明らかにしていたが、その成長メカニズムは不明であった。今回、成長メカニズムを明らかにすることで、同様の成長法を銀に応用することができ、従来高温条件での合成が一般的だった銀ナノロッドを、常温常圧の条件で1マイクロメートル以上に成長させることが出来た。この結果は、1マイクロメートルを超える長い銀ナノロッド合成の省エネルギー化に、成功したと言えるものである。
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