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層状半導体材料を用いた新規薄型光支援熱電子エミッタの開発

研究課題

研究課題/領域番号 18K04934
研究種目

基盤研究(C)

配分区分基金
応募区分一般
審査区分 小区分29020:薄膜および表面界面物性関連
研究機関静岡大学

研究代表者

荻野 明久  静岡大学, 工学部, 准教授 (90377721)

研究期間 (年度) 2018-04-01 – 2021-03-31
研究課題ステータス 完了 (2020年度)
配分額 *注記
4,420千円 (直接経費: 3,400千円、間接経費: 1,020千円)
2020年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円)
2019年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
2018年度: 2,340千円 (直接経費: 1,800千円、間接経費: 540千円)
キーワード熱電子放出 / 二硫化モリブデン / 窒化アルミニウムガリウム / 光支援熱電子発電 / 薄膜 / プラズマ / 熱電子 / 半導体
研究成果の概要

光支援熱電子発電のエミッタ開発を目的とし、CVD法により二硫化モリブデン(MoS2)薄膜を合成し、プラズマ処理による高機能化を行った。アルゴンまたは水素プラズマ処理による硫黄欠陥形成でMoS2のn型化、窒素プラズマ処理により硫黄欠陥に窒素を注入することでp型化することを示す結果が得られた。
セシウム被覆した窒化アルミニウムガリウム(AlGaN)エミッタでは、AlとGaを同比率としたときに電子放出開始の閾値温度が最も低減し約330 ℃での熱電子放出を確認した。また、エミッタ温度600 ℃に昇温すると発電領域での動作し、出力電圧0.14 Vが得られた。

研究成果の学術的意義や社会的意義

低温で高効率な熱電子発電の実現に向けて、二硫化モリブデンおよび窒化アルミニウムガリウム半導体による低温熱電子放出源を開発し、従来の金属熱電子源よりも圧倒的に低い300℃での熱電子放出を観測した。二硫化モリブデンの硫黄欠陥形成とドーピングにおいて、低温プラズマ処理は有効である。プラズマ処理技術を用いて二硫化モリブデンのバンド構造ならびに表面特性を向上させることで、可視光を効率的に電子放出に利用できる電子減が期待できる。本研究の成果は、半導体エミッタの低抵抗化、低電子親和力化について有用であり、狭真空ギャップの熱電発電器モジュールの作製において有用な知見といえる。

報告書

(4件)
  • 2020 実績報告書   研究成果報告書 ( PDF )
  • 2019 実施状況報告書
  • 2018 実施状況報告書
  • 研究成果

    (28件)

すべて 2021 2020 2019 2018

すべて 雑誌論文 (3件) (うち査読あり 3件、 オープンアクセス 1件) 学会発表 (25件) (うち国際学会 11件)

  • [雑誌論文] Surface polarity dependence of thermionic emission and conversion characteristics of n-type GaN cathodes2021

    • 著者名/発表者名
      Shigeya Kimura, Hisashi Yoshida, Hisao Miyazaki, Takuya Fujimoto, Akihisa Ogino
    • 雑誌名

      J. Vac. Sci. Technol.

      巻: B39 号: 1

    • DOI

      10.1116/6.0000710

    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 査読あり / オープンアクセス
  • [雑誌論文] Thermionic emission and conversion properties of n-type AlGaN thin film cathodes grown on 6H-SiC substrates2020

    • 著者名/発表者名
      Kimura Shigeya、Yoshida Hisashi、Uchida Shota、Ogino Akihisa
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 59 号: SG ページ: SGGF01-SGGF01

    • DOI

      10.7567/1347-4065/ab5be4

    • NAID

      210000157672

    • 関連する報告書
      2019 実施状況報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Surface Electronic Properties of Si‐Doped AlGaN and Thermionic Emission Characteristics with Adsorption of Alkali Metal Atoms2019

    • 著者名/発表者名
      Kimura Shigeya、Yoshida Hisashi、Uchida Shota、Ogino Akihisa
    • 雑誌名

      physica status solidi (a)

      巻: 217 号: 7 ページ: 1900719-1900719

    • DOI

      10.1002/pssa.201900719

    • 関連する報告書
      2019 実施状況報告書
    • 査読あり
  • [学会発表] CVD法によるMoS2の形態制御とプラズマ処理による硫黄欠陥密度の最適化2021

    • 著者名/発表者名
      浅田 柊哉、荻野 明久
    • 学会等名
      第68回応用物理学会春季学術講演会
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
  • [学会発表] 高Al組成AlGaN薄膜からの熱電子放出特性における酸素の影響2021

    • 著者名/発表者名
      藤本 拓矢、木村 重哉、吉田 学史、宮崎 久生、荻野 明久
    • 学会等名
      第68回応用物理学会春季学術講演会
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
  • [学会発表] Effect of Si Doping Concentration of N-Type AlGaN on Thermionic Emission2021

    • 著者名/発表者名
      Takuya Fujimoto, Akihisa Ogino, Shigeya Kimura, Hisashi Yoshida, Hisao Miyazaki
    • 学会等名
      ISPlasma2021 / IC-PLANTS2021
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Basal Plane Modification of CVD-Grown Monolayer MoS2 by Hydrogen Plasma Treatment2021

    • 著者名/発表者名
      Shuya Asada, Akihisa Ogino
    • 学会等名
      ISPlasma2021 / IC-PLANTS2021
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] プラズマ処理を用いたMoS2薄膜の硫黄欠陥形成と酸素結合の影響2020

    • 著者名/発表者名
      浅田 柊哉, 荻野 明久
    • 学会等名
      第37回プラズマ・核融合学会年会
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
  • [学会発表] マイクロ波プラズマを用いたMoS2の硫黄欠陥形成と窒素ドーピング2020

    • 著者名/発表者名
      都築 聖親, 荻野 明久
    • 学会等名
      第37回プラズマ・核融合学会年会
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
  • [学会発表] Polarity-dependent emission and conversion characteristics of GaN-based thermionic cathodes2020

    • 著者名/発表者名
      Shigeya Kimura, Hisashi Yoshida, Hisao Miyazaki, Takeshi Ito, Akihisa Ogino
    • 学会等名
      33rd International Vacuum Nanoelectronics Conference (IVNC)
    • 関連する報告書
      2020 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Output Characteristics of Thermionic Energy Converter with AlGaN Emitter2020

    • 著者名/発表者名
      Akihisa Ogino, Syota Uchida, Shigeya Kimura, Hisashi Yoshida
    • 学会等名
      ISPlasma2020 / IC-PLANTS2020
    • 関連する報告書
      2019 実施状況報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] AlxGa1-xN/6H-SiCの光支援熱電子放出における照射光スペクトルの影響2020

    • 著者名/発表者名
      伊藤 健, 内田 翔太, 木村 重哉, 吉田 学史, 荻野 明久
    • 学会等名
      第67回応用物理学会春季学術講演会
    • 関連する報告書
      2019 実施状況報告書
  • [学会発表] マイクロ波励起プラズマを用いたMoS2薄膜の硫黄欠陥形成におけるイオン遮蔽の影響2020

    • 著者名/発表者名
      都築 聖親, 荻野 明久
    • 学会等名
      第67回応用物理学会春季学術講演会
    • 関連する報告書
      2019 実施状況報告書
  • [学会発表] Surface Modification of Molybdenum Disulfide Synthesized from Molybdenum Thin Film2019

    • 著者名/発表者名
      Akihisa Ogino, Tsuzuki Masachika
    • 学会等名
      Materials Research Meeting 2019
    • 関連する報告書
      2019 実施状況報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] マイクロ波励起水素プラズマにより改質されたCVD成長MoS2基底面の構造変化2019

    • 著者名/発表者名
      都築 聖親, 荻野 明久
    • 学会等名
      第36回プラズマ・核融合学会年会
    • 関連する報告書
      2019 実施状況報告書
  • [学会発表] セシウム被覆AlxGa1-xNエミッタの熱電子放出特性2019

    • 著者名/発表者名
      内田 翔太, 木村 重哉, 吉田 学史, 荻野 明久
    • 学会等名
      第80回応用物理学会秋期学術講演会
    • 関連する報告書
      2019 実施状況報告書
  • [学会発表] アルカリ金属吸着SiドープAlGaNの熱電子放出特性2019

    • 著者名/発表者名
      吉田 学史,木村 重哉,内田 翔太,荻野 明久
    • 学会等名
      第80回応用物理学会秋期学術講演会
    • 関連する報告書
      2019 実施状況報告書
  • [学会発表] Thermionic Emission Properties of n-type AlGaN Cathodes2019

    • 著者名/発表者名
      Shigeya Kimura, Hisashi Yoshida, Shota Uchida and Akihisa Ogino
    • 学会等名
      2019 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM2019)
    • 関連する報告書
      2019 実施状況報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Effect of Plasma Treatment on Activating Basal Plane of Monolayer MoS2 Synthesized by CVD2019

    • 著者名/発表者名
      Akihisa Ogino, Masahiro Sugiyama
    • 学会等名
      The Joint Conference of XXXIV International Conference on Phenomena in Ionized Gases (XXXIV ICPIG) and the 10th International Conference on Reactive Plasmas (ICRP-10)
    • 関連する報告書
      2019 実施状況報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Surface Electronic Properties of Si-Doped AlGaN and the Thermionic Emission Characteristics with Adsorption of Alkali Metal Atom2019

    • 著者名/発表者名
      Shigeya Kimura, Hisashi Yoshida, Shota Uchida and Akihisa Ogino
    • 学会等名
      13th International Conference on Nitride Semiconductors 2019 (ICNS-13)
    • 関連する報告書
      2019 実施状況報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Microwave Plasma Treatment of CVD-Synthesized Single- and Few-Layer MoS22019

    • 著者名/発表者名
      Akihisa Ogino, Masahiro Sugiyama
    • 学会等名
      ISPlasma2019 / IC-PLANTS2019
    • 関連する報告書
      2018 実施状況報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] 窒化物半導体の熱電子放出特性におけるアルカリ金属吸着の影響2019

    • 著者名/発表者名
      内田 翔太, 安原 弘一郎, 木村 重哉, 吉田 学史, 荻野 明久
    • 学会等名
      第66回応用物理学会春季学術講演会
    • 関連する報告書
      2018 実施状況報告書
  • [学会発表] Thermionic Emission Characteristics of Nanocrystalline Diamond Thin Film Irradiated with Microwave Excited Hydrogen Plasma2019

    • 著者名/発表者名
      Koichiro Yasuhara, Yosiki Nakano, Akihisa Ogino
    • 学会等名
      第36回プラズマプロセシング研究会/第31回プラズマ材料科学シンポジウム(SPP-36/SPSM-31)
    • 関連する報告書
      2018 実施状況報告書
  • [学会発表] Growth Control of Monolayer MoS 2 by CVD and Desulfurization of MoS 2 by MW Hydrogen Plasma2019

    • 著者名/発表者名
      Masahiro Sugiyama, Akihisa Ogino
    • 学会等名
      第36回プラズマプロセシング研究会/第31回プラズマ材料科学シンポジウム(SPP-36/SPSM-31)
    • 関連する報告書
      2018 実施状況報告書
  • [学会発表] Rapid Desulfurization by MW Hydrogen Plasma of CVD-grown MoS2 Thin Film2018

    • 著者名/発表者名
      Masahiro Sugiyama, Akihisa Ogino
    • 学会等名
      第28回日本MRS年次大会
    • 関連する報告書
      2018 実施状況報告書
  • [学会発表] Surface Investigation of Oxidized Carbon Films Prepared by Atmospheric Pressure Plasma and Low Pressure Microwave Plasma2018

    • 著者名/発表者名
      A. Ogino, K. Yasuhara and Y. Hasegawa
    • 学会等名
      40th International Symposium on Dry Process (DPS2018)
    • 関連する報告書
      2018 実施状況報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Surface Modification of Two-Dimensional Layered Molybdenum Disulfide Thin Film Using MW Hydrogen Plasma2018

    • 著者名/発表者名
      Masahiro Sugiyama, Akihisa Ogino
    • 学会等名
      2nd Asia-Pacific Conference on Plasma Physics
    • 関連する報告書
      2018 実施状況報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] MoS2膜の層数制御成長と水素プラズマ処理によるS/Moの依存性2018

    • 著者名/発表者名
      杉山雅浩, 荻野 明久
    • 学会等名
      第79回応用物理学会秋期学術講演会
    • 関連する報告書
      2018 実施状況報告書

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公開日: 2018-04-23   更新日: 2022-01-27  

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