| 研究課題/領域番号 |
18K05222
|
|---|
| 研究種目 |
基盤研究(C)
|
| 配分区分 | 基金 |
|---|
| 応募区分 | 一般 |
|---|
| 審査区分 |
小区分35010:高分子化学関連
|
|---|
| 研究機関 | 神奈川大学 |
|---|
研究代表者 |
山口 和夫 神奈川大学, 理学部, 教授 (20114902)
|
|---|
| 研究期間 (年度) |
2018-04-01 – 2022-03-31
|
| 研究課題ステータス |
完了 (2021年度)
|
| 配分額 *注記 |
4,290千円 (直接経費: 3,300千円、間接経費: 990千円)
2020年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円)
2019年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
2018年度: 2,080千円 (直接経費: 1,600千円、間接経費: 480千円)
|
|---|
| キーワード | 感光性ホスホン酸 / 自己組織化単分子膜 / 有機薄膜トランジスタ / 2-ニトロベンジル誘導体 |
|---|
| 研究成果の概要 |
光分解性の2-ニトロベンジル誘導体で保護した4つの官能基（アミン、アルコール、チオール、カルボン酸）をホスホン酸のアルキル鎖末端に導入した感光性ホスホン酸１を合成した。また、2-ニトロベンジルカルバマートでアミンを保護した１の末端にエーテル結合を介してカルボン酸を導入した感光性ホスホン酸６を合成した。両タイプのホスホン酸誘導体でITO基板表面を修飾し、自己組織化単分子膜を調製後、フォトマスクを用いた紫外線照射を行った。１の単分子膜からは、上記4つの官能基パターン形成に成功した。６の単分子膜からは、一度の紫外線照射によりアミンとカルボン酸の2つの官能基を同時にパターン形成させることに成功した。
|
| 研究成果の学術的意義や社会的意義 |
従来ほとんど報告されていない2-ニトロベンジル誘導体として官能基を保護した感光性ホスホン酸の開発に成功した。シランカップリング剤と異なり、ホスホン酸は、アミンやカルボン酸などの求核試薬と共存することができる。この特徴を生かして、カルボン酸とホスホン酸を2-ニトロベンジルカルバマートで連結した新規化合物の合成にも成功した。これを用いると2つの官能基の同時パターン形成が可能になることを明らかにした。これらの感光性ホスホン酸と従来の感光性シランカップリング剤の特徴を組み合わせることによって、有機薄膜トランジスタなどの有機エレクトロニクス材料の基盤技術として、今後大いに期待される。
|
