| 研究課題/領域番号 |
18K13532
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| 研究種目 |
若手研究
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| 配分区分 | 基金 |
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| 審査区分 |
小区分14030:プラズマ応用科学関連
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| 研究機関 | 大阪大学 |
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研究代表者 |
伊藤 智子 大阪大学, 工学研究科, 助教 (10724784)
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| 研究期間 (年度) |
2018-04-01 – 2021-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2020年度)
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| 配分額 *注記 |
4,030千円 (直接経費: 3,100千円、間接経費: 930千円)
2020年度: 1,040千円 (直接経費: 800千円、間接経費: 240千円)
2019年度: 1,040千円 (直接経費: 800千円、間接経費: 240千円)
2018年度: 1,950千円 (直接経費: 1,500千円、間接経費: 450千円)
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| キーワード | アトミックレイヤーエッチング / 遷移金属 / 遷移金属材料 / プラズマエッチング / 磁性材料 |
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| 研究成果の概要 |
本研究では、独自に開発したアトミックレイヤープロセス反応解析装置により、磁性材料表面におけるβジケトン分子の吸着状態について詳細に評価を行った。その結果、βジケトン(ヘキサフルオロアセチルアセトンおよびアセチルアセトン)分子の吸着には、表面における酸素の存在が重要であることが判明し、さらに、基板加熱により、金属酸化層が選択的に除去されることが明らかとなった。また、βジケトン吸着表面に対する低エネルギー(10-50 eV)イオン照射では、吸着分子が分解することが明らかとなり、本条件ではイオン照射理による脱離促進効果が低いことが明らかになった。
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| 研究成果の学術的意義や社会的意義 |
デバイス構造の複雑化および高集積化の要請を受け、デバイスプロセスに求められる加工寸法は原子スケールにまで迫っている中、本研究で得られた研究結果は、反応性プラズマエッチングプロセスにおいて難エッチング材料として知られる遷移金属材料に対して、ハロゲンに代わる反応性ガスとしてβジケトンガスを用いて原子層エッチング(ALE)反応が得られる可能性を示唆するものであり、βジケトンガスを用いた遷移金属材料に対する原子層エッチングプロセス開発の上で、非常に重要な価値があると考えられる。
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