| 研究課題/領域番号 |
19022009
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| 研究種目 |
特定領域研究
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 審査区分 |
理工系
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| 研究機関 | 新潟大学 |
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研究代表者 |
青木 俊樹 新潟大学, 自然科学系, 教授 (80212372)
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| 研究分担者 |
寺口 昌宏 新潟大学, 自然科学系, 助教 (30334650)
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| 研究期間 (年度) |
2007 – 2008
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| 研究課題ステータス |
完了 (2008年度)
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| 配分額 *注記 |
2,800千円 (直接経費: 2,800千円)
2008年度: 1,400千円 (直接経費: 1,400千円)
2007年度: 1,400千円 (直接経費: 1,400千円)
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| キーワード | らせん選択重合 / 主鎖不斉 / 高分子膜 / キラル高分子 / 二重らせん高分子 / 高分子反応 / 自己支持膜 |
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| 研究概要 |
1. 水素結合可能基とバルキーキラル置換基を持つモノマーと水素結合可能基を持つアキラルモノマーの共重合とその後の膜状態でのキラル置換基の定量的な除去による主鎖のみに不斉構造を持つ安定キラルらせんフェニルアセチレン高分子の第3の合成法の確立
平成19年度(1年目)に見出した主鎖のみに不斉構造を持つ安定キラルらせんフェニルアセチレン高分子の第3の合成法を確立した。
2. 1で得られた方法(第三の方法)の不斉誘起効率の評価
1 で確立した方法の不斉誘起効率の評価をらせん選択重合により同一の組成の片巻きらせん高分子を合成し、比較することで行い、この方法の優位性を見出した。
3.水素結合可能基とバルキーキラル置換基を長くて剛直なスペーサーを介して持つモノマーの単独重合とその後の膜状態でのキラル置換基の定鼻的な除去による主鎖のみに不斉構造を持つ安定キラルらせんフェニルアセチレン高分子の第3の合成法の確立
主鎖のみに不斉構造を持つ安定キラルらせんフェニルアセチレン高分子の第3の合成法の可能性を見出した。
1 で確立した方法を単独十号に展開し、第三の方法の汎用性を示すことが出来た。
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