| 研究課題/領域番号 |
19204056
|
|---|
| 研究種目 |
基盤研究(A)
|
| 配分区分 | 補助金 |
|---|
| 応募区分 | 一般 |
|---|
| 研究分野 |
プラズマ科学
|
|---|
| 研究機関 | 大阪大学 |
|---|
研究代表者 |
浜口 智志 大阪大学, 大学院・工学研究科, 教授 (60301826)
|
|---|
| 研究分担者 |
吉村 智 大阪大学, 工学研究科, 准教授 (40294029)
北野 勝久 大阪大学, 工学研究科, 准教授 (20379118)
鹿田 真一 独立行政法人産業技術総合研究所, ダイヤモンド研究センター, 副センター長 (00415689)
山田 英明 独立行政法人産業技術総合研究所, ダイヤモンド研究センター, 研究員 (90443233)
|
|---|
| 連携研究者 |
鹿田 真一 独立行政法人産業技術総合研究所, ダイヤモンド研究センター, 副センター長 (00415689)
山田 英明 独立行政法人産業技術総合研究所, ダイヤモンド研究センター, 研究員 (90443233)
|
|---|
| 研究期間 (年度) |
2007 – 2009
|
| 研究課題ステータス |
完了 (2009年度)
|
| 配分額 *注記 |
44,200千円 (直接経費: 34,000千円、間接経費: 10,200千円)
2009年度: 10,660千円 (直接経費: 8,200千円、間接経費: 2,460千円)
2008年度: 13,260千円 (直接経費: 10,200千円、間接経費: 3,060千円)
2007年度: 20,280千円 (直接経費: 15,600千円、間接経費: 4,680千円)
|
|---|
| キーワード | 反応性プラズマ / プラズマプロセス / 膜堆積 / プラズマ / 光物性 / 分子動力学 / 反応性ラジカル / プラズマCVD / プラズマエッチング |
|---|
| 研究概要 |
本研究は、プラズマプロセスにおける、プラズマからの入射種と基板物質との相互作用を明らかにするとともに、そのシナジー効果(反応素過程の重ね合わせが成り立たない非線形効果、即ち、反応の相乗効果)を明らかにすることを目的に行われた。本研究においては、SiO2やポリマー等のエッチング反応において、プラズマからの紫外線照射のエッチング率に対する効果が無視できない条件があることを明らかにし、また、エッチングや堆積プロセスにおいて、水素入射によるダメージや緩和過程がプロセスの最終状態に大きな影響を与える条件も明らかにした。これらの結果により、高精度プラズマプロセスの開発における水素や紫外線の入射エネルギーとフラックスの制御指針が明らかにされた。
|
