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フレキシブル有機強誘電体メモリにおける低電圧・高集積回路の研究

研究課題

研究課題/領域番号 19206039
研究種目

基盤研究(A)

配分区分補助金
応募区分一般
研究分野 電子デバイス・電子機器
研究機関東京工業大学

研究代表者

石原 宏  東京工業大学, 大学院・総合理工学研究科, 教授 (60016657)

研究分担者 大見 俊一郎  東京工業大学, 大学院・総合理工学研究科, 准教授 (30282859)
藤崎 芳久  株式会社日立製作所, (研究開発本部)・中央研究所ULSI研究部, 主任研究員 (00451013)
連携研究者 藤崎 芳久  株式会社日立製作所(研究開発本部), 中央研究所ULSI研究部, 主任研究員 (00451013)
研究期間 (年度) 2007 – 2010
研究課題ステータス 完了 (2010年度)
配分額 *注記
47,320千円 (直接経費: 36,400千円、間接経費: 10,920千円)
2010年度: 7,150千円 (直接経費: 5,500千円、間接経費: 1,650千円)
2009年度: 9,490千円 (直接経費: 7,300千円、間接経費: 2,190千円)
2008年度: 14,300千円 (直接経費: 11,000千円、間接経費: 3,300千円)
2007年度: 16,380千円 (直接経費: 12,600千円、間接経費: 3,780千円)
キーワード電子デバイス / 集積回路 / 不揮発性メモリ / 有機強誘電体 / 有機半導体 / フレキシブルメモリ / 強誘電体ゲートトランジスタ / PVDF/TrFE / ペンタセン / PVDF / TrFE / C_60
研究概要

本研究では、フレキシブル不揮発メモリの実現を目的として、有機強誘電体P(VDF/TrFE)をゲート絶縁膜に用いた有機半導体トランジスタに関する研究を行い、P(VDF/TrFE)薄膜形成プロセス、コンタクトホール形成プロセス、およびペンタセン薄膜上へのP(VDF/TrFE)形成プロセスを最適化することにより、ガラス基板上およびフレキシブル基板上に、メモリ動作を示すトップゲート型有機トランジスタを作製することに成功した。

報告書

(6件)
  • 2010 実績報告書   研究成果報告書 ( PDF )
  • 2009 実績報告書   自己評価報告書 ( PDF )
  • 2008 実績報告書
  • 2007 実績報告書
  • 研究成果

    (69件)

すべて 2011 2010 2009 2008 2007 その他

すべて 雑誌論文 (33件) (うち査読あり 33件) 学会発表 (34件) 備考 (2件)

  • [雑誌論文] Investigation of n-type pentacene based MOS diodes with ultra-thin metal interface layer2011

    • 著者名/発表者名
      Y-U.Song, H.Ishiwara, S.Ohmi
    • 雑誌名

      IEICE Trans.on Electronics E94-C

      ページ: 767-770

    • 関連する報告書
      2010 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Solvent dependency of pentacene degradation for top-gate-type organic ferroelectric memory2011

    • 著者名/発表者名
      T.Mabuchi, S-M.Yoon, H.Ishiwara
    • 雑誌名

      Current Appl.Phys. 11 in press

    • 関連する報告書
      2010 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Electrical characteristics of Si MFIS-FETs using P(VDF-TrFE) thin films2011

    • 著者名/発表者名
      J-W.Yoon, S-M.Yoon, H.Ishiwara
    • 雑誌名

      Current Appl.Phys. 11 in press

    • 関連する報告書
      2010 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Investigation of n-type pentacene based MOS diodes with ultra-thin metal interface layer2011

    • 著者名/発表者名
      Y-U.Song, H.Ishiwara, S.Ohmi
    • 雑誌名

      IEICE Trans.on Electronics

      巻: E94-C(in press)

    • 関連する報告書
      2010 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Solvent dependency of pentacene degradation for top-gate-type organic ferroelectric memory2011

    • 著者名/発表者名
      T.Mabuchi, S-M.Yoon, H.Ishiwara
    • 雑誌名

      Current Appl.Phys.

      巻: 11(in press)

    • 関連する報告書
      2010 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Electrical characteristics of Si MFIS-FETs using P (VDF-TrFE) Thin films2011

    • 著者名/発表者名
      J-W.Yoon, S-M.Yoon, H.Ishiwara
    • 雑誌名

      Current Appl.Phys.

      巻: 11(in press)

    • 関連する報告書
      2010 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Characterization of nonvolatile memory behaviors of Al/poly (vinylidene fluoride-trifluoro-ethylene)/Al_2O_3/ZnO thin-film transistors2010

    • 著者名/発表者名
      S-M.Yoon, S-H.Yang, C-W.Byun, S-H.K.Park, S-W.Jung, D-H.Cho, S-Y.Kang, C-S.Hwang, H.Ishiwara
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys. 49

    • 関連する報告書
      2010 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Nonvolatile memory thin film transistors using spin-coated amorphous zinc indium oxide channel and ferroelectric copolymer2010

    • 著者名/発表者名
      S-M.Yoon, S-W.Jung, S-H.Yang, C-W.Byun, C-S.Hwang, H.Ishiwara
    • 雑誌名

      J.Electrochem.Soc. 157

    • 関連する報告書
      2010 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Impact of interface controlling layer of Al_2O_3 for improving the retention behaviors of In-Ga-Zn oxide-based ferroelectric memory transistor2010

    • 著者名/発表者名
      S-M.Yoon, S-H.Yang, S-W.Jung, C-W.Byun, S-H.K.Park, C-S.Hwang, G-G.Lee, E.Tokumitsu, H.Ishiwara
    • 雑誌名

      Appl.Phys.Lett. 96

      ページ: 232903-232903

    • 関連する報告書
      2010 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Non-volatile memory transistors using solution-processed zinc-tin oxide and ferroelectric poly(vinyliden fluoride-trifluoro-ethylene)2010

    • 著者名/発表者名
      S-M.Yoon, S-W.Jung, S-H.Yang, C-W.Byun, C-S.Hwang, S-H.K.Park, H.Ishiwara
    • 雑誌名

      Organic Electronics 11

      ページ: 1746-1752

    • 関連する報告書
      2010 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Improvement of ferroelectric fatigue endurance in poly(methyl metacrylate)-blended poly(vinyliden fluoride-trifluoroethylene)2010

    • 著者名/発表者名
      J-W.Yoon, S-M.Yoon, H.Ishiwara
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys. 49

      ページ: 30201-30201

    • 関連する報告書
      2010 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Characterization of nonvolatile memory behaviors of Al/poly (vinylidene fluoridetrifluoroethylene)/Al_2O_3/ZnO thin-film transistors2010

    • 著者名/発表者名
      S-M.Yoon, S-H.Yang, C-W.Byun, S-H.K.Park, S-W.Jung, D-H.Cho, S-Y.Kang, C-S.Hwang, H.Ishiwara
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys.

      巻: 49

    • 関連する報告書
      2010 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Nonvolatile memory thin film transistors using spin-coated amorphous zinc indium oxide channel and ferroelectric copolymer2010

    • 著者名/発表者名
      S-M.Yoon, S-W.Jung, S-H.Yang, C-W.Byun, C-S.Hwang, H.Ishiwara
    • 雑誌名

      J.Electrochem.Soc.

      巻: 157

    • 関連する報告書
      2010 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Impact of interface controlling layer of Al_2O_3 for improving the retention behaviors of In-Ga-Zn oxide-based ferroelectric memory transistor2010

    • 著者名/発表者名
      S-M.Yoon, S-H.Yang, S-W.Jung, C-W.Byun, S-H.K.Park, C-S.Hwang, G-G.Lee, E.Tokumitsu, H.Ishiwara
    • 雑誌名

      Appl.Phys.Lett

      巻: 96

    • 関連する報告書
      2010 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Non-volatile memory transistors using solution-processed zinc-tin oxide and ferroelectric poly (vinyliden fluoride-trifluoroethylene)2010

    • 著者名/発表者名
      S-M.Yoon, S-W.Jung, S-H.Yang, C-W.Byun, C-S.Hwang, S-H.Ko Park, H.Ishiwara
    • 雑誌名

      Organic Electronics

      巻: 11 ページ: 1746-1752

    • 関連する報告書
      2010 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Improvement of ferroelectric fatigue endurance in poly (methyl metacrylate) -blended poly (vinylidene fluoride-trifluoroethylene)2010

    • 著者名/発表者名
      J-W. Yoon, S-M. Yoon, H. Ishiwara
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys 49

    • 関連する報告書
      2009 自己評価報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Improvement of ferroelectric fatigue endurance in poly (methylmetacrylate)-blended poly (vinylidene fluoride-trifluoroethylene)2010

    • 著者名/発表者名
      J-W.Yoon, S-M.Yoon, H.Ishiwara
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys. 49

    • 関連する報告書
      2009 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Comparative study on metal-ferro-electric-insulator-semiconductor diodes composed of poly(vinyliden fluoride-trifluoro-ethylene) and poly (methyl metacrylate)-blended poly (vinyliden fluoride-trifluoro-ethylene)2009

    • 著者名/発表者名
      J-W.Yoon, B-E.Park, H.Ishiwara
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys. 48

    • 関連する報告書
      2010 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Electrical Characteristics and Stability of Pentacene Field-Effect Transistors in Air Using HfO_2 as a Gate Insulator2009

    • 著者名/発表者名
      Md.Akhtaruzzaman, S.Ohmi, H.Ishiwara
    • 雑誌名

      MRS Proceedings 1115

    • 関連する報告書
      2010 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Study on stability of pentacene-based metal-oxide-semiconductor diodes in air using capacitance-voltage characteristics2009

    • 著者名/発表者名
      Md.Akhtaruzzaman, S.Ohmi, J.Nishida, Y.Yamashita, H.Ishiwara
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys. 48

    • 関連する報告書
      2010 研究成果報告書 2009 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Comparative study on metal-ferroelectric-Insulator-semiconductor diodes composed of poly (vinyliden fluoride-trifluoroethylene) and poly (methyl metacrylate) -blended poly (vinyli-den fluoride-trifluoroethylene)2009

    • 著者名/発表者名
      J-W. Yoon, B-E. Park, H. Ishiwara
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys 48

    • 関連する報告書
      2009 自己評価報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Study on stability of pentacene-based metal-oxide-semiconductor diodes in air using capacitance-voltage characteristics2009

    • 著者名/発表者名
      Md. Akhtaruzzaman, S. Ohmi, J. Nishida, Y. Yamashita, H. Ishiwara
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys 48

    • 関連する報告書
      2009 自己評価報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Comparative study on metal-ferroelectric-insulator-semiconductor diodes composed of poly (vinyliden fluoride-trifluorethylene) and poly (methylmetacrylate)-blended poly (vinyliden fluoride-trifluoroethylene)2009

    • 著者名/発表者名
      J-W.Yoon, B-E.Park, H.Ishiwara
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys. 48

    • 関連する報告書
      2009 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Inorganic and organic ferroelectric thin films for memory applications2008

    • 著者名/発表者名
      H.Ishiwara
    • 雑誌名

      ECS Trans. 13

      ページ: 279-284

    • 関連する報告書
      2010 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Organic ferroelectric diodes with long retention characteristics suitable for non-volatile memory applications2008

    • 著者名/発表者名
      S.Fujisaki, H.Ishiwara, Y.Fujisaki
    • 雑誌名

      Appl.Phys.Express 1

      ページ: 81801-81803

    • NAID

      10025081951

    • 関連する報告書
      2010 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Impact of Kr gas mixing in oxygen plasma etching of ferroelectric poly(vinyliden fluoride-trifluoro-ethylene) copolymer films2008

    • 著者名/発表者名
      J-W.Yoon, S.Ohmi, B-E.Park, H.Ishiwara
    • 雑誌名

      Appl.Phys.Lett. 93

      ページ: 162904-162906

    • 関連する報告書
      2010 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Impact of Kr gas mixing in oxygen plasma etching of ferroelectric poly (vinylidene fluoride-trifluoroethylene) copolymer films2008

    • 著者名/発表者名
      J-W. Yoon, S. Ohmi, B-E. Park, H. Ishiwara
    • 雑誌名

      Appl. Phys. Lett 93

      ページ: 162904-162906

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      2009 自己評価報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Organic ferroelectric diodes with long retention characteristics suitable for non-volatile memory applications2008

    • 著者名/発表者名
      S. Fujisaki, H. Ishiwara, Y. Fujisaki
    • 雑誌名

      Appl. Phys. Express 1

      ページ: 81801-81803

    • NAID

      10025081951

    • 関連する報告書
      2009 自己評価報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Inorganic and organic ferroelectric thin films for memory applications2008

    • 著者名/発表者名
      H. Ishiwara
    • 雑誌名

      ECS Transactions Vol. 13

      ページ: 279-284

    • 関連する報告書
      2008 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Organic ferroelectric diodes with long retention characteristics suitable for non-volatile memory applications2008

    • 著者名/発表者名
      S. Fujisaki, H. Ishiwara, Y. Fujisaki
    • 雑誌名

      Appl. Phys. Express Vol. 1

      ページ: 81801-81803

    • NAID

      10025081951

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      2008 実績報告書
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  • [雑誌論文] Impact of Kr gas mixing in oxygen plasma etching of ferroelectric poly (vinylidene fluoride-trifluoroethylene) copolymer films2008

    • 著者名/発表者名
      J-W. Yoon, S. Ohmi, B-E. Park, H. Ishiwara
    • 雑誌名

      Appl. Phys. Lett. Vol. 93

      ページ: 162904-162906

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      2008 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Excellent Ferroelectricity of Thin Poly (Vinylidene Fluoride-Trifluoro-ethylene) Copolymer Films and Low Voltage Operation of Capacitors and Diodes2007

    • 著者名/発表者名
      S.Fujisaki, Y.Fujisaki, H.Ishiwara
    • 雑誌名

      IEEE Trans.on Ultrasonics, Ferroelectrics, and Frequency Control 154

      ページ: 2592-2594

    • 関連する報告書
      2010 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Excellent Ferroelectricity of Thin Poly (Vinylidene Fluoride-Trifluoroethylene) Copolymer Films and Low Voltage Operation of Capacitors and Diodes2007

    • 著者名/発表者名
      S. Fujisaki, Y. Fujisaki, H. Ishiwara
    • 雑誌名

      IEEE Trans. on Untrsonics, Ferroelectrics, and Frequency Control 154

      ページ: 2592-2594

    • 関連する報告書
      2007 実績報告書
    • 査読あり
  • [学会発表] Fabrication and characterization of top-gate-type MFS (metal-ferroelectric-semiconductor) memory diodes using pentacene as a? semiconductor film2010

    • 著者名/発表者名
      T.Mabuchi, S-M.Yoon, H.Ishiwara
    • 学会等名
      Intern.Conf.on Electronic Materials and Nanotechnology for Green Environment
    • 発表場所
      Jeju.
    • 年月日
      2010-11-23
    • 関連する報告書
      2010 研究成果報告書
  • [学会発表] Fabrication and characterization of top-gate-type MFS (metal-ferroelectric-semicon ductor) memory diodes using pentacene as a semiconductor film2010

    • 著者名/発表者名
      T.Mabuchi, S-M.Yoon, H.Ishiwara
    • 学会等名
      Intern.Conf.on Electronic Materials and Nanotechnology for Green Environment
    • 発表場所
      済州
    • 年月日
      2010-11-23
    • 関連する報告書
      2010 実績報告書
  • [学会発表] Excellent interface properties of pentacene based metal-oxide-semiconductor diodes utilizing HfON high-k gate insulator2010

    • 著者名/発表者名
      M.Liao, H.Ishiwara, S.Ohmi
    • 学会等名
      2010 International Conference on Solid State Devices and Materials
    • 発表場所
      Tokyo.
    • 年月日
      2010-09-24
    • 関連する報告書
      2010 研究成果報告書
  • [学会発表] Excellent interface properties of pentacene based metal-oxide-semiconductor diodes utilizing HfON high-k gate insulator2010

    • 著者名/発表者名
      M.Liao, H.Ishiwara, S.Ohmi
    • 学会等名
      2010 International Conference on Solid State Devices and Materials
    • 発表場所
      東京
    • 年月日
      2010-09-24
    • 関連する報告書
      2010 実績報告書
  • [学会発表] Electrical characteristics of Si MFIS-FETs using P(VDF-TrFE) thin films2010

    • 著者名/発表者名
      J-W.Yoon, S-M.Yoon, H.Ishiwara
    • 学会等名
      7^<th> Asian Meeting on Ferroelectricity and 7^<th> Asian Meeting on Electroceramics
    • 発表場所
      Jeju.
    • 年月日
      2010-06-30
    • 関連する報告書
      2010 研究成果報告書
  • [学会発表] Investigation of n-type pentacene based MOS diodes with ultra-thin metal interface layer2010

    • 著者名/発表者名
      Y-U.Song, S.Ohmi
    • 学会等名
      2010 Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Applications of Advanced Semiconductor Devices
    • 発表場所
      Tokyo.
    • 年月日
      2010-06-30
    • 関連する報告書
      2010 研究成果報告書
  • [学会発表] Investigation of n-type pentacene based MOS diodes with ultra-thin metal interface layer2010

    • 著者名/発表者名
      Y-U.Song, S.Ohmi
    • 学会等名
      2010 Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Applicatios of Advanced Semiconductor Devices
    • 発表場所
      東京
    • 年月日
      2010-06-30
    • 関連する報告書
      2010 実績報告書
  • [学会発表] Electrical characteristics of Si MFIS-FETs using P(VDF-TrFE) thin films2010

    • 著者名/発表者名
      J-W.Yoon, S-M.Yoon, H.Ishiwara
    • 学会等名
      7^<th> Asian Meeting on Ferroelectricity and 7^<th> Asian Meeting on Electroceramics
    • 発表場所
      済州
    • 年月日
      2010-06-30
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      2010 実績報告書
  • [学会発表] Fabrication of IGZO-channel Ferroelectric-gate TFTs with Organic P(VDF-TrFE) Film2009

    • 著者名/発表者名
      G-G.Lee, S-M.Yoon, J-W.Yoon, Y.Fujisaki, H.Ishiwara, E.Tokumitsu
    • 学会等名
      Fall meeting of Mater.Res.Soc.
    • 発表場所
      Boston.
    • 年月日
      2009-12-03
    • 関連する報告書
      2010 研究成果報告書
  • [学会発表] Fabrication of IGZO-channel ferroelectric-gate TFTs with organic P (VDF-TrFE) film2009

    • 著者名/発表者名
      G-G.Lee
    • 学会等名
      Fall Meeting of Mater. Res. Soc. (Sympo. H : ZnO and Related Materials)
    • 発表場所
      Boston
    • 年月日
      2009-12-03
    • 関連する報告書
      2009 実績報告書
  • [学会発表] Studies on organic ferroelectric memories2009

    • 著者名/発表者名
      H.Ishiwara
    • 学会等名
      WCU Intern.Conf.on Quantum Phases and Devices
    • 発表場所
      Seoul.
    • 年月日
      2009-10-29
    • 関連する報告書
      2010 研究成果報告書
  • [学会発表] Studies on organic ferroelectric memories2009

    • 著者名/発表者名
      H. Ishiwara
    • 学会等名
      WCU Intern. Conf. on Quantum Phases and Devices
    • 発表場所
      Seoul
    • 年月日
      2009-10-29
    • 関連する報告書
      2009 自己評価報告書
  • [学会発表] Studies on organic ferroelectric memories2009

    • 著者名/発表者名
      H, Ishiwara
    • 学会等名
      WCU Intern. Conf. on Quantum Phases and Devices
    • 発表場所
      ソウル
    • 年月日
      2009-10-29
    • 関連する報告書
      2009 実績報告書
  • [学会発表] Electrical characteristics of OFETs with thin gate dielectric2009

    • 著者名/発表者名
      Y-U.Song, S.Ohmi, H.Ishiwara
    • 学会等名
      Asia-Pacific Workshop on Fundamentals and Applications of Advanced Semiconductor Devices
    • 発表場所
      Tokyo.
    • 年月日
      2009-06-24
    • 関連する報告書
      2010 研究成果報告書
  • [学会発表] Electrical characteristics of organic FETs with thin Gate dielectric2009

    • 著者名/発表者名
      Y-U.Song
    • 学会等名
      2009 Asia-Pacific Workshop on Fundamental and Application of Advanced Semiconductor Devices
    • 発表場所
      プサン
    • 年月日
      2009-06-24
    • 関連する報告書
      2009 実績報告書
  • [学会発表] Electrical characteristics and air-stability of pentacene based MOS diodes2008

    • 著者名/発表者名
      Md.Akhtaruzzaman, S.Ohmi, H.Ishiwara
    • 学会等名
      Fall Meeting of Mater.Res.Soc.
    • 発表場所
      Boston.
    • 年月日
      2008-12-03
    • 関連する報告書
      2010 研究成果報告書
  • [学会発表] Electrical characteristics and air-stability of pentacene based MOS diodes2008

    • 著者名/発表者名
      Md. Akhtaruzzaman, S. Ohmi, H. Ishiwara
    • 学会等名
      Fall Meeting of Mater. Res. Soc.
    • 発表場所
      Boston
    • 年月日
      2008-12-03
    • 関連する報告書
      2009 自己評価報告書
  • [学会発表] Electrical characteristics and air-stability of pentacene based MOS diodes2008

    • 著者名/発表者名
      Md. Akhtaruzzaman, S. Ohmi, H. Ishiwara
    • 学会等名
      Fall Meeting of Mater. Res. Soc
    • 発表場所
      Boston
    • 年月日
      2008-12-03
    • 関連する報告書
      2008 実績報告書
  • [学会発表] A study on air stability of pentacene based MOS diode structures2008

    • 著者名/発表者名
      Md Akhtaruzzaman, S.Ohmi, J.Nishida, Y.Yamashita, H.Ishiwara
    • 学会等名
      Intern.Conf.on Solid State Device and Materials
    • 発表場所
      Tsukuba.
    • 年月日
      2008-09-25
    • 関連する報告書
      2010 研究成果報告書
  • [学会発表] A study on air stability of pentacene based MOS diode structures2008

    • 著者名/発表者名
      Md. Akhtaruzzaman, S. Ohmi, J. Nishida, Y. Yamashita, H. Ishiwara
    • 学会等名
      Intern. Conf. on Solid State Devices and Materials
    • 発表場所
      Tsukuba
    • 年月日
      2008-09-25
    • 関連する報告書
      2008 実績報告書
  • [学会発表] Recent progress in FET-type memories with inorganic and organic ferroelectric gate films2008

    • 著者名/発表者名
      H.Ishiwara
    • 学会等名
      3^<th> Intern.Sympo.on Next Generation Non-volatile Memory Technology for Terabit Memory
    • 発表場所
      Seoul.
    • 年月日
      2008-08-29
    • 関連する報告書
      2010 研究成果報告書
  • [学会発表] Recent progress in FET-type memories with inorganic and organic ferroelectric gate films2008

    • 著者名/発表者名
      H. Ishiwara
    • 学会等名
      3rd Intern. Sympo. on Next Generation Non-volatile Memory Technology for Terabit Memory
    • 発表場所
      Seoul
    • 年月日
      2008-08-29
    • 関連する報告書
      2008 実績報告書
  • [学会発表] Ferroelectrics characteristics of p(VDF-TrFE) thin films patterned by plasma etching2008

    • 著者名/発表者名
      J-W.Yoon, S.Ohmi, B-E.Park, H.Ishiwara
    • 学会等名
      20^<th> Intern.Sympo.on Integrated Ferroelectrics
    • 発表場所
      Singapore.
    • 年月日
      2008-06-11
    • 関連する報告書
      2010 研究成果報告書
  • [学会発表] Ferroelectric characteristics of p(VDF-TrFE) thin films patterned by plasma etching2008

    • 著者名/発表者名
      J. W. Yoon, S. Ohmi, H. Ishiwara
    • 学会等名
      20th Intern. Sympo. on Integrated Ferroelectrics
    • 発表場所
      Singapore
    • 年月日
      2008-06-11
    • 関連する報告書
      2009 自己評価報告書
  • [学会発表] Ferroelectrics characteristics of p(VDF-TrFE) thin films patterned by plasma etching2008

    • 著者名/発表者名
      J. W. Yoon, S. Ohmi, H. Ishiwara
    • 学会等名
      20th Intern. Sympo. on Integrated Ferroelectrics
    • 発表場所
      Singapore
    • 年月日
      2008-06-11
    • 関連する報告書
      2008 実績報告書
  • [学会発表] Characteristics of metal-ferroelectric-insulator-semiconductor structures based on poly (vinyliden fluoride-trifluoroethylene)2008

    • 著者名/発表者名
      尹珠元、大見俊一郎、石原宏
    • 学会等名
      電子情報信学会 シリコン材料・デバイス研究会
    • 発表場所
      東京
    • 年月日
      2008-03-14
    • 関連する報告書
      2007 実績報告書
  • [学会発表] Patterning of poly(vinyliden fluoride-trifluoroethylene) thin films by oxygen plasma etching2007

    • 著者名/発表者名
      J-W.Yoon, S.Fujisaki, H.Ishiwara
    • 学会等名
      41^<th> Conf.on New Exploratory Technologies
    • 発表場所
      Seoul.
    • 年月日
      2007-10-26
    • 関連する報告書
      2010 研究成果報告書
  • [学会発表] Patterning of poly (vinyliden fluoride-trifluoroethylene) thin films by oxygen plasma etching2007

    • 著者名/発表者名
      J-W. Yoon, S. Fujisaki and H. Ishiwara
    • 学会等名
      4th Conf. on New Exploratory Technologies
    • 発表場所
      Seoul
    • 年月日
      2007-10-26
    • 関連する報告書
      2007 実績報告書
  • [学会発表] Current status and prospect of ferroelectric random access memory2007

    • 著者名/発表者名
      H.Ishiwara
    • 学会等名
      5^<th> IUMRS Intern.Conf.on Advanced Materials
    • 発表場所
      Bangalore.
    • 年月日
      2007-10-09
    • 関連する報告書
      2010 研究成果報告書
  • [学会発表] Current status and prospect of ferroelectric random access memory2007

    • 著者名/発表者名
      H. Ishiwara
    • 学会等名
      5th IUMRS Intern. Conf. on Advanced Materials
    • 発表場所
      Bangalore
    • 年月日
      2007-10-09
    • 関連する報告書
      2007 実績報告書
  • [学会発表] Current status of ferroelectric-gate Si transistors and challenge to ferroelectric-gate CNT transistors2007

    • 著者名/発表者名
      H.Ishiwara
    • 学会等名
      Nano Korea 2007 Sympo.
    • 発表場所
      Seoul.
    • 年月日
      2007-08-29
    • 関連する報告書
      2010 研究成果報告書
  • [学会発表] Current status of ferroelectric-gate Si transistors and challenge to ferroelectric-gate CNT transistors2007

    • 著者名/発表者名
      H. Ishiwara
    • 学会等名
      Nano Korea 2007 Sympo.
    • 発表場所
      Seoul
    • 年月日
      2007-08-29
    • 関連する報告書
      2007 実績報告書
  • [学会発表] Excellent ferroelectricity of thin poly(vinyliden fluoride-trifluoro-ethylene) copolymer films and low voltage operation of capacitors and diodes2007

    • 著者名/発表者名
      S.Fujisaki, Y.Fujisaki, H.Ishiwara
    • 学会等名
      16^<th> IEEE Intern.Sympo.on Applications of Ferroelectrics
    • 発表場所
      Nara.
    • 年月日
      2007-05-30
    • 関連する報告書
      2010 研究成果報告書
  • [学会発表] Excellent ferroelectricity of thin poly (vinylidene fluoride-trifluoroethylene) copolymer films and low voltage operation of capacitors and diodes2007

    • 著者名/発表者名
      S. Fujisaki, Y. Fujisaki, H. Ishiwara
    • 学会等名
      16th IEEE Intern. Sympo. on Applications of Ferroelectrics
    • 発表場所
      奈良
    • 年月日
      2007-05-30
    • 関連する報告書
      2007 実績報告書
  • [備考] ホームページ等

    • URL

      http://ishiwara.ep.titech.ac.jp/

    • 関連する報告書
      2010 研究成果報告書
  • [備考]

    • URL

      http://ishiwara.ep.titech.ac.jp/

    • 関連する報告書
      2010 実績報告書

URL: 

公開日: 2007-04-01   更新日: 2016-04-21  

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