| 研究課題/領域番号 |
19206078
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| 研究種目 |
基盤研究(A)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
材料加工・処理
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| 研究機関 | 北海道大学 |
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研究代表者 |
坂入 正敏 (2008) 北海道大学, 大学院・工学研究科, 准教授 (50280847)
高橋 英明 (2007) 北海道大学, 大学院・工学研究科, 教授 (70002201)
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| 研究分担者 |
菊地 竜也 北海道大学, 大学院・工学研究科, 助教 (60374584)
坂入 正敏 北海道大学, 大学院・工学研究科, 准教援 (50280847)
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| 連携研究者 |
高橋 英明 旭川工業高等専門学校, 校長 (70002201)
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| 研究期間 (年度) |
2007 – 2008
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| 研究課題ステータス |
完了 (2008年度)
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| 配分額 *注記 |
39,780千円 (直接経費: 30,600千円、間接経費: 9,180千円)
2008年度: 20,540千円 (直接経費: 15,800千円、間接経費: 4,740千円)
2007年度: 19,240千円 (直接経費: 14,800千円、間接経費: 4,440千円)
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| キーワード | 表面・界面制御 / アノード酸化 / マイクロ・ナノテクノロジー / バルブ金属 / 微細加工 / レーザー / めっき / 液相析出 / 電解コンデンサー / CVD |
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| 研究概要 |
本研究においては、電気化学的手法とレーザー照射を用いることにより、アルミニウムを中心とするバルブ金属表面にマイクロ・ナノ構造を構築し、新規な性質を付与する技術の開発を目的とした。高容量電解コンデンサーの試作、マイクロ・ナノ電子デバイスの作製および導電性高分子・無電解めっきを応用した新規表面処理法の開発を実現し、バルブ金属をエレクトロニクス・ナノテクノロジーの分野において利用するための新たな活用法を開拓することに成功した。
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