| 研究課題/領域番号 |
19350115
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| 研究種目 |
基盤研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
高分子・繊維材料
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| 研究機関 | 独立行政法人日本原子力研究開発機構 |
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研究代表者 |
杉本 雅樹 独立行政法人日本原子力研究開発機構, 量子ビーム応用研究部門, 研究副主幹 (90354943)
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| 研究分担者 |
出崎 亮 独立行政法人日本原子力研究開発機構, 量子ビーム応用研究部門, 研究員 (10370355)
関 修平 大阪大学, 大学院・工学研究科, 教授 (30273709)
伊藤 洋 独立行政法人日本原子力研究開発機構, 量子ビーム応用研究部門, 技術副主幹 (00414574)
山本 春也 独立行政法人日本原子力研究開発機構, 量子ビーム応用研究部門, 研究主幹 (70354941)
吉川 正人 独立行政法人日本原子力研究開発機構, 量子ビーム応用研究部門, 研究主幹 (40354948)
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| 研究期間 (年度) |
2007 – 2009
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| 研究課題ステータス |
完了 (2009年度)
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| 配分額 *注記 |
19,890千円 (直接経費: 15,300千円、間接経費: 4,590千円)
2009年度: 2,860千円 (直接経費: 2,200千円、間接経費: 660千円)
2008年度: 6,760千円 (直接経費: 5,200千円、間接経費: 1,560千円)
2007年度: 10,270千円 (直接経費: 7,900千円、間接経費: 2,370千円)
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| キーワード | ナノファイバー / セラミックス / イオン照射 / 単一粒子ナノ加工 / 有機-無機転換 / 前駆体高分子 / 金属内包 / ナノメッシュ / SiCセラミックス / ポリカルボシラン / グラフト重合 / メタクリル酸グリシジル / ラジカル / パラジウム / 触媒担持 / 高セラミック収率 / ポリマーブレンド / 自立型ナノファイバー / 3Dナノメッシュ / イオンビーム / 線エネルギー付与(LET) / 多角度照射 |
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| 研究概要 |
セラミックスの原料である高分子材料の薄膜にイオンビームを照射することで、個々のイオン粒子の飛跡に沿って薄膜中に円筒形の架橋部分を形成し、それ以外の未架橋部を溶媒で除去することで直径数十ナノメートルの高分子ナノファイバーが作製できた。この原料高分子材料に、触媒能等を有する機能性金属をあらかじめ混合しておくことで、金属を含有した高分子ナノファイバーが作製可能であり、これを不活性ガス中で焼成することで、触媒金属を含有したセラミックナノファイバーが作製可能であることを明らかにした。このナノファイバーの長さ・太さ・形成数は、それぞれ高分子薄膜の厚さ、イオンビームの線エネルギー付与(単位飛跡あたり高分子材料に与えるエネルギー量)、射量(イオンビームの個数)で独立して制御可能である。また薄膜に対し、斜め45°で異なる4方向からイオンを照射することで、薄膜中でイオンの飛跡を3次元的に交錯させ、ナノファイバーを立体的に接続した3Dナノメッシュ構造が形成可能であることを明らかにした。
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