| 研究課題/領域番号 |
19360016
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| 研究種目 |
基盤研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
薄膜・表面界面物性
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| 研究機関 | 東京農工大学 |
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研究代表者 |
本橋 健次 東京農工大学, 大学院・共生科学技術研究院, 助教 (50251583)
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| 研究分担者 |
金井 保之 独立行政法人理化学研究所, 山崎原子物理研究室, 先任研究員 (00177487)
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| 連携研究者 |
金井 保之 独立行政法人理化学研究所, 山崎原子物理研究室, 先任研究員 (00177487)
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| 研究期間 (年度) |
2007 – 2008
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| 研究課題ステータス |
完了 (2008年度)
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| 配分額 *注記 |
12,480千円 (直接経費: 9,600千円、間接経費: 2,880千円)
2008年度: 4,160千円 (直接経費: 3,200千円、間接経費: 960千円)
2007年度: 8,320千円 (直接経費: 6,400千円、間接経費: 1,920千円)
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| キーワード | ビーム応用 / 多価イオン / 表面分析 / 二次イオン質量分析 / 電子捕獲散乱 / 原子層選別 / 同時計測 / 二次電子 / 水素原子 / 面極性 |
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| 研究概要 |
表面の原子層を選別しながら、表面構成原子の種類を高感度に特定できる表面分析法(表面化学分析法)を実現するため、多価イオンを用いた散乱粒子・二次粒子同時測定装置を開発した。多価イオンの持つ反応性の高さと状態選択性の高さを利用することにより、極めて少ない入射イオン量でありながら、表面第1層と第2層を区別しながら表面原子の種類を特定することに成功した。
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