ナノスケールで制御された凝集構造を有する25nmサイズの微細レジストパターン開発

• 研究課題/領域番号: 19360157
• 研究種目: 基盤研究(B)
• 配分区分: 補助金
• 応募区分: 一般
• 研究分野: 電子デバイス・電子機器
• 研究機関: 長岡技術科学大学
• 研究代表者: 河合 晃 長岡技術科学大学, 准教授 (00251851)
• 研究期間 (年度): 2007 – 2008
• 研究課題ステータス: 完了 (2008年度)
• 配分額: 18,590千円 (直接経費: 14,300千円、間接経費: 4,290千円); 2008年度: 5,330千円 (直接経費: 4,100千円、間接経費: 1,230千円); 2007年度: 13,260千円 (直接経費: 10,200千円、間接経費: 3,060千円)
• キーワード: レジストパターン / 付着力 / 原子間力顕微鏡 / 半導体集積回路 / 高分子集合体 / リソグラフィー / ナノバブル / ナノスケールパターン / 空孔

研究概要

原子間力顕微鏡を用いて、ナノスケールのレジストパターンの凝集構造制御を実験的に試み、理想的な凝集構造の構築を目指した。実験では、レジストパターンへTipを近づけることにより非接触変形させて歪みを測定した。よって、微細レジストパターンを密に配置すると、それだけで変形が生じることを実証にした。また、レジストパターンの吸着水を変化させることで、表面の凝集構造を変化させることに成功した。また、現像および液浸リソグラフィに重要となるナノバブル検出および特性解析が可能となった。以上の成果により、25nmサイズの微小レジストパターンデザインの最適化を行った。

研究成果

• [雑誌論文] Analysis of self-standing structure composed by thick resist layers., J (2009)
  • 著者名/発表者名: Akihiro Takano, Akira Kawai
  • 雑誌名: Photopolymer Science and Technology 22(in press)
  • 査読あり
• [雑誌論文] Katsuyoshi Hamasaki, Dielectric dispersion analysis of resist layer (2009)
  • 著者名/発表者名: Hiroki Sasazaki, Takahiro Kato, Akira Kawai
  • 雑誌名: J. Photopolymer Science and Technology 22(in press)
  • 査読あり
• [雑誌論文] Mask defect transfer in Si anisotropoc wet etching (2009)
  • 著者名/発表者名: Junji Miyazaki, Akira Kawai
  • 雑誌名: J. Photopolymer Science and Technology 22(in press)
  • 査読あり
• [雑誌論文] Characterization of photpmask substrate in optical lithography (2009)
  • 著者名/発表者名: Junji Miyazaki, Akira Kawai
  • 雑誌名: J. Photopolymer Science and Technology 22(in press)
  • 査読あり
• [雑誌論文] Flowing control of micro bubbles in DFR micro fluidic channel formed on metal/insulatro composit substrate (2008)
  • 著者名/発表者名: Daisuke Tanaka, Akira Kawai
  • 雑誌名: J. Photopolymer Science and Technology 21 ページ: 63-68
  • 査読あり
• [雑誌論文] Micro channel device composed by fry film resist (2008)
  • 著者名/発表者名: Akira Kawai, Daisuke Tanaka, Tomotaka Ariga
  • 雑誌名: J. Photopolymer Science and Technology 21 ページ: 43-46
  • 査読あり
• [雑誌論文] Adsouption of micro tip on various surface energy substrates (2008)
  • 著者名/発表者名: Akira Kawai, Takashi Yamaji, Hiroshi Horiguchi
  • 雑誌名: J. Photopolymer and Science and Technology 21 ページ: 85-88
  • 査読あり
• [雑誌論文] Non-contact deformation of micro resist pattern due to van der Waals force (2008)
  • 著者名/発表者名: Takashi Yamaji, Akira Kawai
  • 雑誌名: J. Photopolymer Science and Technology 21 ページ: 89-94
  • 査読あり
• [雑誌論文] Nano-scale Deformation of Resist Film Surface by Humidifying and Drying Processes (2008)
  • 著者名/発表者名: Akira Kawai, Masahito Hirano and Takashi Yamaji
  • 雑誌名: J. Photopolymer Sci. Technol. 21 ページ: 737-738
  • NAID: 130004833238
  • 査読あり
• [雑誌論文] Micro Bubble Removal depending on Glass Cleanness (2008)
  • 著者名/発表者名: Akira Kawai, Daisuke Tanaka
  • 雑誌名: J. Photopolymer Sci. Technol. 21 ページ: 727-728
  • NAID: 130004833235
  • 査読あり
• [雑誌論文] Internal Stress of Dry Film Resist in Multilayer Structure (2008)
  • 著者名/発表者名: Akira Kawai, Takashi Yamaji
  • 雑誌名: J. Photopolymer Sci. Technol. 21 ページ: 725-726
  • NAID: 130004833234
  • 査読あり
• [雑誌論文] Surface Energy change of Si(100)Wafer by Exposing to Air (2008)
  • 著者名/発表者名: Akira Kawai, Junko Kawakami, Hiroki Sasazaki
  • 雑誌名: J. Photopolymer Sci. Technol 21 ページ: 739-740
  • NAID: 130004833239
  • 査読あり
• [雑誌論文] Hotaka Endo and Daisuke Tanaka, Pinning Effects of Micro Bubbles adhered on Resist Substrate (2008)
  • 著者名/発表者名: Akira Kawai
  • 雑誌名: J. Photopolymer Science. Technol. 21 ページ: 753-754
  • 査読あり
• [雑誌論文] Spreading of Liquid Drop on Resist Film Surface (2008)
  • 著者名/発表者名: Akira Kawai, Akihiro Takano
  • 雑誌名: J.Photopolymer Sci. Technol. 21 ページ: 759-760
  • NAID: 130004833244
  • 査読あり
• [雑誌論文] Flowing control of micro bubbles in DFR micro fluidic channel formed on metal /insulatro composit substrate (2008)
  • 著者名/発表者名: Daisuke Tanaka, Akira Kawai
  • 雑誌名: J. Photopolymer Science and Technology 21 ページ: 63-68
  • 査読あり
• [雑誌論文] Adsouption of micro tip on various surface energy substrates (2008)
  • 著者名/発表者名: Akira Kawai, Takashi Yamaj i, Hiroshi Horiguchi
  • 雑誌名: J. Photopolymer Science and Technology 21 ページ: 85-88
  • 査読あり
• [雑誌論文] Nano-scale Deformation of Resist Film Surface by Humidifying and Drying Processes (2008)
  • 著者名/発表者名: Akira Kawai, Masahito Hirano, Takashi Yamaii
  • 雑誌名: J. Photopolymer Science and Technology 21 ページ: 737-738
  • NAID: 130004833238
  • 査読あり
• [雑誌論文] Micro Bubble Removal depending on Glass Cleanness (2008)
  • 著者名/発表者名: Akira Kawai, Daisuke Tanaka
  • 雑誌名: J. Photopolymer Science and Technology 21 ページ: 727-728
  • NAID: 130004833235
  • 査読あり
• [雑誌論文] Internal stress of Dry Film Resist in Multilayer Structure (2008)
  • 著者名/発表者名: Akira Kawai, Takashi Yamaji
  • 雑誌名: J. Photopolymer Science and Technology 21 ページ: 725-726
  • NAID: 130004833234
  • 査読あり
• [雑誌論文] Surface Energy change of Si(100)Wafer by Exposing to Air (2008)
  • 著者名/発表者名: Akira Kawai, Junko Kawakami, Hiroki Sasazaki
  • 雑誌名: J. Photopolymer Science and Technology 21 ページ: 739-740
  • NAID: 130004833239
  • 査読あり
• [雑誌論文] Pinning Effects of Micro Bubbles adhered on Resist Substrate (2008)
  • 著者名/発表者名: Akira Kawai, Hotaka Endo, Daisuke Tanaka
  • 雑誌名: J. Photopolymer Science and Technology 21 ページ: 753-754
  • NAID: 130004833242
  • 査読あり
• [雑誌論文] Spreading of Liquid Drop on Resist Film Surface (2008)
  • 著者名/発表者名: Akira Kawai, Akihiro Takano
  • 雑誌名: J. Photopolymer Science and Technology 21 ページ: 759-760
  • NAID: 130004833244
  • 査読あり
• [雑誌論文] Bubbles Condensed at Water/Resist Interface Analyzed by Atomic Force Microscopy (2007)
  • 著者名/発表者名: Akira Kawai, Kenta Suzuki
  • 雑誌名: J. Photopolymer Science and Technology 20 ページ: 673-678
  • 査読あり
• [雑誌論文] Visualization of stress distribution in resist film by surface plasma treatment (2007)
  • 著者名/発表者名: Akira Kawai, Norio Moriike
  • 雑誌名: J. Photopolymer Science and Technology 20 ページ: 783-785
  • NAID: 130004833188
  • 査読あり
• [雑誌論文] Analysis of micro meniscus shape by light scattering (2007)
  • 著者名/発表者名: Masaki Yamanaka, Akira Kawai
  • 雑誌名: J. Photopolymer Science and Technology 20 ページ: 781-782
  • NAID: 130004833187
  • 査読あり
• [雑誌論文] Non-contacting deformation (NCD) of line resist pattern due to interaction force with AFM tip (2007)
  • 著者名/発表者名: Akira Kawai, Takahiro Moriuchi
  • 雑誌名: J. Photopolymer Science and Technology 20 ページ: 777-780
  • NAID: 130004833186
  • 査読あり
• [雑誌論文] Micro bubbles formed on ArF excimer resist surface detected by tip scanning method (2007)
  • 著者名/発表者名: Kenta Suzuki, Akira Kawai
  • 雑誌名: J. Photopolymer Science and Technology 20 ページ: 805-806
  • NAID: 130004833192
  • 査読あり
• [雑誌論文] Wetting analysis of hydrophobic substrate treated by HMDS primer (2007)
  • 著者名/発表者名: Akira Kawai, Junko Kawakami
  • 雑誌名: J. Photopolymer Science and Technology 20 ページ: 815-816
  • NAID: 130004833196
  • 査読あり
• [雑誌論文] Nano-wetting of DI-water analyzed by AFM (2007)
  • 著者名/発表者名: Akira Kawai, Masahito Hirano
  • 雑誌名: J. Photopolymer Science and Technology 20 ページ: 813-814
  • NAID: 130004833195
  • 査読あり
• [雑誌論文] Native oxide growth on Si(100) surface in liquid environment (2007)
  • 著者名/発表者名: Harumitsu Kubota, Akira Kawai
  • 雑誌名: J. Photopolymer Science and Technology 20 ページ: 823-824
  • NAID: 130004833198
  • 査読あり
• [雑誌論文] Native oxide growth on Si (100) surface in liquid environment (2007)
  • 著者名/発表者名: Harumitsu Kubota, Akira Kawai
  • 雑誌名: J. Photopolymer Science and Technology 20 ページ: 823-824
  • NAID: 130004833198
  • 査読あり
• [学会発表] Fabrication of micro-channel network composed with polymer material (2009)
  • 著者名/発表者名: Akihiro Takano, Akira Kawai
  • 学会等名: ACA2009(the third Asian Conference on Adhesion)
  • 発表場所: Hamamatsu, Japan
• [学会発表] Nanoscale lithograph of Si surface with micro tip depending on surface adsorption water (2009)
  • 著者名/発表者名: Akira Kawai, Fumi Nishizaki, Akihiro Takano
  • 学会等名: ACA2009(the third Asian Conference on Adhesion)
  • 発表場所: Hamamatsu, Japan
• [学会発表] Frequency dispersion of dielectric constant of liquid nitrogen (2009)
  • 著者名/発表者名: Hiroki Sasazaki, Takahiro Kato, Akira Kawai, Katsuyoshi Hamasaki
  • 学会等名: ACA2009(the third Asian Conference on Adhesion)
  • 発表場所: Hamamatsu, Japan
• [学会発表] Optical fringe pattern observed on condensed micro water droplets (2009)
  • 著者名/発表者名: Akira Kawai, Tomomi Nishimura, Hiroki Sasazaki
  • 学会等名: ACA2009(the third Asian Conference on Adhesion)
  • 発表場所: Hamamatsu, Japan
• [学会発表] Trap control of micro bubbles on patterned wall surface (2009)
  • 著者名/発表者名: Hiroki Sasazaki, Akira Kawai
  • 学会等名: ACA2009(the third Asian Conference on Adhesion)
  • 発表場所: Hamamatsu
• [学会発表] Dissolved oxygen concentration (DO) monitoring in deionized water by electrolysis method (2009)
  • 著者名/発表者名: Akihiro Takano, Akira Kawai
  • 学会等名: ACA2009(the third Asian Conference on Adhesion)
  • 発表場所: Hamamatsu, Japan
• [学会発表] Characterization of photomask substrate in optical lithography (2009)
  • 著者名/発表者名: Junji Miyazaki, Akira Kawai
  • 学会等名: ACA2009(the third Asian Conference on Adhesion)
  • 発表場所: Hamamatsu, Japan
• [学会発表] Analysis of self-standing structure composedby thick resist layers (2009)
  • 著者名/発表者名: Akihiro Takano, Akira Kawai
  • 学会等名: International symposium on materials & processes for advanced microlithography and nanotechnology 2009
  • 発表場所: Chiba, Japan
• [学会発表] Dielectric dispersio analysis of resist laye (2009)
  • 著者名/発表者名: Hiroki Sasazaki, Takahiro Kato, Akira Kawai, Katsuyoshi Hamasaki
  • 学会等名: International symposium on materials & processes for advanced microlithography and nanotechnology 2009
  • 発表場所: Chiba, Japan
• [学会発表] Characterization of photomask substrate in optical lithography (2009)
  • 著者名/発表者名: Junji Miyazaki, Akira Kawai
  • 学会等名: International symposium on materials & processes for advanced microlithography and nanotechnology 2009
  • 発表場所: Chiba, Japan
• [学会発表] Analysis of self-standing structure composed by thick resist layers. (2009)
  • 著者名/発表者名: Akihiro Takano, Akira Kawai
  • 学会等名: International symposium on materials & processes for advanced microlithography and nanotechnology 2009
  • 発表場所: Chiba, Japan
• [学会発表] 純水中のイオン電流測定による溶存酸素濃度モニタリング (2008)
  • 著者名/発表者名: 高野覚啓、河合晃
  • 学会等名: 平成20年度(第18回)電気学会東京支部新潟支所研究発表会
  • 発表場所: 新潟大学
  • 年月日: 2008-11-08
• [学会発表] エクスリヤ ペットプーチャイ、アニール処理中のシリコン基板の表面酸化抑制 (2008)
  • 著者名/発表者名: 河合 晃
  • 学会等名: 平成20年度(第18回)電気学会東京支部新潟支所研究発表会
  • 発表場所: 新潟大学
  • 年月日: 2008-11-08
• [学会発表] バブル法による液中ガス溶解度解析 (2008)
  • 著者名/発表者名: 田中大祐、河合晃
  • 学会等名: 平成20年度(第18回)電気学会東京支部新潟支所研究発表会
  • 発表場所: 新潟大学
  • 年月日: 2008-11-08
• [学会発表] マスクシフト型異方性エッチングによるSi(100)面の真円加工 (2008)
  • 著者名/発表者名: 山路貴司、河合晃
  • 学会等名: 平成20年度(第18回)電気学会東京支部新潟支所研究発表会
  • 発表場所: 新潟大学
  • 年月日: 2008-11-08
• [学会発表] 静電容量測定による液体窒素の誘電率の周波数分散特性 (2008)
  • 著者名/発表者名: 笹崎大生, 加藤孝弘, 河合晃, 濱崎勝義
  • 学会等名: 平成20年度(第18回)電気学会東京支部新潟支所研究発表会
  • 発表場所: 新潟大学
  • 年月日: 2008-11-08
• [学会発表] アニール処理中のシリコン基板の表面酸化抑制 (2008)
  • 著者名/発表者名: 河合晃, エクスリヤ ペットプーチヤイ
  • 学会等名: 平成20年度(第18回)電気学会東京支部新潟支所研究発表会
  • 発表場所: 新潟大学
  • 年月日: 2008-11-08
• [学会発表] 10nm以下の極近接領域で作用する固体の引力と変位解析 (2007)
  • 著者名/発表者名: 山路貴司、河合 晃
  • 学会等名: 第17回電気学会東京支部新潟支所研究発表会
  • 発表場所: 長岡技術科学大学
  • 年月日: 2007-11-23
• [学会発表] シード層によるCuメッキ薄膜の成長促進メカニズム (2007)
  • 著者名/発表者名: 田中竜太郎、河合 晃
  • 学会等名: 第17回電気学会東京支部新潟支所研究発表会
  • 発表場所: 長岡技術科学大学
  • 年月日: 2007-11-23
• [学会発表] 環境制御型走査電子顕微鏡(ESEM)を用いた直系10μm微粒子間のメニスカス操作による再配列技術の開発 (2007)
  • 著者名/発表者名: 倉野一俊、河合 晃
  • 学会等名: 第17回電気学会東京支部新潟支所研究発表会
  • 発表場所: 長岡技術科学大学
  • 年月日: 2007-11-23
• [学会発表] 試作した縮小投影露光装置を用いた3μmルールリソグラフィー技術の開発 (2007)
  • 著者名/発表者名: 田中大祐、山中雅貴、河合 晃
  • 学会等名: 第17回電気学会東京支部新潟支所研究発表会
  • 発表場所: 長岡技術科学大学
  • 年月日: 2007-11-23
• [学会発表] 液中動作MEMSデバイス内の微細パターン構造の破壊抑制 (2007)
  • 著者名/発表者名: 倉野一俊、河合 晃
  • 学会等名: 第17回電気学会東京支部新潟支所研究発表会
  • 発表場所: 長岡技術科学大学
  • 年月日: 2007-11-23
• [学会発表] 自己振動プローブ機構を用いた地震振動スペクトルの新規検出システムの開発 (2007)
  • 著者名/発表者名: 黒田真吾、河合 晃
  • 学会等名: 第17回電気学会東京支部新潟支所研究発表会
  • 発表場所: 長岡技術科学大学
  • 年月日: 2007-11-23
• [学会発表] 擬似欠陥マスクを用いたSi異方性エッチング形状異常の発生メカニズム (2007)
  • 著者名/発表者名: 黒田真吾、河合 晃
  • 学会等名: 第17回電気学会東京支部新潟支所研究発表会
  • 発表場所: 長岡技術科学大学
  • 年月日: 2007-11-23
• [学会発表] 10.3μmΦシリカ粒子表面への銅薄膜メッキ技術の開発 (2007)
  • 著者名/発表者名: 久保田陽満、河合 晃
  • 学会等名: 第17回電気学会東京支部新潟支所研究発表会
  • 発表場所: 長岡技術科学大学
  • 年月日: 2007-11-23
• [学会発表] 局所電界印加法による基板上に付着した10.3μmΦシリカ粒子の非接触除去 (2007)
  • 著者名/発表者名: 久保田陽満、河合 晃
  • 学会等名: 第17回電気学会東京支部新潟支所研究発表会
  • 発表場所: 長岡技術科学大学
  • 年月日: 2007-11-23
• [学会発表] 微小液滴の冷却過程とカプセル化 (2007)
  • 著者名/発表者名: 倉野一俊、河合 晃
  • 学会等名: 日本接着学会第45回年次大会
  • 発表場所: 東京大学
  • 年月日: 2007-06-28
• [学会発表] 原子間力顕微鏡(AFM)によるナノバブルの付着凝集解析 (2007)
  • 著者名/発表者名: 河合 晃、倉野一俊、鈴木健太
  • 学会等名: 日本接着学会第45回年次大会
  • 発表場所: 東京大学
  • 年月日: 2007-06-28
• [学会発表] Bubbles condensed at resist/water interface analyzed by atomic force microscopy (2007)
  • 著者名/発表者名: Akira Kawai and Kenta Suzuki
  • 学会等名: International symposium on materials & processes for advanced microlithography and nanotechnology 2006
  • 発表場所: Chiba, Japan
• [学会発表] 微小液滴の冷却過程とカプセル化 (2007)
  • 著者名/発表者名: 倉野一俊、河合晃
  • 学会等名: 日本接着学会第45回年次大会、講演予稿集
  • 発表場所: 東京大学
• [学会発表] 原子間力顕微鏡(AFM)によるナノバブルの付着凝集解析 (2007)
  • 著者名/発表者名: 河合 晃、倉野一俊、鈴木健太
  • 学会等名: 日本接着学会第45回年次大会、講演予稿集
  • 発表場所: 東京大学
• [学会発表] 10nm以下の極近接領域で作用する固体の引力と変位解析 (2007)
  • 著者名/発表者名: 山路貴司、河合 晃
  • 学会等名: 第17回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集
  • 発表場所: 長岡技術科学大学
• [学会発表] シード層によるCuメッキ薄膜の成長促進メカニズム (2007)
  • 著者名/発表者名: 田中竜太郎、河合 晃
  • 学会等名: 第17回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集
  • 発表場所: 長岡技術科学大学
• [学会発表] 環境制御型走査電子顕微鏡(ESEM)を用いた直系10μm微粒子間のメニスカス操作による再配列技術の開発 (2007)
  • 著者名/発表者名: 倉野一俊、河合 晃
  • 学会等名: 第17回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集
  • 発表場所: 長岡技術科学大学
• [学会発表] 試作した縮小投影露光装置を用いた3μmルールリソグラフィー技術の開発 (2007)
  • 著者名/発表者名: 田中大祐, 山中雅貴、河合晃
  • 学会等名: 第17回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集
  • 発表場所: 長岡技術科学大学
• [学会発表] 液中動作MEMSデバイス内の微細パターン構造の破壊抑制 (2007)
  • 著者名/発表者名: 倉野一俊、河合晃
  • 学会等名: 第17回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集
  • 発表場所: 長岡技術科学大学
• [学会発表] 自己振動プローブ機構を用いた地震振動スペクトルの新規検出システムの開発 (2007)
  • 著者名/発表者名: 黒田真吾、河合晃
  • 学会等名: 第17回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集
  • 発表場所: 長岡技術科学大学
• [学会発表] 擬似欠陥マスクを用いたSi異方性エッチング形状異常の発生メカニズム (2007)
  • 著者名/発表者名: 黒田真吾、河合晃
  • 学会等名: 第17回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集
  • 発表場所: 長岡技術科学大学
• [学会発表] 10.3μmφシリカ粒子表面への銅薄膜メッキ技術の開発 (2007)
  • 著者名/発表者名: 久保田陽満、河合晃
  • 学会等名: 第17回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集
  • 発表場所: 長岡技術科学大学
• [学会発表] 局所電界印加法による基板上に付着した10.3μmφシリカ粒子の非接触除去 (2007)
  • 著者名/発表者名: 久保田陽満、河合晃
  • 学会等名: 第17回電気学会東京支部新潟支所研究発表会、予稿集
  • 発表場所: 長岡技術科学大学
• [図書] プリンタブル・エレクトロニクス技術開発技術情報協会 (2008)
• [図書] 接着界面の分析・試験法 (2008)
  • 著者名/発表者名: (分担執筆)
  • 出版者: 情報機構
• [図書] 微小液滴の基礎物性とその制御 (2008)
  • 著者名/発表者名: (分担執筆)
  • 出版者: 技術情報協会
• [図書] 接着界面の分析・試験法 (2008)
  • 著者名/発表者名: 河合晃
  • 総ページ数: 242
  • 出版者: 情報機構
• [図書] プリンタブル・エレクトロニクス技術開発 (2008)
  • 著者名/発表者名: 河合晃
  • 総ページ数: 294
  • 出版者: 技術情報協会
• [図書] レジストパターン上の気泡除去 (2007)
  • 著者名/発表者名: (分担執筆)
  • 出版者: 技術情報協会
• [図書] インクジェットプリンターの応用と材料II、インクジェットインク・微小液滴の基礎物性 (2007)
  • 著者名/発表者名: (分担執筆)
  • 出版者: シーエムシー出版
• [図書] 表面・深さ方向の分析方法、レジスト、サイエンス&テクノロジー (2007)
  • 著者名/発表者名: (分担執筆)
• [備考]
  • URL: http://kawai.nagaokaut.ac.jp
• [備考]
  • URL: http://kawai.nagaokaut.ac.jp
• [産業財産権] 屈折率分布の解析方法 (2007)
  • 発明者名: 河合 晃、川上喜章
  • 権利者名: 長岡技術科学大学
  • 産業財産権番号: 2007-038310
  • 出願年月日: 2007-02-19
• [産業財産権] 振動測定装置及び振動測定方法 (2007)
  • 発明者名: 河合 晃
  • 権利者名: 長岡技術科学大学
  • 産業財産権番号: 2007-169543
  • 出願年月日: 2007-06-27
• [産業財産権] ナノ気泡の判別方法及びその装置 (2007)
  • 発明者名: 鈴木健太、河合 晃
  • 権利者名: 長岡技術科学大学
  • 産業財産権番号: 2007-293673
  • 出願年月日: 2007-11-19
• [産業財産権] ナノ気泡の判別方法及びその装置 (2007)
  • 発明者名: 鈴木健太, 河合 晃
  • 権利者名: 長岡技術科学大学
  • 産業財産権番号: 2007-293673
  • 出願年月日: 2007-11-19