バイオミメティック微細構造制御による超高速エレクトロクロミック新材料の開発

• 研究課題/領域番号: 19360287
• 研究種目: 基盤研究(B)
• 配分区分: 補助金
• 応募区分: 一般
• 研究分野: 金属物性
• 研究機関: 名古屋大学
• 研究代表者: 井上 泰志 名古屋大学, エコトピア科学研究所, 准教授 (10252264)
• 研究期間 (年度): 2007 – 2009
• 研究課題ステータス: 完了 (2009年度)
• 配分額: 19,760千円 (直接経費: 15,200千円、間接経費: 4,560千円); 2009年度: 6,500千円 (直接経費: 5,000千円、間接経費: 1,500千円); 2008年度: 6,370千円 (直接経費: 4,900千円、間接経費: 1,470千円); 2007年度: 6,890千円 (直接経費: 5,300千円、間接経費: 1,590千円)
• キーワード: エレクトロクロミック / 色変化速度 / 窒化インジウム / 斜め堆積法 / バイオミメティック / 反応性プラズマ / ナノロッド構造 / 反応性イオンプレーティング / 反応性スパッタリング / 窒素ラジカル支援真空蒸着

研究概要

本研究では,反応性プラズマプロセスに斜め堆積法を導入することにより,InN薄膜の微細構造制御を行い,エレクトロクロミック律速因子を明らかにした.最も早い色変化応答時間として0.1秒を実現した.

研究成果

• [雑誌論文] Electrochromic phenomenon in indium-tin oxide thin films deposited by RF magnetron sputtering (2010)
  • 著者名/発表者名: Yasushi Inoue, Jun Matsui, Hiroyuki Ishikawa, Hayato Tsuda, Osamu Takai
  • 雑誌名: Thin Solid Films (in press)
  • 査読あり
• [雑誌論文] Electrochromic phenomenon in indium-tin oxide thin films deposited by RF magnetron sputtering (2010)
  • 著者名/発表者名: Y.Inoue, J.Matsui, H.Ishikawa, H.Tsuda, O.Takai
  • 雑誌名: Thin Solid Films (in press)
  • 査読あり
• [雑誌論文] 反応性プラズマ中の斜め堆積による微絨毛構造状窒化物薄膜の形成 (2009)
  • 著者名/発表者名: 井上泰志, 高井治
  • 雑誌名: 真空 52巻4号 ページ: 191-196
  • NAID: 10024897959
  • 査読あり
• [雑誌論文] Electrochromic Properties of InN:Sn Films Deposited by Reactive Evaporation (2009)
  • 著者名/発表者名: Y.Inoue, H.Takeuchi, H.Ishikawa, O.Takai
  • 雑誌名: Thin Solid Films 518 ページ: 1001-1005
  • 査読あり
• [雑誌論文] 反応性プラズマ中の斜め堆積による微絨毛構造状窒化物薄膜の形成 (2009)
  • 著者名/発表者名: 井上泰志, 高井治
  • 雑誌名: 真空 52 ページ: 191-196
  • NAID: 10024897959
  • 査読あり
• [雑誌論文] 反応性プラズマ中の斜め堆積による微絨毛構造状窒化物薄膜の形成 (2009)
  • 著者名/発表者名: 井上泰志, 高井治
  • 雑誌名: 真空 (in press)
  • NAID: 10024897959
  • 査読あり
• [雑誌論文] Electrochromic Properties of InN : Sn Films Deposited by Reactive Evaporation (2009)
  • 著者名/発表者名: Y. Inoue, H. Takeuchi, H. Ishikawa, O. Takai
  • 雑誌名: Thin Solid Films (Accepted)
  • 査読あり
• [雑誌論文] Influence of Ar gas flow rate in organosilicon plasma for the fabrication of SiO : CH thin films by PECVD method (2008)
  • 著者名/発表者名: Y. Yun, T. Yoshida, N. Shimazu, N. Nanba, Y. Inoue, N. Saito, O. Takai
  • 雑誌名: Surface & Coatings Technology 202 ページ: 5259-5261
  • 査読あり
• [雑誌論文] Biomimetic Improvement of Electrochromic Properties of Indium Nitride (2007)
  • 著者名/発表者名: Y. Inoue, A. Yamaguchi, T. Fujihara, J. Yamazaki, O. Takai
  • 雑誌名: J. Electrochem. Soc. 154
  • 査読あり
• [雑誌論文] Radio frequency power dependence in formation of SiO: CH thin films by plasma-enhanced chemical vapor deposition (2007)
  • 著者名/発表者名: YS. Yun, T. Yoshida, N. Shimazu, N. Nanba, Y. Inoue, N. Saito and O. Takai
  • 雑誌名: Jpn. J. Appl. Phys. 46 ページ: 7460-7464
  • 査読あり
• [雑誌論文] PECVD法による超はっ水薄膜の作製とその形成過程の観察 (2007)
  • 著者名/発表者名: 尹龍燮, 吉田敬典, 島津徳文, 難波直樹, 井上泰志, 齋藤永宏, 高井治
  • 雑誌名: 表面技術 58 ページ: 307-311
  • NAID: 130000148795
  • 査読あり
• [雑誌論文] Electrochromic Properties of InN:Sn Films Deposited by Reactive Evaporation
  • 著者名/発表者名: Y. Inoue, H. Takeuchi, H. Ishikawa, O. Takai
  • 雑誌名: Thin Solid Films Volume518,Issue3 ページ: 1001-1005
  • 査読あり
• [学会発表] 活性窒素支援蒸着法により作製した窒化マグネシウム薄膜の物性評価及び微細構造制御 (2010)
  • 著者名/発表者名: 岩井雄二郎, 津田早登, 石川裕幸, 井上泰志, 高井治
  • 学会等名: 日本金属学会2010年春期大会 (第146回)
  • 発表場所: 筑波大学
  • 年月日: 2010-03-30
• [学会発表] ITO透明導電膜のエレクトロクロミック特性 (2010)
  • 著者名/発表者名: 長谷川和也, 津田早登, 石川裕幸, 井上泰志, 高井治
  • 学会等名: 第57回応用物理学会関係連合講演会
  • 発表場所: 東海大学
  • 年月日: 2010-03-19
• [学会発表] 平行平板型PECVD法により堆積したa-C:H膜のはっ水特性評価 (2010)
  • 著者名/発表者名: 秋山慎太朗, 大石竜輔, 内川直和, 井上泰志, 高井治
  • 学会等名: 表面技術協会第121回講演大会
  • 発表場所: 成蹊大学
  • 年月日: 2010-03-15
• [学会発表] レーザー誘起蛍光法による乾式/湿式微量蛍光物質の面分析 (2010)
  • 著者名/発表者名: 大塚一平, 井上泰志
  • 学会等名: 表面技術協会第121回講演大会
  • 発表場所: 成蹊大学
  • 年月日: 2010-03-15
• [学会発表] PECVDプロセス初期段階におけるナノクラスター堆積の時間依存性 (2010)
  • 著者名/発表者名: 内川直和, 秋山慎太朗, 井上泰志, 高井治
  • 学会等名: 表面技術協会第121回講演大会
  • 発表場所: 成蹊大学
  • 年月日: 2010-03-15
• [学会発表] LIF Surface Analysis of Fluorescent Substances Distribution (2010)
  • 著者名/発表者名: 大塚一平, 井上泰志
  • 学会等名: BMMP-10
  • 発表場所: Nagoya University
  • 年月日: 2010-01-26
• [学会発表] Observation of Microstructure of EC-reacted InN Thin Films (2009)
  • 著者名/発表者名: H.Ishikawa, Y.Inoue, O.Takai
  • 学会等名: 第19回日本MRS学術シンポジウム
  • 発表場所: 横浜市開港記念会館
  • 年月日: 2009-12-09
• [学会発表] Electrochromic Properties of Tin nitride Film with Spiral-structured Nanocolumns Deposited by Glancing Angle Sputtering (2009)
  • 著者名/発表者名: H.Tsuda, H.Ishikawa, Y.Iwai, K.Hasegawa, Y.Inoue, O.Takai
  • 学会等名: 第19回日本MRS学術シンポジウム
  • 発表場所: 横浜市開港記念会館
  • 年月日: 2009-12-09
• [学会発表] Influence of Gas Flow Rate on Nanomorphology of SiOCH Films Deposited by PECVD (2009)
  • 著者名/発表者名: N.Uchikawa, S.Akiyama, Y.Inoue, O.Takai
  • 学会等名: 第19回日本MRS学術シンポジウム
  • 発表場所: 横浜市開港記念会館
  • 年月日: 2009-12-09
• [学会発表] LIF Surface Distribution Analysis of Fluorescent Substances (2009)
  • 著者名/発表者名: 大塚一平, 井上泰志
  • 学会等名: 第19回日本MRS学術シンポジウム
  • 発表場所: 横浜市開港記念会館
  • 年月日: 2009-12-09
• [学会発表] Characteristics of ITO Thin Films Deposited by Glancing-angle Deposition Technique (2009)
  • 著者名/発表者名: K.Hasegawa, H.Tsuda, H.Ishikawa, Y.Iwai, Y.Inoue, O.Takai
  • 学会等名: 第19回日本MRS学術シンポジウム
  • 発表場所: 横浜市開港記念会館
  • 年月日: 2009-12-09
• [学会発表] Propriety of Magnesium nitride films Prepared by evaporation Assisted with active nitrogen source (2009)
  • 著者名/発表者名: Y.Iwai, Y.Ishikawa, H.Tsuda, Y.Inoue, O.Takai
  • 学会等名: 第19回日本MRS学術シンポジウム
  • 発表場所: 横浜市開港記念会館
  • 年月日: 2009-12-09
• [学会発表] Morphological Investigation of a-C:H Films Deposited by Parallel-plate Plasma CVD (2009)
  • 著者名/発表者名: S.Akiyama, R.Oishi, N.Uchikawa, Y.Inoue, O.Takai
  • 学会等名: 第19回日本MRS学術シンポジウム
  • 発表場所: 横浜市開港記念会館
  • 年月日: 2009-12-08
• [学会発表] Effect of hydrogen addition and negative self-bias in the deposit DLC by RF-PCVD method (2009)
  • 著者名/発表者名: R.Ohishi, S.Fujimoto, N.Ohtake, Y.Inoue, O.Takai
  • 学会等名: 第19回日本MRS学術シンポジウム
  • 発表場所: 横浜市開港記念会館
  • 年月日: 2009-12-08
• [学会発表] ITOのエレクトロクロミック現象 (2009)
  • 著者名/発表者名: 井上泰志
  • 学会等名: 日本真空協会SP部会第6回技術交流会
  • 発表場所: 機械振興会館
  • 年月日: 2009-11-20
• [学会発表] ナノ構造制御の新展開-微絨毛状ナノ構造化による吸着誘起型エレクトロクロミック特性の向上 (2009)
  • 著者名/発表者名: 井上泰志, 高井治
  • 学会等名: 第50回真空に関する連合講演会
  • 発表場所: 学習院大学
  • 年月日: 2009-11-05
• [学会発表] Fabrication of isolated nanocolumnar structures in reactive plasma environment (2009)
  • 著者名/発表者名: Yasushi Inoue, Osamu Takai
  • 学会等名: Asia-Europe Plasma Surface Engineering 2009
  • 発表場所: Busan, Korea
  • 年月日: 2009-09-21
• [学会発表] Fabrication of isolated nanocolumnar structures in reactive plasma environment (2009)
  • 著者名/発表者名: 井上泰志, 高井治
  • 学会等名: Asia-Europe Plasma Surface Engineering 2009
  • 発表場所: BEXCO, Busan, Korea
  • 年月日: 2009-09-21
• [学会発表] Properties of Amorphous Tin-nitride Films Deposited by Glancing Angle Sputtering (2009)
  • 著者名/発表者名: H.Tsuda, H.Takeuchi, Y.Inoue, O.Takai
  • 学会等名: Asia-Europe Plasma Surface Engineering 2009
  • 発表場所: BEXCO, Busan, Korea
  • 年月日: 2009-09-21
• [学会発表] Nanomorphological Investigations of Deposits at Early Stage of PECVD (2009)
  • 著者名/発表者名: N.Uchikawa, R.Ohishi, S.Akiyama, Y.Inoue, O.Takai
  • 学会等名: Asia-Europe Plasma Surface Engineering 2009
  • 発表場所: BEXCO, Busan, Korea
  • 年月日: 2009-09-21
• [学会発表] レーザー誘起蛍光法による微量粒子分布の面分析 (2009)
  • 著者名/発表者名: 大塚一平, 井上泰志
  • 学会等名: 表面技術協会第120回講演大会
  • 発表場所: 幕張メッセ
  • 年月日: 2009-09-18
• [学会発表] リモート式プラズマCVD法における成膜初期段階のナノクラスター堆積状態 (2009)
  • 著者名/発表者名: 内川直和, 大石竜輔, 秋山慎太朗, 井上泰志, 高井治
  • 学会等名: 表面技術協会第120回講演大会
  • 発表場所: 幕張メッセ
  • 年月日: 2009-09-18
• [学会発表] 斜め堆積スパッタ法による微細構造制御窒化スズ薄膜の作製とその特性 (2009)
  • 著者名/発表者名: 津田早登, 石川裕幸, 井上泰志, 高井治
  • 学会等名: 日本金属学会2009年秋季講演大会
  • 発表場所: 京都大学
  • 年月日: 2009-09-17
• [学会発表] Detection of Small Amount of Uranyl by Using LIF (2009)
  • 著者名/発表者名: Yasushi Inoue, Ippei Ohtsuka, Midori Ohbayashi
  • 学会等名: R'09
  • 発表場所: Nagoya University
  • 年月日: 2009-09-14
• [学会発表] InN薄膜のエレクトロクロミック応答特性における支持電解質温度の影響 (2009)
  • 著者名/発表者名: 石川裕幸, 井上泰志, 高井治
  • 学会等名: 第70回応用物理学会学術講演会
  • 発表場所: 富山大学
  • 年月日: 2009-09-09
• [学会発表] Electrochromic Properties of Nanostructured Tin-nitride Thin Film Prepared by Reactive Sputteing (2009)
  • 著者名/発表者名: Hayato Tsuda, Hiroyuki Ishikawa, Yasuhsi Inoue, Osamu Takai
  • 学会等名: The 10th Int.Symp.Sputtering & Plasma Processes (ISSP 2009)
  • 発表場所: Kanazawa Kokusai Hotel
  • 年月日: 2009-07-10
• [学会発表] Novel 00. 80. 60. 40. 2Sncomposition (In1-xSnxN)650550500600Peak Position ( nm)70045000. 80. 60. 40. 2Sncomposition 700450 Electrochromic Phenomenon in ITO Thin Films Deposited by RF Magnetron Sputtering (2009)
  • 著者名/発表者名: Y. Inoue, J. Matsui, H. Ishikawa, H. Tsuda, O. Takai
  • 学会等名: Proc. The 10th Int. Symp. Sputtering, Plasma Processes (ISSP 2009)
  • 発表場所: Kanazawa Kokusai Hotel
  • 年月日: 2009-07-09
• [学会発表] Novel Electrochromic Phenomenon in ITO Thin Films Deposited by RF Magnetron Sputtering (2009)
  • 著者名/発表者名: Y.Inoue, J.Matsui, H.Ishikawa, H.Tsuda, O.Takai
  • 学会等名: The 10th Int.Symp.Sputtering & Plasma Processes (ISSP 2009)
  • 発表場所: Kanazawa Kokusai Hotel
  • 年月日: 2009-07-09
• [学会発表] 斜め堆積法を用いて作製した二層構造InN薄膜のEC応答特性におけるR比の最適化 (2009)
  • 著者名/発表者名: 石川裕幸, 竹内宏樹, 井上泰志, 高井治
  • 学会等名: 第56回応用物理学関係連合講演会
  • 発表場所: 筑波大学
  • 年月日: 2009-03-31
• [学会発表] 斜め堆積スパッタ法を用いたITO微細構造膜の作製とEC特性評価 (2009)
  • 著者名/発表者名: 松井淳, 石川裕幸, 竹内宏樹, 津田早登, 井上泰志, 高井治
  • 学会等名: 第56回応用物理学関係連合講演会
  • 発表場所: 筑波大学
  • 年月日: 2009-03-31
• [学会発表] 斜め堆積スパッタ法による窒化スズ薄膜堆積における成膜ガス圧の影響 (2009)
  • 著者名/発表者名: 津田早登, 井上泰志, 高井治
  • 学会等名: 日本金属学会2009年春期講演大会
  • 発表場所: 東京工業大学
  • 年月日: 2009-03-29
• [学会発表] InN薄膜のエレクトロクロミック特性に及ぼすSn添加の影響 (2009)
  • 著者名/発表者名: 竹内宏樹, 津田早登, 井上泰志, 高井治
  • 学会等名: 日本金属学会2009年春期講演大会
  • 発表場所: 東京工業大学
  • 年月日: 2009-03-29
• [学会発表] 斜め堆積スパッタ法により作製したアモルファス窒化スズ薄膜の特性 (2009)
  • 著者名/発表者名: 津田早登, 竹内宏樹, 井上泰志, 高井治
  • 学会等名: プラズマ科学シンポジウム2009
  • 発表場所: 名古屋大学
  • 年月日: 2009-02-03
• [学会発表] 活性窒素源支援蒸着法により作製した微細構造InSnN薄膜の工レクトロクロミック特性 (2009)
  • 著者名/発表者名: 竹内宏樹, 石川裕幸, 松井淳, 井上泰志, 高井治
  • 学会等名: プラズマ科学シンポジウム2009
  • 発表場所: 名古屋大学
  • 年月日: 2009-02-03
• [学会発表] 斜め堆積法により作製した二層構造InN薄膜のエレクトロクロミック応答特性 (2009)
  • 著者名/発表者名: 石川裕幸, 竹内宏樹, 井上泰志, 高井治
  • 学会等名: プラズマ科学シンポジウム2009
  • 発表場所: 名古屋大学
  • 年月日: 2009-02-03
• [学会発表] 斜め堆積法により作製したITO薄膜のエレクトロクロミック特性 (2009)
  • 著者名/発表者名: 松井淳, 竹内宏樹, 津田早登, 井上泰志, 高井治
  • 学会等名: プラズマ科学シンポジウム2009
  • 発表場所: 名古屋大学
  • 年月日: 2009-02-03
• [学会発表] EC properties of Nitride Films with Upgraded Microvillus Structures (2009)
  • 著者名/発表者名: Y. Inoue, H. Tsuda, H. Takeuchi, H. Ishiwakwa, J. Matsui, O. Takai
  • 学会等名: 9th International Symposium on Biomimetic Materials Processing
  • 発表場所: Nagoya University
  • 年月日: 2009-01-23
• [学会発表] Electrochromic Properties of Biomimetic Tin-nitride Films Deposited by Reactive Sputtering (2009)
  • 著者名/発表者名: Y. Inoue, H. Tsuda, H. Takeuchi, H. Ishiwakwa, J. Matsui, O. Takai
  • 学会等名: Ninth International Symposium on Biomimetic Materials Processing
  • 発表場所: 名古屋大学
  • 年月日: 2009-01-23
• [学会発表] Electrochromic Properties of Biomimetic Tin-nitride Films Deposlted by Reactive Sputtering (2009)
  • 著者名/発表者名: H. Tsuda, H. Takeuchi, H. Ishiwakwa, J. Matsui, Y. inoue, O. Takai
  • 学会等名: Ninth International Symposiurn on Biomimetic Materials Processing
  • 発表場所: 名古屋大学
  • 年月日: 2009-01-22
• [学会発表] Electrchromic Properties of 2-llaycr Structured InN Films Deposite by Reactive Ion Plating System with Gracing-angle Deposition (2009)
  • 著者名/発表者名: H. Ishikawa, H. Takeuchi, Y. Inoue, O. Takai
  • 学会等名: Ninth Internatinal Symposiunmn on Bioimetic Materials Processing
  • 発表場所: 古屋大学
  • 年月日: 2009-01-22
• [学会発表] Influence of Pressure on Crystallinity and Electrochromic Properties of T in-nitride Thin Films Deposited by Reactive Sputtering (2008)
  • 著者名/発表者名: H. Tsuda, H. Takeuchi, H. Ishikawa, Y Inoue, O. Takai
  • 学会等名: IUMRS-ICA 2008
  • 発表場所: 名古屋国際会議場
  • 年月日: 2008-12-12
• [学会発表] Effect of Sn Doping on Electrochromic Properties of InN Films prepared by Evaporation Assisted with Active Nitrogen Source (2008)
  • 著者名/発表者名: H. Takeuchi, H. Ishikawa, J. Matsui, Y. Inoue, O. Takai
  • 学会等名: IUMRS-ICA 2008
  • 発表場所: 名古屋国際会議場
  • 年月日: 2008-12-12
• [学会発表] Electrochromic Properties of InN Thin Films with Controlled Vertical Microstruetures (2008)
  • 著者名/発表者名: H. Ishikawa, H. Takeuchi, Y. Inoue, O. Takai
  • 学会等名: IUMRS-ICA 2008
  • 発表場所: 名古屋国際会議場
  • 年月日: 2008-12-12
• [学会発表] Electrochromic Properties of ITO Thin Films Deposittedby RF Magnetoron Sputtering (2008)
  • 著者名/発表者名: J. Matsui, H. Takeuchi, H. Tsuda, Y. Inoue, O. Takai
  • 学会等名: IUMRS-ICA 2008
  • 発表場所: 名古屋国際会議場
  • 年月日: 2008-12-12
• [学会発表] Adsorbate-Induced Electrochromic Phenomenon (2008)
  • 著者名/発表者名: Y. Inoue, H. Takeuchi, H. Ishikawa, J. Matsui, O. Takai
  • 学会等名: IUMRS-ICA 2008
  • 発表場所: 名古屋国際会議場
  • 年月日: 2008-12-12
• [学会発表] Adsorbate-Induced Electrochromic Phenomenon (2008)
  • 著者名/発表者名: Y. Inoue, H. Takeuchi, H. Ishikawa, J. Matsui, O. Takai
  • 学会等名: IUMRS-ICA-2008
  • 発表場所: Nagoya
  • 年月日: 2008-12-09
• [学会発表] Influence of Substrate Temperature on Reactive-sputtered Tin-nitride Thin Films Prepared by Glancing Angle Deposition (2008)
  • 著者名/発表者名: Hayato Tsuda, Hiroki Takeuchi, Yasushi Inoue, Osamu Takai
  • 学会等名: The 55th AVS International Symposium and Exhibition
  • 発表場所: Hynes Convention Center, Boston, USA
  • 年月日: 2008-10-23
• [学会発表] Effect of Deposition Temperature on Microvillus-struetured InGaN Films Deposited by Glancing-angle Reactive Evaporation (2008)
  • 著者名/発表者名: Hidetaka Takaba, Hiroki Takeuchi, Yasushi Inoue, Osamu Takai
  • 学会等名: The 55th AVS International Symposium and Exhibition
  • 発表場所: Hynes Convention Center, Boston, USA
  • 年月日: 2008-10-23
• [学会発表] Electrochromic Properties of InN : Sn Films Deposited by Reactive Evaporation (2008)
  • 著者名/発表者名: H. Ishikawa, H. Takeuchi, Y. Inoue, O. Takai
  • 学会等名: The 55th AVS International Symposium and Exhibition
  • 発表場所: Hynes Convention Center, Boston, USA
  • 年月日: 2008-10-23
• [学会発表] Electrochromic Properties of InN : Sn Films Deposited by Reactive Evaporation (2008)
  • 著者名/発表者名: Y. Inoue, H. Takeuchi, H. Ishikawa, O. Takai
  • 学会等名: The 9th Asia-Pacific Conference on Plasma Science and Technology
  • 発表場所: Huangshan Int. hotel, huangshan, china
  • 年月日: 2008-10-11
• [学会発表] 反応性スパッタにより作製したアモルファス窒化スズ薄膜の作製とその特性 (2008)
  • 著者名/発表者名: 津田早登, 井上泰志, 高井治
  • 学会等名: 日本金属学会第143回講演大会
  • 発表場所: 熊本大学
  • 年月日: 2008-09-25
• [学会発表] 斜め堆積反応性蒸着法により作製した微細構造SnドープInN薄膜のEC特性 (2008)
  • 著者名/発表者名: 竹内宏樹, 石川裕幸, 井上泰志, 高井治
  • 学会等名: 日本金属学会第143回講演大会
  • 発表場所: 熊本大学
  • 年月日: 2008-09-25
• [学会発表] 柱状構造を制御したInN薄膜のエレクトロクロミック応答特性 (2008)
  • 著者名/発表者名: 石川裕幸, 竹内宏樹, 井上泰志, 高井治
  • 学会等名: 第69回応用物理学会学術講演会
  • 発表場所: 中部大学
  • 年月日: 2008-09-02
• [学会発表] Electrochromism of Tin-nitride Thin Film Deposited by Reactive Sputtering (2008)
  • 著者名/発表者名: H. Tsuda, H. Takeuchi, Y. Inoue, O. Takai
  • 学会等名: 8th Internatinal Meeting on Electrochromism
  • 発表場所: Seoul National University, Seoul, Korea
  • 年月日: 2008-08-26
• [学会発表] Effect of Sn Doping on Electrochromic Properties of InN Films Deposited by Reactive Ion Plating (2008)
  • 著者名/発表者名: H. Takeuchi, H. Ishikawa, Y. Inoue, O. Takai
  • 学会等名: 8th Internatinal Meeting on Electrochromism
  • 発表場所: Seoul National University, Seoul, Korea
  • 年月日: 2008-08-26
• [学会発表] Electrochromic Response of InN Thin Films with Controlled Microstructures (2008)
  • 著者名/発表者名: H. Ishikawa, H. Takeuchi, Y. Inoue, O. Takai
  • 学会等名: 8th Internatinal Meeting on Electrochromism
  • 発表場所: Seoul National University, Seoul, Korea
  • 年月日: 2008-08-26
• [学会発表] Electrochromic properties of InSnN films deposited by Reactive Ion Plating (2008)
  • 著者名/発表者名: H. Takeuchi, H. Ishikawa, Y. Inoue, O. Takai
  • 学会等名: Interfinish 2008
  • 発表場所: Grand Hotel Haeundae, Busan, Korea
  • 年月日: 2008-06-16
• [学会発表] Electrochromic Phenomenon Originated in Surface Reaction (2008)
  • 著者名/発表者名: Y. Inoue, O. Takai
  • 学会等名: Interfinish 2008
  • 発表場所: Grand Hotel Haeundae, Busan, Korea
  • 年月日: 2008-06-16
• [学会発表] Biomimetic Functionalization in Coating Materials (2008)
  • 著者名/発表者名: Y. Inoue, O. Takai
  • 学会等名: Int. Engineering Research Conf.2008
  • 発表場所: University of San Carlos, Cebu, Philippines
  • 年月日: 2008-03-14
• [学会発表] Electrochromic properties of microvillus-structured InGaN films prepared by glancing-angle reactive evaporation (2008)
  • 著者名/発表者名: H. Takaba, H. Takeuchi, Y. Inoue, and O. Takai
  • 学会等名: The 1st Int. Conf. on Plasma-NanoTechnology & Science
  • 発表場所: Nagoya University, Japan
  • 年月日: 2008-03-13
• [学会発表] Electrochromic Properties of Biomimetic InGaN Films Prepared by Evaporation Assisted with Active Nitrogen Source (2008)
  • 著者名/発表者名: H Takaba, H. Takleuchi, Y. Inoue, O. Takai
  • 学会等名: 8th Int. Symp. Biomimetic Materials Processing
  • 発表場所: Nagoya University, Japan
  • 年月日: 2008-01-23
• [学会発表] Biomimetic Materials Processing (2007)
  • 著者名/発表者名: Osamu Takai, Yasushi Inoue
  • 学会等名: EcoDesign 2007
  • 発表場所: Miraikan & AIST, Tokyo, Japan
  • 年月日: 2007-12-12
• [学会発表] Electrochromic Properties of InGaN Films Prepared by Evaporation Assisted with Active Nitrogen Source (2007)
  • 著者名/発表者名: H. Takaba, H. Takeuchi, Y. Inoue, and O. Takai
  • 学会等名: Int. Symposium on EcoTopie Science 2007
  • 発表場所: Nagoya University, Japan
  • 年月日: 2007-11-25
• [学会発表] Electrochromic Properties of In1-xMxN Films Deposited by Reactive Ion plating (2007)
  • 著者名/発表者名: H. Takeuchi, H. Takaba, Y. Inoue, and O. Takai
  • 学会等名: The Sixth Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering
  • 発表場所: Ioujima, Nagasaki, Japan
  • 年月日: 2007-09-27
• [学会発表] Biomimetic Material Design of Electrochromic Films for Smart Windows (2007)
  • 著者名/発表者名: Y. Inoue, H. Takaba, H. Takeuchi, O. Takai
  • 学会等名: 17th Iketani Conferencce, The Doyama Symposium on Advanced Material
  • 発表場所: The University of Tokyo, Japan
  • 年月日: 2007-09-06
• [学会発表] Crystallographic and morphological properties of obliquely-sputtered nitride films (2007)
  • 著者名/発表者名: Y. Inoue, N. Kurebayashi, J. Yamazaki, N. Saito, O. Takai
  • 学会等名: The 9th International Symposium on Sputtering & Plasma Processes
  • 発表場所: Kanazawa Kokusai Hotel
  • 年月日: 2007-06-08
• [図書] ぬれと(超)撥水、(超)親水技術、そのコントロール (2007)
  • 著者名/発表者名: 井上泰志, 高井治
  • 出版者: 高分子の相分離を利用した撥水薄膜の作製
• [備考]
  • URL: http://plasma.esi.nagoya-u.ac.jp
• [備考]
  • URL: http://yinoue.numse.nagoya-u.ac.jp/