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極端紫外光による超微細加工実現へ向けた学術基盤確立のためのナノ空間反応研究

研究課題

研究課題/領域番号 19360428
研究種目

基盤研究(B)

配分区分補助金
応募区分一般
研究分野 原子力学
研究機関大阪大学

研究代表者

古澤 孝弘  大阪大学, 産業科学研究所, 准教授 (20251374)

研究分担者 佐伯 昭紀  大阪大学, 産業科学研究所, 特別科学研究員 (10362625)
研究期間 (年度) 2007 – 2009
研究課題ステータス 完了 (2009年度)
配分額 *注記
19,110千円 (直接経費: 14,700千円、間接経費: 4,410千円)
2009年度: 5,720千円 (直接経費: 4,400千円、間接経費: 1,320千円)
2008年度: 5,980千円 (直接経費: 4,600千円、間接経費: 1,380千円)
2007年度: 7,410千円 (直接経費: 5,700千円、間接経費: 1,710千円)
キーワード放射線 / X線 / 粒子線 / 半導体超微細化 / シミュレーション工学 / 計算物理 / 放射線、X線、粒子線 / 極端紫外光 / 微細加工 / ナノ空間 / 放射線化学 / レジスト / リソグラフィ / 二次電子 / 有機材料
研究概要

半導体微細加工材料のモデル化合物のパルスラジオリシスを行い、微細パターン形成機構と反応中間体の空間分布を解明した。さらに、反応機構を定式化し、モンテカルロシミュレーションコードを開発した。

報告書

(4件)
  • 2009 実績報告書   研究成果報告書 ( PDF )
  • 2008 実績報告書
  • 2007 実績報告書
  • 研究成果

    (24件)

すべて 2009 2008 2007 その他

すべて 雑誌論文 (20件) (うち査読あり 20件) 学会発表 (3件) 備考 (1件)

  • [雑誌論文] Effect of Polymer Protection and Film Thickness on Acid Generator Distribution in Chemically Amplified Resists2009

    • 著者名/発表者名
      T. Fukuyama, T. Kozawa, H. Yamamoto, S. Tagawa, M. Irie, T. Mimura, T. Iwai, J. Onodera, I. Hirosawa, T. Koganesawa, K. Horie
    • 雑誌名

      J. Photopolym. Sci. Technol 22巻

      ページ: 105-109

    • NAID

      40016635401

    • 関連する報告書
      2009 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] 放射線化学に基づく化学増幅型EB・EUVレジスト材料・プロセスの研究2009

    • 著者名/発表者名
      古澤孝弘
    • 雑誌名

      放射線化学 87巻

      ページ: 2-13

    • 関連する報告書
      2009 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Dynamics of Radical Cation of Poly(4-hydroxystyrene) and Its Copolymer for Extreme Ultraviolet and Electron Beam Resists2009

    • 著者名/発表者名
      K. Okamoto, M. Tanaka, T. Kozawa, S. Tagawa
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys 48巻

    • NAID

      210000066906

    • 関連する報告書
      2009 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Effect of Molecular Structure on Depth Profile of Acid Generator Distribution in Chemically Amplified Resist Films2009

    • 著者名/発表者名
      T. Fukuyama, T. Kozawa, K. Okamoto, S. Tagawa, M. Irie, T. Mimura, T. Iwai, J. Onodera, I. Hirosawa, T. Koganesawa, K. Horie
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys 48巻

    • NAID

      210000066903

    • 関連する報告書
      2009 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Effect of Polymer Protection and Film Thickness on Acid Generator Distribution in Chemically Amplified Resists2009

    • 著者名/発表者名
      T.Fukuyama, T.Kozawa, H.Yamamoto, S.Tagawa, M.Irie, T.Mimura, T.Iwai, J.Onodera, I.Hirosawa, T.Koganesawa, K.Horie
    • 雑誌名

      J.Photopolym.Sci.Technol. 22

      ページ: 105-109

    • NAID

      40016635401

    • 関連する報告書
      2009 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] 放射線化学に基づく化学増幅型EB・EUVレジスト材料・プロセスの研究2009

    • 著者名/発表者名
      古澤孝弘
    • 雑誌名

      放射線化学 87

      ページ: 2-13

    • 関連する報告書
      2009 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Dynamics of Radical Cation of Poly (4-hydroxystyrene) and Its Copolymer for Extreme Ultraviolet and Electron Beam Resists2009

    • 著者名/発表者名
      K.Okamoto, M.Tanaka, T.Kozawa, S.Tagawa
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys. 48

    • NAID

      210000066906

    • 関連する報告書
      2009 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Effect of Molecular Structure on Depth Profile of Acid Generator Distribution in Chemically Amplified Resist Films2009

    • 著者名/発表者名
      T.Fukuyama, T.Kozawa, K.Okamoto, S.Tagawa, M.Irie, T.Mimura, T.Iwai, J.Onodera, I.Hirosawa, T.Koganesawa, K.Horie
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys. 48

    • NAID

      210000066903

    • 関連する報告書
      2009 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Resolution degradation caused by multispur effect in chemically amplified extreme ultraviolet resists2008

    • 著者名/発表者名
      T. Kozawa, S. Tagawa, M. Shell
    • 雑誌名

      J. Appl. Phys 103巻

      ページ: 84306-84306

    • 関連する報告書
      2009 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] heoretical Study on the Dependence of Acid Distribution on Material Properties of Chemically Amplified Extreme Ultraviolet Resists2008

    • 著者名/発表者名
      T. Kozawa, S. Tagawa, M. Shell
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys 47巻

      ページ: 6288-6292

    • 関連する報告書
      2009 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Study of the Reaction of Acid Generators with Epithermal and Thermalized Electrons2008

    • 著者名/発表者名
      K. Natsuda, T. Kozawa, A. Saeki, S. Tagawa, T. Kai, T. Shimokawa
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys 47巻

      ページ: 4932-4935

    • 関連する報告書
      2009 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Resolution degradation caused by multispur effect in chemically amplified extreme ultraviolet resists2008

    • 著者名/発表者名
      T. Kozawa, S. Tagawa, M. Shell
    • 雑誌名

      J. Appl. Phys. (2008) 103

      ページ: 84306-84306

    • 関連する報告書
      2008 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Theoretical Study on the Dependence of Acid Distribution on Material Properties of Chemically Amplified Extreme Ultraviolet Resists2008

    • 著者名/発表者名
      T. Kozawa, S. Tagawa, M. Shell
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys. 47

      ページ: 6288-6292

    • NAID

      40016210997

    • 関連する報告書
      2008 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Study of the Reaction of Acid Generators with Epithermal and Thermalized Electrons2008

    • 著者名/発表者名
      K. Natsuda, T. Kozawa, A. Saeki, S. Tagawa, T. Kai, T. Shimokawa
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys. 47

      ページ: 4932-4935

    • 関連する報告書
      2008 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Acid distribution in chemically amplified extreme ultraviolet resist2007

    • 著者名/発表者名
      T. Kozawa, S. Tagawa, H.B. Cao, H. Deng, M.J. Leeson
    • 雑誌名

      J. Vac. Sci. Technol. B 25巻

      ページ: 2481-2485

    • 関連する報告書
      2009 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Point Spread Function for the Calculation of Acid Distribution in Chemically Amplified Resists Used for Electron-Beam Lithography2007

    • 著者名/発表者名
      T. Kozawa, S. Tagawa
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys 46巻

    • NAID

      210000063830

    • 関連する報告書
      2009 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Study of Acid-Base Equilibrium in Chemically Amplified Resist2007

    • 著者名/発表者名
      K. Natsuda, T. Kozawa, K. Okamoto, S. Tagawa
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys 46巻

      ページ: 7285-7289

    • NAID

      40015705098

    • 関連する報告書
      2009 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Acid distribution in chemically amplified extreme ultraviolet resist2007

    • 著者名/発表者名
      T. Kozawa, S. Tagawa, H. B. Cao, H. Deng, and M. J. Leeson
    • 雑誌名

      J. Vac. Sci. Technol. B 25

      ページ: 2481-2485

    • 関連する報告書
      2007 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Point Spread Function for the Calculation of Acid Distribution in Chemically Amplified Resists Used for Electron-Beam Lithography2007

    • 著者名/発表者名
      T. Kozawa and S. Tagawa
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys. 46

    • NAID

      210000063830

    • 関連する報告書
      2007 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Study of Acid-Base Equilibrium in Chemically Amplified Resist2007

    • 著者名/発表者名
      K. Natsuda, T. Kozawa, K. Okamoto, and S. Tagawa
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys. 46

      ページ: 7285-7289

    • NAID

      40015705098

    • 関連する報告書
      2007 実績報告書
    • 査読あり
  • [学会発表] Development Status and Future Prospect of Extreme Ultraviolet Resists2009

    • 著者名/発表者名
      T. Kozawa
    • 学会等名
      International Workshop on EUV Lithography
    • 発表場所
      Honolulu, Hawaii, USA
    • 年月日
      2009-07-16
    • 関連する報告書
      2009 実績報告書 2009 研究成果報告書
  • [学会発表] Effect of molecular structures of acid generators on acid generation in chemically amplified resists upon exposure to 75 keV electron beam2008

    • 著者名/発表者名
      K. Natsuda, T. Kozawa, K. Okamoto, S. Tagawa
    • 学会等名
      21st International Microprocesses and Nanotechnology Conference
    • 発表場所
      Fukuoka, Japan
    • 年月日
      2008-10-28
    • 関連する報告書
      2009 研究成果報告書 2008 実績報告書
  • [学会発表] Nanoscale Distribution of Intermediates in Resist Materials for Next Generation Lithography2007

    • 著者名/発表者名
      T. Kozawa, S. Tagawa
    • 学会等名
      ASR Symposium
    • 発表場所
      茨城県那珂郡東海村
    • 年月日
      2007-11-08
    • 関連する報告書
      2009 研究成果報告書 2007 実績報告書
  • [備考]

    • URL

      http://www.sanken.osaka-u.ac.jp

    • 関連する報告書
      2009 研究成果報告書

URL: 

公開日: 2007-04-01   更新日: 2016-04-21  

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