| 研究課題/領域番号 |
19510114
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
ナノ材料・ナノバイオサイエンス
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| 研究機関 | 東京大学 |
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研究代表者 |
神子 公男 東京大学, 生産技術研究所, 助教 (80334366)
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| 研究期間 (年度) |
2007 – 2008
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| 研究課題ステータス |
完了 (2008年度)
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| 配分額 *注記 |
4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円)
2008年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
2007年度: 3,510千円 (直接経費: 2,700千円、間接経費: 810千円)
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| キーワード | ナノ表面界面 / 結晶成長 / サーファクタント / エピタキシャル / スパッタ蒸着 / 構造制御 / 薄膜・多層膜 / シーディッドエピタキシー / 表面・界面構造 / ナノ構造制御 / 表面・界面物性 / 多層膜 |
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| 研究概要 |
サーファクタントと呼ばれる表面活性剤の一種を用い、金属やセラミックス薄膜(膜厚はnmのオーダー)の成長を意図的に制御することにより、平坦性(二次元性の高い)、結晶性(単一配向に成長)の高い高品質な薄膜やナノスケールの三次元島状成長した(ナノドット構造を持つ)薄膜を作製することに成功した。次に金属/セラミックス薄膜が交互に積層した多層膜を作製し、その物性について検討を行った。
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