グラファイト基板上における金クラスターの拡散機構

• 研究課題/領域番号: 19540328
• 研究種目: 基盤研究(C)
• 配分区分: 補助金
• 応募区分: 一般
• 研究分野: 物性Ⅰ
• 研究機関: 山形大学
• 研究代表者: 高橋 良雄 山形大学, 理学部, 教授 (10113961)
• 研究期間 (年度): 2007 – 2008
• 研究課題ステータス: 完了 (2008年度)
• 配分額: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円); 2008年度: 650千円 (直接経費: 500千円、間接経費: 150千円); 2007年度: 780千円 (直接経費: 600千円、間接経費: 180千円)
• キーワード: 表面・界面物性 / 物性基礎論 / 数理物理学 / 異常拡散 / 金クラスター

研究概要

グラファイト基板面上における金クラスターの拡散係数が極単に大きい機構を調べるため,簡単な模型を設定し,シンプレクティック積分法による分子動力学シミュレーションを行い,実験的知見の本質を記述できることを確かめた.クラスターの並進運動,回転角運動部のスペクトル密度関数を解析し,回転運動は熱平衡状態にあることを見出した.金クラスターの大きな拡散係数は,並進運動に熱源の役割りを果す回転運動が結合し,レヴィー型拡散を起こすためとして理解される