研究課題/領域番号 |
19540410
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研究種目 |
基盤研究(C)
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配分区分 | 補助金 |
応募区分 | 一般 |
研究分野 |
数理物理・物性基礎
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研究機関 | 慶應義塾大学 |
研究代表者 |
斎藤 幸夫 (齋藤 幸夫 / SAITO 幸夫) 慶應義塾大学, 理工学部, 教授 (20162240)
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研究期間 (年度) |
2007 – 2010
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研究課題ステータス |
完了 (2010年度)
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配分額 *注記 |
4,420千円 (直接経費: 3,400千円、間接経費: 1,020千円)
2010年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円)
2009年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
2008年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円)
2007年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円)
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キーワード | 統計物理学 / キラル対称性の自発的破れ / 相互阻害効果 / モンテカルロ・シミュレーション / 反応速度論 / ヘテロエピタキシャル系 / 柱列 / 濡れ / 微細加工基板 / 脱濡れ / 核生成 / キラル結晶成長 / ユピン1イジング模型 / 磨り潰し効果 / ヘテロエピタキシー / 不整合転位 / 弾性格子模型 / ストランスキー・クラスターノフ成長様式 / 核形成 / ヘテロエピタギシー / 異方的二次元島 / 有機薄膜 / ヘテロエピタギシー不整合転位 / 動的スケーリング則 / キラリティ |
研究概要 |
結晶には右手型と左手型の二種類の鏡像対称な形を持つものがある。溶液からこのような結晶を成長させると普通は左右同量できるけれど、磨り潰しながら結晶成長すると、一方の鏡像体結晶だけが生き残るという実験がある。本研究はこの現象を理論的に研究し、右左の鏡像体結晶粒が接近して成長表面を覆い、互いの成長を阻害することによって起きることを解明した。これは、有機分子の右手型と左手型を分離することにも役立ち、生命の右左非対称性の起源の理解に繋がるかもしれない。
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