研究課題
基盤研究(C)
プラズマでフッ化炭素C_8F_<18>分子を分解し電力機器や集積回路の電気絶縁用非晶質フッ化炭素膜を合成した。プラズマ電力が低いと原料分解が進まず分子鎖間の結合が疎な膜ができた。疎膜は従来の高電力で合成した結合が密な膜より耐熱性が低いが低誘電率となり電力損失や電気信号伝達遅延の低減が期待される。また疎膜上に密膜を合成する際の熱による膜の波状化現象を見出した。波状膜下にできる隙間も低誘電率化に有効と期待される。
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電気学会論文誌 Vol. 130-A, No. 4
ページ: 319-324
電気学会論文誌A 130-A
10026225577
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