| 研究課題/領域番号 |
19550080
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
分析化学
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| 研究機関 | 東京工業大学 |
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研究代表者 |
原田 誠 東京工業大学, 大学院・理工学研究科, 助教 (60313326)
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| 研究分担者 |
岡田 哲男 東京工業大学, 大学院・理工学研究科, 教授 (20183030)
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| 研究期間 (年度) |
2007 – 2008
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| 研究課題ステータス |
完了 (2008年度)
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| 配分額 *注記 |
4,420千円 (直接経費: 3,400千円、間接経費: 1,020千円)
2008年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円)
2007年度: 2,990千円 (直接経費: 2,300千円、間接経費: 690千円)
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| キーワード | XAFS / 固液界面 / 気液界面 / 電位規制表面 / 膜吸着 / 熱レンズ |
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| 研究概要 |
水溶液中で起こる物質の変化や電極に対する吸着を、電極電位を規制しながら、XAFS法、および熱レンズ法で吸着量や吸着化学種、およびその吸着構造変化等を観察することを試みた。
導電性のある透明な膜であるITOを蒸着したガラス板とダブプリズムを用いて、ITO電極に印加する電位によって塩化金酸イオンが金コロイドに還元される様子を熱レンズとサイクリックボルタモグラム両面から観測した。また、陽イオン性界面活性膜を用いて溶存イオンの表面膜への吸着挙動を全反射XAFS法によって見積もった。
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