研究課題/領域番号 |
19550119
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研究種目 |
基盤研究(C)
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配分区分 | 補助金 |
応募区分 | 一般 |
研究分野 |
高分子化学
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研究機関 | 東京工業大学 |
研究代表者 |
石津 浩二 東京工業大学, 大学院・理工学研究科, 教授 (90016650)
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研究期間 (年度) |
2007 – 2008
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研究課題ステータス |
完了 (2008年度)
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配分額 *注記 |
4,810千円 (直接経費: 3,700千円、間接経費: 1,110千円)
2008年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円)
2007年度: 3,900千円 (直接経費: 3,000千円、間接経費: 900千円)
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キーワード | 高分子合成 / ハイパーブランチ構造 / 高分子微粒子 / シリカハイブリッド微粒子 / コロイド結晶 / Bragg反射 / 構造色 / リビングラジカル重合 / ハイパーブランチポリマー / ホログラム記録 / メモリーデバイス / コアーシェル微粒子 / フォトニック結晶 |
研究概要 |
19年度はハイパ-ブランチポリマ-を用いた干渉を基本原理とするホログラム記録材料の創製またハイパ-ブランチコア-シェル型の複合微粒子の作製に成功した。20年度はハイパ-ブランチ構造でシリカや高分子粒子を被覆した光反応性カルバメ-ト(DC)基をもつ無機・有機の微粒子(粒径= 150~300nm)を合成し、それらのコロイド結晶を構築することに成功した。これらが発現する構造色についてその反射スペクトルからBragg 反射で理論的に整理できることを明らかにした。
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