| 研究課題/領域番号 |
19550190
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
無機工業材料
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| 研究機関 | 東京農工大学 |
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研究代表者 |
前田 和之 東京農工大学, 大学院・共生科学技術研究院, 准教授 (60343159)
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| 研究期間 (年度) |
2007 – 2008
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| 研究課題ステータス |
完了 (2008年度)
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| 配分額 *注記 |
4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円)
2008年度: 2,210千円 (直接経費: 1,700千円、間接経費: 510千円)
2007年度: 2,470千円 (直接経費: 1,900千円、間接経費: 570千円)
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| キーワード | ナノ材料 / 多孔性材料 / 無機有機ハイブリッド材料 / アルミノホスフェート / 無機工業化学 |
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| 研究概要 |
オルガノシリル基を骨格置換したアルミノホスフェート(ALPO)モレキュラーシーブの合成を目指し、種々のALPO系及びオルガノトリアルコキシシラン添加について検討した。AFI及びAEL系においては、オルガノシリル基を含有する生成物が得られ、細孔の閉塞に伴い吸着容量の減少が見られたのに対し、小細孔のCHA系ではALPO構造が得られなかった。さらに、オルガノシリル基の導入機構について考察を行った。
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