| 研究課題/領域番号 |
19550191
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
無機工業材料
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| 研究機関 | 横浜国立大学 |
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研究代表者 |
吉武 英昭 横浜国立大学, 大学院・工学研究院, 准教授 (20230716)
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| 研究期間 (年度) |
2007 – 2008
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| 研究課題ステータス |
完了 (2008年度)
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| 配分額 *注記 |
4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円)
2008年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
2007年度: 3,510千円 (直接経費: 2,700千円、間接経費: 810千円)
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| キーワード | ハイブリッド材料 / 表面・界面 / 界面活性剤 / シリケート / 吸着 / イオン認識 |
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| 研究概要 |
原子3層の厚さを持ったシリカゲルのシートの全シリコン原子にアミノアルキル基が結合し、上下に「生えている」構造を持つポリシロクサンナノシートを合成し、さまざまな凝集構造に変換した。ポリシロクサンナノシートは非常に高密度なアミノ基をもつ「固い」高分子であり、環境毒性イオンなどに対し高い吸着能を有する。また2次元的に高密度なイオンの吸着が起きるため、近接イオン間相互作用の効果についても検討した。
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