| 研究課題/領域番号 |
19550213
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
高分子・繊維材料
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| 研究機関 | 独立行政法人日本原子力研究開発機構 |
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研究代表者 |
前川 康成 独立行政法人日本原子力研究開発機構, 量子ビーム応用研究部門, 研究主幹 (30354939)
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| 研究分担者 |
陳 進華 独立行政法人日本原子力研究開発機構, 量子ビーム応用研究部門, 研究副主幹 (30370430)
長谷川 伸 独立行政法人日本原子力研究開発機構, 量子ビーム応用研究部門, 研究員 (60354940)
高橋 周一 独立行政法人日本原子力研究開発機構, 量子ビーム応用研究部門, 博士研究員 (80343622)
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| 研究期間 (年度) |
2007 – 2008
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| 研究課題ステータス |
完了 (2008年度)
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| 配分額 *注記 |
3,770千円 (直接経費: 2,900千円、間接経費: 870千円)
2008年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
2007年度: 2,470千円 (直接経費: 1,900千円、間接経費: 570千円)
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| キーワード | 高分子材料合成 / 電解質膜 / 放射線 / グラフト重合 / 高分子変換反応 / 燃料電池 / スルホン化 / アルキルスルホン酸 / 高分子膜 |
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| 研究概要 |
自動車用や家庭用燃料電池に適用可能な高温耐久性とイオン伝導性を併せ持つ高分子電解質膜の合成を目的とし、放射線グラフト重合と生成したグラフト鎖の化学変換を検討することで、カルボン酸や水酸基を有するアルキルスルホン酸やパーフルオロアルキルスルホン酸からなる電解質グラフト鎖を合成できた。水酸基は低加湿条件でのイオン伝導性を向上させること、高温耐久性にはグラフト鎖構造よりも基材膜構造が重要であることを明らかにした。
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