| 研究課題/領域番号 |
19560159
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
流体工学
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| 研究機関 | 東京大学 |
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研究代表者 |
半場 藤弘 東京大学, 生産技術研究所, 教授 (20251473)
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| 研究分担者 |
横井 喜充 東京大学, 生産技術研究所, 助教 (50272513)
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| 連携研究者 |
横井 喜充 東京大学, 生産技術研究所, 助教 (50272513)
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| 研究期間 (年度) |
2007 – 2009
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| 研究課題ステータス |
完了 (2009年度)
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| 配分額 *注記 |
4,160千円 (直接経費: 3,200千円、間接経費: 960千円)
2009年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
2008年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
2007年度: 1,820千円 (直接経費: 1,400千円、間接経費: 420千円)
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| キーワード | 電磁流体 / 乱流 / 乱流モデル / ダイナモ / 雷磁流体 |
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| 研究概要 |
電導性流体には乱流拡散に対抗して大規模な磁場が生成・維持されるダイナモ機構があることが知られている。本研究では電磁流体のチャネル乱流のラージエディーシミュレーションを行いダイナモ効果について考察した。平均磁場や乱流エネルギーなどの統計量を求め、平均磁場が生成されることを示した。さらに乱流起電力の輸送方程式の生成項を調べ、平均磁場の生成の原因がクロスヘリシティー(速度と磁場の相関項)のダイナモ効果であることを示した。
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