研究課題/領域番号 |
19560322
|
研究種目 |
基盤研究(C)
|
配分区分 | 補助金 |
応募区分 | 一般 |
研究分野 |
電子・電気材料工学
|
研究機関 | 神奈川工科大学 |
研究代表者 |
宇野 武彦 神奈川工科大学, 工学部, 教授 (50257408)
|
研究分担者 |
野毛 悟 沼津工業高等専門学校, 電気電子工学科, 准教授 (10221483)
|
研究期間 (年度) |
2007 – 2009
|
研究課題ステータス |
完了 (2009年度)
|
配分額 *注記 |
4,550千円 (直接経費: 3,500千円、間接経費: 1,050千円)
2009年度: 780千円 (直接経費: 600千円、間接経費: 180千円)
2008年度: 1,040千円 (直接経費: 800千円、間接経費: 240千円)
2007年度: 2,730千円 (直接経費: 2,100千円、間接経費: 630千円)
|
キーワード | 機能性薄膜 / ルミネセンス / 誘導放出 / シリカガラス / 光増幅 / 圧電性 / 結晶薄膜 / ニオブ酸リチウム / 高温センサ / 圧電性薄膜 / 薄膜結晶 / 電子線発光 / 温度センサ / ニオブ酸リチウ / 結晶成長 / 圧電定数 / 分極 / シリカ |
研究概要 |
(1)シリカガラスに不純物を周期的に添加した薄膜の可視発光現象について、形成条件と発光スペクトルの関係を求め、400nm付近の短波長帯における光増幅の可能性を確認した。圧電性については水晶に近い定数値が得られたが、1年以上の長期にわたる圧電性の保持は艱難であった。(2)結晶性薄膜のシリカ基板上での結晶方位制御技術を検討し、酸化物単結晶薄膜形成の可能性を明らかにした。再現性改善のため温度センシング技術を開発した。
|