| 研究課題/領域番号 |
19560323
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
電子・電気材料工学
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| 研究機関 | 金沢工業大学 |
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研究代表者 |
作道 訓之 金沢工業大学, 工学部, 教授 (20267719)
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| 研究分担者 |
矢島 善次郎 金沢工業大学, 工学部, 教授 (60148145)
岸 陽一 金沢工業大学, 工学部, 准教授 (70265370)
池永 訓昭 金沢工業大学, ものづくり研究所, 研究員 (30512371)
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| 研究期間 (年度) |
2007 – 2009
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| 研究課題ステータス |
完了 (2009年度)
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| 配分額 *注記 |
4,550千円 (直接経費: 3,500千円、間接経費: 1,050千円)
2009年度: 1,560千円 (直接経費: 1,200千円、間接経費: 360千円)
2008年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
2007年度: 1,690千円 (直接経費: 1,300千円、間接経費: 390千円)
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| キーワード | 質量分析 / フェロイック材料 / 組成制御 / スパッタリング / 形状記憶合金 / プラズマ加工 / 構造・機能材料 / マイクロ・ナノデバイス / スパックリング |
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| 研究概要 |
スパッタリング成膜法はスパッタ源を複数個使用することによって多元素で構成される金属系化合物薄膜も比較的容易に合成できるため、形状記憶合金薄膜などのフェロイック材料の合成にも用いられている。しかし、フェロイック材料薄膜の特異な特性はその材料の組成に大きく影響するため、より高精度な組成制御方法の開発が期待されている。本研究では質量分析法を用いた新しい組成制御法を提案し、1原子%程度でしか制御できなかった従来法に対して0.5原子%で制御できる技術を開発した。
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