| 研究課題/領域番号 |
19560687
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
無機材料・物性
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| 研究機関 | 独立行政法人物質・材料研究機構 |
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研究代表者 |
鈴木 達 独立行政法人物質・材料研究機構, ナノセラミックスセンター, 主幹研究員 (50267407)
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| 研究分担者 |
打越 哲郎 独立行政法人物質・材料研究機構, ナノセラミックスセンター, 主席研究員 (90354216)
奥山 秀男 独立行政法人物質・材料研究機構, ナノセラミックスセンター, 主席エンジニア (80354215)
目 義雄 独立行政法人物質・材料研究機構, ナノセラミックスセンター, センター長 (00354217)
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| 研究期間 (年度) |
2007 – 2008
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| 研究課題ステータス |
完了 (2008年度)
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| 配分額 *注記 |
4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円)
2008年度: 2,210千円 (直接経費: 1,700千円、間接経費: 510千円)
2007年度: 2,470千円 (直接経費: 1,900千円、間接経費: 570千円)
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| キーワード | セラミックス / コロイドプロセス / 強磁場 / 電気泳動堆積 / 結晶配向 / 分散制御 / サスペンション / 配向 / 窒化アルミニウム |
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| 研究概要 |
物質や材料においては、その特性は結晶方向に依存するため、結晶方向を揃える配向は有望な組織制御手法である。本課題においては、回転磁場と電気泳動堆積法(EDP)を用いた結晶配向制御プロセスを構築し、酸化亜鉛と窒化アルミニウムにおいて磁化困難軸であるc軸が配向した圧膜の作製に成功した。また、その配向が劣化する原因については、回転による溶媒の流れとEPDによる電気浸透流であると示唆されることを示した。
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