| 研究課題/領域番号 |
19560710
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
構造・機能材料
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| 研究機関 | 金沢工業大学 |
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研究代表者 |
岸 陽一 金沢工業大学, 工学部, 准教授 (70265370)
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| 研究分担者 |
作道 訓之 金沢工業大学, 工学部, 教授 (20267719)
矢島 善次郎 金沢工業大学, 工学部, 教授 (60148145)
池永 訓昭 金沢工業大学, ものづくり研究所, 研究員 (30512371)
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| 研究期間 (年度) |
2007 – 2009
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| 研究課題ステータス |
完了 (2009年度)
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| 配分額 *注記 |
4,550千円 (直接経費: 3,500千円、間接経費: 1,050千円)
2009年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
2008年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
2007年度: 1,950千円 (直接経費: 1,500千円、間接経費: 450千円)
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| キーワード | インテリジェント材料 / 非平衡相薄膜 / 金属物性 / マルテンサイト変態 / マルテンサイト |
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| 研究概要 |
多元素同時スパッタリング装置に誘導結合プラズマ生成用ループアンテナ及び基板へのパルス状負バイアス印加装置を取り付け,スパッタリング,基板加熱及び基板へのイオン照射が同時に実現できる装置を開発した.イオン照射しない場合は,400℃以下の基板温度では結晶化した薄膜は得られなかった.しかしながら,適切にイオン照射することで,結晶化した薄膜を200℃以下の基板温度で得ることが可能となった.ポリイミド上にTiNi合金薄膜を付与した素子は,良好な二方向形状回復動作を示した.この成果によって,フェロイック材料を低温で積層した素子が実現できると考えている.
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